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Title:
SPATIAL LIGHT MODULATING UNIT, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/078223
Kind Code:
A1
Abstract:
An illumination optical system enabling a desired pupil intensity distribution, for example, by curbing the influence of diffracted light generated from around numerous regularly arranged micro-mirror elements. An illumination optical system (IL) for illuminating a surface (M) to be irradiated with light from a light source (1) comprises a spatial light modulating unit (3) and a distribution forming optical system (4, 5) for forming a predetermined light intensity distribution in an illumination pupil from a light flux which has passed through a spatial light modulator. The spatial light modulating unit (3) includes a spatial light modulator (3a) having two-dimensionally arranged and individually controlled optical elements and an angle varying means for varying the relative angle between a diffracted light generation region where diffracted light is generated around each of the optical elements and light incident on the reflected light generation region.

Inventors:
TANITSU, Osamu (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
Application Number:
JP2008/069997
Publication Date:
June 25, 2009
Filing Date:
November 04, 2008
Export Citation:
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Assignee:
NIKON CORPORATION (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 31, 1008331, JP)
株式会社ニコン (〒31 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo, 1008331, JP)
International Classes:
G02B26/08; G02B19/00; G03F7/20; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
YAMAGUCHI, Takao (Daiichi Bldg, 10 Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-k, Tokyo 48, 1010048, JP)
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Claims:
二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
 前記複数の光学要素の各々の周囲において回折光を発生させる回折光発生領域と該回折光発生領域への入射光との相対的な角度を変化させる角度可変手段とを備えていることを特徴とする空間光変調ユニット。
前記角度可変手段は、前記回折光発生領域の姿勢を変化させる第1可変手段を有することを特徴とする請求項1に記載の空間光変調ユニット。
前記角度可変手段は、前記回折光発生領域への入射光の向きを変化させる第2可変手段を有することを特徴とする請求項1または2に記載の空間光変調ユニット。
前記空間光変調器は、二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的に変化させることを特徴とする請求項4に記載の空間光変調ユニット。
前記角度可変手段による前記相対的な角度変化に応じて前記複数のミラー要素の姿勢を変更するために前記駆動部を制御する制御部をさらに備えていることを特徴とする請求項4または5に記載の空間光変調ユニット。
前記複数のミラー要素の光の入射側に設けられた光学面をさらに備えていることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記第2可変手段は、前記光学面の姿勢を変化させることを特徴とする請求項7に記載の空間光変調ユニット。
前記第2可変手段は、前記光学面へ入射する光の向きを変化させることを特徴とする請求項7または8に記載の空間光変調ユニット。
前記光学面は反射面または屈折面を備えていることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記光学面を有するプリズム部材をさらに備えていることを特徴とする請求項7乃至10のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記複数のミラー要素が配列される面に対向した光学面を有するプリズム部材をさらに備えていることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記第2可変手段は、前記プリズム部材の姿勢を変化させることを特徴とする請求項12に記載の空間光変調ユニット。
前記第2可変手段は、前記プリズム部材へ入射する光の向きを変化させることを特徴とする請求項12または13に記載の空間光変調ユニット。
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
 請求項1乃至14のいずれか1項に記載の空間光変調ユニットと、
 前記空間光変調器を介した光束に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系。
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
 二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素と、該複数の光学要素の各々の周囲において回折光を発生させる回折光発生領域とを有する空間光変調器と、
 前記光源からの光を前記空間光変調器へ導く導光光学系とを備え、
 前記空間光変調器と前記導光光学系の少なくとも一部との少なくとも一方の姿勢は、前記回折光発生領域と前記回折光発生領域への入射光との相対的な角度を変化させるために変更可能であることを特徴とする照明光学系。
前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと空間光変調ユニットとの間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項15または16に記載の照明光学系。
前記複数の光学要素は、前記角度可変手段による前記相対的な角度変化の際に前記照明瞳上の前記所定の光強度分布が静止するように制御されることを特徴とする請求項15乃至17のいずれか1項に記載の照明光学系。
前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項15乃至18のいずれか1項に記載の照明光学系。
所定のパターンを照明するための請求項15乃至19のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
請求項20に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Description:
空間光変調ユニット、照明光学 、露光装置、およびデバイス製造方法

 本発明は、空間光変調ユニット、照明光 系、露光装置、およびデバイス製造方法に する。さらに詳細には、本発明は、半導体 子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘ ド等のデバイスをリソグラフィー工程で製 するための露光装置に好適な照明光学系に するものである。

 この種の典型的な露光装置においては、 源から射出された光束が、オプティカルイ テグレータとしてのフライアイレンズを介 て、多数の光源からなる実質的な面光源と ての二次光源(一般には照明瞳における所定 の光強度分布)を形成する。以下、照明瞳で 光強度分布を、「瞳強度分布」という。ま 、照明瞳とは、照明瞳と被照射面(露光装置 場合にはマスクまたはウェハ)との間の光学 系の作用によって、被照射面が照明瞳のフー リエ変換面となるような位置として定義され る。

 二次光源からの光束は、コンデンサーレ ズにより集光された後、所定のパターンが 成されたマスクを重畳的に照明する。マス を透過した光は投影光学系を介してウェハ に結像し、ウェハ上にはマスクパターンが 影露光(転写)される。マスクに形成された ターンは高集積化されており、この微細パ ーンをウェハ上に正確に転写するにはウェ 上において均一な照度分布を得ることが不 欠である。

 従来、ズーム光学系を用いることなく瞳 度分布(ひいては照明条件)を連続的に変更 ることのできる照明光学系が提案されてい (特許文献1を参照)。特許文献1に開示された 明光学系では、アレイ状に配列され且つ傾 角および傾斜方向が個別に駆動制御される 数の微小なミラー要素により構成された可 マルチミラーを用いて、入射光束を反射面 の微小単位に分割して偏向させることによ 、光束の断面を所望の形状または所望の大 さに変換し、ひいては所望の瞳強度分布を 現している。

特開2002-353105号公報

 特許文献1に記載された照明光学系では、 姿勢が個別に制御される多数の微小なミラー 要素を用いているので、瞳強度分布の形状お よび大きさの変更に関する自由度は高い。し かしながら、規則的に配置された多数のミラ ー要素の間に設けられた格子状のミラー枠か ら発生した回折光が照明瞳面において回折干 渉縞を形成するため、この回折干渉縞の影響 により所望の瞳強度分布を形成することが困 難な場合がある。

 本発明は、前述の課題に鑑みてなされた のであり、例えば規則的に配置された多数 微小なミラー要素の周囲から発生する回折 の影響を抑えて、所望の瞳強度分布を実現 ることのできる照明光学系を提供すること 目的とする。また、本発明は、回折光の影 を抑えて所望の瞳強度分布を実現する照明 学系を用いて、適切な照明条件のもとで良 な露光を行うことのできる露光装置を提供 ることを目的とする。

 前記課題を解決するために、本発明の第1形 態では、二次元的に配列されて個別に制御さ れる複数の光学要素を有する空間光変調器と 、
 前記複数の光学要素の各々の周囲において 折光を発生させる回折光発生領域と該回折 発生領域への入射光との相対的な角度を変 させる角度可変手段とを備えていることを 徴とする空間光変調ユニットを提供する。

 本発明の第2形態では、光源からの光に基づ いて被照射面を照明する照明光学系において 、
 第1形態の空間光変調ユニットと、
 前記空間光変調器を介した光束に基づいて 前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分 を形成する分布形成光学系とを備えている とを特徴とする照明光学系を提供する。

 本発明の第3形態では、光源からの光に基づ いて被照射面を照明する照明光学系において 、
 二次元的に配列されて個別に制御される複 の光学要素と、該複数の光学要素の各々の 囲において回折光を発生させる回折光発生 域とを有する空間光変調器と、
 前記光源からの光を前記空間光変調器へ導 導光光学系とを備え、
 前記空間光変調器と前記導光光学系の少な とも一部との少なくとも一方の姿勢は、前 回折光発生領域と前記回折光発生領域への 射光との相対的な角度を変化させるために 更可能であることを特徴とする照明光学系 提供する。

 本発明の第4形態では、所定のパターンを 照明するための第2形態または第3形態の照明 学系を備え、前記所定のパターンを感光性 板に露光することを特徴とする露光装置を 供する。

 本発明の第5形態では、第4形態の露光装置 用いて、前記所定のパターンを前記感光性 板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光 基板を現像し、前記所定のパターンに対応 る形状のマスク層を前記感光性基板の表面 形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表 を加工する加工工程とを含むことを特徴と るデバイス製造方法を提供する。

 本発明の照明光学系では、空間光変調器 複数の光学要素の各々の周囲において回折 を発生させる回折光発生領域と、この回折 発生領域への入射光との相対的な角度を時 の経過に応じて適宜変化させる。その結果 照明瞳に形成される回折干渉縞の位置が時 の経過に応じて変化し、いわゆる時間的な 均化効果により瞳強度分布に対する回折干 縞の影響が低減される。

 こうして、本発明の照明光学系では、例 ば規則的に配置された多数の微小なミラー 素の周囲の回折光発生領域から発生する回 光の影響を抑えて、所望の瞳強度分布を実 することができる。また、本発明の露光装 では、回折光の影響を抑えて所望の瞳強度 布を実現する照明光学系を用いて、マスク パターン特性に応じて実現された適切な照 条件のもとで良好な露光を行うことができ ひいては良好なデバイスを製造することが きる。

本発明の実施形態にかかる露光装置の 成を概略的に示す図である。 空間光変調ユニットおよびズーム光学 の構成を概略的に示す図である。 空間光変調ユニットが備える空間光変 器の部分斜視図である。 空間光変調器の典型的な構成を模式的 示す断面図である。 本実施形態の第1手法を説明する図であ る。 本実施形態の第2手法を説明する図であ る。 本実施形態の第3手法を説明する図であ る。 本実施形態のKプリズムと同様の機能を 有するプリズム部材の第1の構成例を概略的 示す図である。 本実施形態のKプリズムと同様の機能を 有するプリズム部材の第2の構成例を概略的 示す図である。 本実施形態のKプリズムと同様の機能 有する組立て光学部材の構成例を概略的に す図である。 半導体デバイスの製造工程を示すフロ ーチャートである。 液晶表示素子等の液晶デバイスの製造 工程を示すフローチャートである。

符号の説明

1 光源
2 ビーム送光部
3 空間光変調ユニット
3a 空間光変調器
3b Kプリズム
3c 駆動部
4 ズーム光学系
5 フライアイレンズ
6 コンデンサー光学系
7 照明視野絞り(マスクブラインド)
8 視野絞り結像光学系
IL 照明光学系
CR 制御部
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ

 本発明の実施形態を、添付図面に基づい 説明する。図1は、本発明の実施形態にかか る露光装置の構成を概略的に示す図である。 図1において、感光性基板であるウェハWの法 方向に沿ってZ軸を、ウェハWの露光面内に いて図1の紙面に平行な方向に沿ってX軸を、 ウェハWの露光面内において図1の紙面に垂直 方向に沿ってY軸をそれぞれ設定している。

 図1を参照すると、本実施形態の露光装置 は、装置の光軸AXに沿って、空間光変調ユニ ト3を含む照明光学系ILと、マスクMを支持す るマスクステージMSと、投影光学系PLと、ウ ハWを支持するウェハステージWSとを備えて る。本実施形態の露光装置では、照明光学 ILを介した光源1からの照明光(露光光)を用い てマスクMを照明する。マスクMを透過した光 、投影光学系PLを介して、マスクMのパター の像をウェハW上に形成する。

 光源1からの光に基づいてマスクMのパタ ン面(被照射面)を照明する照明光学系ILは、 間光変調ユニット3の作用により、複数極照 明(2極照明、4極照明など)、輪帯照明等の変 照明を行う。照明光学系ILは、光軸AXに沿っ 光源1側から順に、ビーム送光部2と、空間 変調ユニット3と、ズーム光学系4と、フライ アイレンズ5と、コンデンサー光学系6と、照 視野絞り(マスクブラインド)7と、視野絞り 像光学系8とを備えている。

 空間光変調ユニット3は、ビーム送光部2 介した光源1からの光に基づいて、その遠視 領域(フラウンホーファー回折領域)に所望 光強度分布(瞳強度分布)を形成する。空間光 変調ユニット3の構成および作用については 述する。ビーム送光部2は、光源1からの入射 光束を適切な大きさおよび形状の断面を有す る光束に変換しつつ空間光変調ユニット3へ くとともに、空間光変調ユニット3に入射す 光束の位置変動および角度変動をアクティ に補正する機能を有する。ズーム光学系4は 、空間光変調ユニット3からの光を集光して フライアイレンズ5へ導く。

 フライアイレンズ5は、例えば稠密に配列 された多数のレンズ素子からなる波面分割型 のオプティカルインテグレータである。フラ イアイレンズ5は、入射した光束を波面分割 て、その後側焦点面にレンズ素子と同数の 源像からなる二次光源(実質的な面光源)を形 成する。フライアイレンズ5の入射面は、ズ ム光学系4の後側焦点位置またはその近傍に 置されている。フライアイレンズ5として、 例えばシリンドリカルマイクロフライアイレ ンズを用いることができる。シリンドリカル マイクロフライアイレンズの構成および作用 は、例えば米国特許第6913373号公報に開示さ ている。また、フライアイレンズとして、 えば米国特許第6741394号公報に開示されてい マイクロフライアイレンズを用いることも きる。ここでは、米国特許第6913373号公報お よび米国特許第6741394号公報の教示を参照と て援用する。

 本実施形態では、フライアイレンズ5によ り形成される二次光源を光源として、照明光 学系ILの被照射面に配置されるマスクMをケー ラー照明する。このため、二次光源が形成さ れる位置は投影光学系PLの開口絞りASの位置 光学的に共役であり、二次光源の形成面を 明光学系ILの照明瞳面と呼ぶことができる。 典型的には、照明瞳面に対して被照射面(マ クMが配置される面、または投影光学系PLを めて照明光学系と考える場合にはウェハWが 置される面)が光学的なフーリエ変換面とな る。

 なお、瞳強度分布とは、照明光学系ILの 明瞳面または当該照明瞳面と共役な面にお る光強度分布(輝度分布)である。フライアイ レンズ5による波面分割数が比較的大きい場 、フライアイレンズ5の入射面に形成される 局的な光強度分布と、二次光源全体の大局 な光強度分布(瞳強度分布)とが高い相関を す。このため、フライアイレンズ5の入射面 よび当該入射面と光学的に共役な面におけ 光強度分布についても瞳強度分布と称する とができる。

 コンデンサー光学系6は、フライアイレン ズ5から射出された光を集光して、照明視野 り7を重畳的に照明する。照明視野絞り7から の光は、視野絞り結像光学系8を介して、マ クMのパターン形成領域の少なくとも一部に 明視野絞り7の開口部の像である照明領域を 形成する。なお、図1では、光軸(ひいては光 )を折り曲げるための光路折曲げミラーの設 置を省略しているが、必要に応じて光路折曲 げミラーを照明光路中に適宜配置することが 可能である。

 マスクステージMSにはXY平面(例えば水平 )に沿ってマスクMが載置され、ウェハステー ジWSにはXY平面に沿ってウェハWが載置される 投影光学系PLは、照明光学系ILによってマス クMのパターン面上に形成される照明領域か の光に基づいて、ウェハWの露光面(投影面) にマスクMのパターンの像を形成する。こう て、投影光学系PLの光軸AXと直交する平面(XY 平面)内においてウェハステージWSを二次元的 に駆動制御しながら、ひいてはウェハWを二 元的に駆動制御しながら一括露光またはス ャン露光を行うことにより、ウェハWの各露 領域にはマスクMのパターンが順次露光され る。

 次に、図2および図3を参照して、空間光 調ユニット3の構成および作用を説明する。 2は、空間光変調ユニット3およびズーム光 系4の構成を概略的に示す図である。図3は、 空間光変調ユニット3が備える空間光変調器3a の部分斜視図である。空間光変調ユニット3 、図2に示すように、例えば蛍石のような光 材料により形成されたプリズム3bと、プリ ム3bのYZ平面に平行な側面3baに近接して取り けられた反射型の空間光変調器3aとを備え いる。プリズム3bを形成する光学材料は、蛍 石に限定されることなく、光源1が供給する の波長などに応じて、石英であっても良く の他の光学材料であっても良い。

 プリズム3bは、直方体の1つの側面(空間光 変調器3aが近接して取り付けられる側面3baと 向する側面)をV字状に凹んだ側面3bbおよび3b cと置き換えることにより得られる形態を有 、XZ平面に沿った断面形状に因んでKプリズ とも呼ばれる。プリズム3bのV字状に凹んだ 面3bbおよび3bcは、鈍角をなすように交差す 2つの平面P1およびP2によって規定されている 。2つの平面P1およびP2はともにXZ平面と直交 、XZ平面に沿ってV字状を呈している。

 2つの平面P1とP2との接線(Y方向に延びる直 線)P3で接する2つの側面3bbおよび3bcの内面は 反射面R1およびR2として機能する。すなわち 反射面R1は平面P1上に位置し、反射面R2は平 P2上に位置し、反射面R1とR2とのなす角度は 角である。一例として、反射面R1とR2とのな す角度を120度とし、光軸AXに垂直なプリズム3 bの入射面IPと反射面R1とのなす角度を60度と 、光軸AXに垂直なプリズム3bの射出面OPと反 面R2とのなす角度を60度とすることができる

 プリズム3bでは、空間光変調器3aが近接し て取り付けられる側面3baと光軸AXとが平行で り、且つ反射面R1が光源1側(露光装置の上流 側:図2中左側)に、反射面R2がフライアイレン 5側(露光装置の下流側:図2中右側)に位置し いる。さらに詳細には、反射面R1は光軸AXに して斜設され、反射面R2は接線P3を通り且つ XY平面に平行な面に関して反射面R1とは対称 に光軸AXに対して斜設されている。プリズム 3bの側面3baは、後述するように、空間光変調 3aの複数のミラー要素SEが配列される面に対 向した光学面である。

 プリズム3bの反射面R1は、入射面IPを介し 入射した光を空間光変調器3aに向かって反 する。空間光変調器3aは、反射面R1と反射面R 2との間の光路中に配置され、反射面R1を経て 入射した光を反射する。プリズム3bの反射面R 2は、空間光変調器3aを経て入射した光を反射 し、射出面OPを介してズーム光学系4へ導く。 図2にはプリズム3bを1つの光学ブロックで一 的に形成した例を示しているが、後述する うに複数の光学ブロックを用いてプリズム3b を構成しても良い。

 空間光変調器3aは、反射面R1を経て入射し た光に対して、その入射位置に応じた空間的 な変調を付与して射出する。空間光変調器3a 、図3に示すように、二次元的に配列された 複数の微小なミラー要素(光学要素)SEを備え いる。説明および図示を簡単にするために 図2および図3では空間光変調器3aが4×4=16個の ミラー要素SEを備える構成例を示しているが 実際には16個よりもはるかに多数のミラー 素SEを備えている。

 図2を参照すると、光軸AXと平行な方向に って空間光変調ユニット3に入射する光線群 のうち、光線L1は複数のミラー要素SEのうち ミラー要素SEaに、光線L2はミラー要素SEaとは 異なるミラー要素SEbにそれぞれ入射する。同 様に、光線L3はミラー要素SEa,SEbとは異なるミ ラー要素SEcに、光線L4はミラー要素SEa~SEcとは 異なるミラー要素SEdにそれぞれ入射する。ミ ラー要素SEa~SEdは、その位置に応じて設定さ た空間的な変調を光L1~L4に与える。

 空間光変調ユニット3では、空間光変調器 3aのすべてのミラー要素SEの反射面がYZ平面に 平行に設定された基準状態において、光軸AX 平行な方向に沿って反射面R1へ入射した光 が、空間光変調器3aを経た後に、反射面R2に り光軸AXと平行な方向に向かって反射され ように構成されている。また、空間光変調 ニット3は、プリズム3bの入射面IPからミラー 要素SEa~SEdを経て射出面OPまでの空気換算長と 、プリズム3bが光路中に配置されていないと の入射面IPに相当する位置から射出面OPに相 当する位置までの空気換算長とが等しくなる ように構成されている。ここで、空気換算長 とは、光学系中の光路長を屈折率1の空気中 光路長に換算したものであり、屈折率nの媒 中の空気換算長は、その光路長に1/nを乗じ ものである。

 空間光変調器3aは、ズーム光学系4の前側 点位置またはその近傍に配置されている。 間光変調器3aの複数のミラー要素SEa~SEdによ て反射されて所定の角度分布が与えられた は、ズーム光学系4の後側焦点面4aに所定の 強度分布SP1~SP4を形成する。すなわち、ズー ム光学系4は、空間光変調器3aの複数のミラー 要素SEa~SEdが射出光に与える角度を、空間光 調器3aの遠視野領域(フラウンホーファー回 領域)である面4a上での位置に変換している

 再び図1を参照すると、集光光学系として 機能するズーム光学系4の後側焦点面4aの位置 またはその近傍に、フライアイレンズ5の入 面が位置決めされている。したがって、フ イアイレンズ5が形成する二次光源の光強度 布(輝度分布)は、空間光変調器3aおよびズー ム光学系4が形成する光強度分布SP1~SP4に応じ 分布となる。空間光変調器3aは、図3に示す うに、平面形状の反射面を上面にした状態 1つの平面に沿って規則的に且つ二次元的に 配列された多数の微小な反射素子であるミラ ー要素SEを含む可動マルチミラーである。

 各ミラー要素SEは可動であり、その反射 の傾き、すなわち反射面の傾斜角および傾 方向は、制御部CR(図3では不図示)からの指令 にしたがって作動する駆動部3c(図3では不図 )の作用により独立に制御される。各ミラー 素SEは、その反射面に平行な二方向であっ 互いに直交する二方向(Y方向およびZ方向)を 転軸として、所望の回転角度だけ連続的或 は離散的に回転することができる。すなわ 、各ミラー要素SEの反射面の傾斜を二次元 に制御することが可能である。

 なお、各ミラー要素SEの反射面を離散的 回転させる場合、回転角を複数の状態(例え 、・・・、-2.5度、-2.0度、・・・0度、+0.5度 ・・・+2.5度、・・・)で切り換え制御するの 良い。図3には外形が正方形状のミラー要素 SEを示しているが、ミラー要素SEの外形形状 正方形に限定されない。ただし、光利用効 の観点から、ミラー要素SEの隙間が少なくな るように配列可能な形状(最密充填可能な形 )としても良い。また、光利用効率の観点か 、隣り合う2つの要素ミラーSEの間隔を必要 小限に抑えても良い。

 本実施形態では、空間光変調器3aとして 二次元的に配列された複数のミラー要素SEの 向きを連続的に(または離散的に)それぞれ変 させる空間光変調器を用いている。このよ な空間光変調器として、たとえば特表平10-5 03300号公報およびこれに対応する欧州特許公 第779530号公報、特開2004-78136号公報およびこ れに対応する米国特許第6,900,915号公報、特表 2006-524349号公報およびこれに対応する米国特 第7,095,546号公報、並びに特開2006-113437号公 に開示される空間光変調器を用いることが きる。ここでは、欧州特許公開第779530号公 、米国特許第6,900,915号公報、および米国特 第7,095,546号公報の教示を参照として援用す 。

 空間光変調器3aでは、制御部CRからの制御 信号に応じて作動する駆動部3cの作用により 複数のミラー要素SEの姿勢がそれぞれ変化 、各ミラー要素SEがそれぞれ所定の向きに設 定される。空間光変調器3aの複数のミラー要 SEによりそれぞれ所定の角度で反射された は、ズーム光学系4を介して、フライアイレ ズ5の後側焦点位置またはその近傍の照明瞳 に、複数極状(2極状、4極状など)、輪帯状等 光強度分布(瞳強度分布)を形成する。この瞳 強度分布は、ズーム光学系4の作用により、 似的に(等方的に)変化する。

 すなわち、ズーム光学系4およびフライア イレンズ5は、空間光変調ユニット3中の空間 変調器3aを介した光束に基づいて、照明光 系ILの照明瞳に所定の光強度分布を形成する 分布形成光学系を構成している。さらに、フ ライアイレンズ5の後側焦点位置またはその 傍の照明瞳と光学的に共役な別の照明瞳位 、すなわち視野絞り結像光学系8の瞳位置お び投影光学系PLの瞳位置(開口絞りASの位置) も、瞳強度分布に対応する光強度分布が形 される。

 露光装置では、マスクMのパターンをウェ ハWに高精度に且つ忠実に転写するために、 えばマスクMのパターン特性に応じた適切な 明条件のもとで露光を行うことが重要であ 。本実施形態では、複数のミラー要素SEの 勢がそれぞれ個別に変化する空間光変調器3a を備えた空間光変調ユニット3を用いている で、空間光変調器3aの作用により形成される 瞳強度分布を自在に且つ迅速に変化させるこ とができる。

 しかしながら、空間光変調器3aを用いる 実施形態の照明光学系ILでは、後述するよう に、規則的に配置された複数のミラー要素SE 間に設けられた格子状のミラー枠の上面か 発生した回折光が照明瞳面において回折干 縞を形成する。その結果、この回折干渉縞 影響により、所望の瞳強度分布を形成する とが困難な場合がある。以下、図4を参照し て、回折干渉縞の発生および影響を説明する 。

 図4は、空間光変調器の典型的な構成を模 式的に示す断面図である。図4に示すように 空間光変調器3aの典型的な構成例では、複数 のミラー要素SEがヒンジ(不図示)を介して基 BA上に取り付けられ、複数のミラー要素SEの にはミラー枠FRが設けられている。ミラー 素SEは、例えば正方形状の微小な反射面を有 し、規則的に配置されている。したがって、 ミラー要素SEの間に設けられたミラー枠FRの 面(図4中上側の面)は、例えば全体として格 状の形態を有することになる。

 この場合、ミラー枠FRの規則的に配置され 微小な上面に光L41(図中実線で示す)が入射す ると、ミラー枠FRの上面から反射回折光L42(図 中破線で示す)が発生する。なお、図4では、 の簡略化のために、左端のミラー枠FRの上 への入射光41だけを示しているが、入射光41 実際には空間光変調器3aの全体に同じ角度 入射している。このとき、ミラー要素SEのピ ッチPと、光の波長λと、ミラー枠FRの上面へ 光L41の入射角θ 0 と、ミラー枠FRの上面からのN次回折光の回折 角θ N との間には、次の式(1)に示す関係が成立する 。
sinθ N -sinθ 0 =N×λ/P    (1)

 このように、本実施形態の照明光学系IL は、複数のミラー要素SEにより反射された所 要光が照明瞳に形成する本来の光強度分布と 、ミラー枠FRの上面から発生した不要光とし の回折光が照明瞳に形成する光強度分布(回 折干渉縞)とからなる瞳強度分布が得られる 換言すれば、本実施形態の照明光学系ILでは 、特段の策を講じない限り、ミラー枠FRの上 からの回折光により形成される回折干渉縞 分だけ所望の瞳強度分布を得ることができ い。

 図4に示す構成例では複数のミラー要素SE 間にミラー枠FRが設けられ、ミラー枠FRの上 面が複数のミラー要素SEの各々の周囲におい 回折光を発生させる回折光発生領域を構成 ている。なお、ミラー枠を設けない構成例 おいても、複数のミラー要素SEの微小な格 状の隙間から基盤の表面に達した光が回折 を発生させ、ひいては照明瞳に回折干渉縞 形成する。この場合、複数のミラー要素SEの 微小な隙間に対応する格子状の基盤表面領域 が、複数のミラー要素SEの各々の周囲におい 回折光を発生させる回折光発生領域を構成 ることになる。

 本実施形態では、空間光変調器3aの各ミ ー要素SEの周囲において回折光を発生させる 回折光発生領域(図4ではミラー枠FRの上面)と この回折光発生領域への入射光(図4では光L4 1)との相対的な角度を時間の経過に応じて適 変化させる。その結果、本実施形態では、 明瞳に形成される回折干渉縞の位置が時間 経過に応じて変化し、いわゆる時間的な平 化効果により瞳強度分布に対する回折干渉 の影響が低減され、ひいては所望の瞳強度 布を実現することができる。

 こうして、本実施形態の照明光学系ILで 、空間光変調器3aにおいて規則的に配置され た多数の微小なミラー要素SEの周囲の回折光 生領域から発生する回折光の影響を抑えて 所望の瞳強度分布を実現することができる また、本実施形態の露光装置(3~WS)では、回 光の影響を抑えて所望の瞳強度分布を実現 る照明光学系ILを用いて、マスクMのパター 特性に応じて実現された適切な照明条件の とで良好な露光を行うことができる。

 具体的に、本実施形態の第1手法では、図 5に示すように、制御部CRからの制御信号に応 じて作動する第1可変部3dの作用により、空間 光変調器3a全体の姿勢を、ひいては回折光発 領域の姿勢を時間の経過に応じて変化させ 。第1可変部3dとして、例えば空間光変調器3 aとプリズム3bの側面3baとの間において有効光 束が通過しない領域に取り付けられた駆動素 子(ピエゾ素子など)を用いることができる。

 空間光変調器3a全体の姿勢が変化すると ミラー枠FRの上面の向き、基盤BAの表面の向 、および各ミラー要素SEの反射面の向きも 様に変化する。一方、空間光変調器3aへの入 射光Liの向きは、空間光変調器3a全体の姿勢 変化しても不変である。なお、図5では、図 簡略化のために、左端のミラー枠FRの上面 の入射光Liだけを示しているが、入射光Liは 際には空間光変調器3aの全体に同じ角度で 射している。したがって、ミラー枠FRの上面 (または基盤BAの表面)の回折光発生領域から 生する不要光としての回折光Ldの向きは、空 間光変調器3a全体の姿勢の変化に伴って変動 る。

 同様に、駆動部3cにより各ミラー要素SEの 姿勢を積極的に変化させない限り、各ミラー 要素SEからの反射光Lrの向きも、空間光変調 3a全体の姿勢の変化に伴って変動する。その 結果、回折光発生領域からの回折光Ldにより 明瞳に形成される回折干渉縞の位置が時間 経過に応じて変動するとともに、各ミラー 素SEでの反射光Lrによって照明瞳に形成され る光強度分布(本来必要とする瞳強度分布)の 置も時間の経過に応じて変動する。

 本実施形態の露光装置において、例えば キシマレーザ光源のようにパルス光を供給 るレーザ光源を用いる場合に、照明瞳での 折干渉縞の位置変動による所要の平均化効 を得るには、1回の一括露光に要するパルス 数すなわち露光パルス数の光照射の間に、空 間光変調器3a全体を例えば所要の角度範囲に って往復傾斜させても良い。あるいは、露 パルス数の光照射の間に、空間光変調器3a 体を例えば所要の角度範囲に亘って片道傾 させても良い。

 また、スキャン露光を適用する際には、 ェハW上の1点当たりに照射すべき最小露光 ルス数Nminの光照射の間に、空間光変調器3a 体を例えば所要の角度範囲に亘って往復傾 させるか、最小露光パルス数Nminの光照射の に、空間光変調器3a全体を例えば所要の角 範囲に亘って片道傾斜させても良い。なお 最小露光パルス数Nminとは、露光量制御を再 するに必要最低限のパルス数であり、例え 予め計測された装置定数としてのパルスエ ルギーのばらつき(3δの値)δHと平均パルス ネルギー密度Hとの比δH/Hに基づいて求めら る。すなわち、最小露光パルス数Nminは積算 光量のばらつきを所定の許容値以内に抑え ために必要なパルス数である。

 従って、典型的にはウェハW上の走査露光 範囲(ショット領域)内の各点にNパルスずつ照 明光ILが照射される。なお、N≧Nminであれば その走査露光範囲での積算光量が各点でほ 等しくなり、特に非走査方向であっても走 露光範囲での積算光量分布がほぼ均一にな 、即ちその積算光量むらが所定の許容値以 に抑えられる。但し、N≧Nminを満足するNパ スの照射光ILを走査露光範囲の各点に照射し ても、非走査方向の積算光量分布が均一化さ れないときは、積算光量のばらつきを所定の 許容値以内に抑えるに必要なパルス数だけで よく、非走査方向の積算光量分布を均一化す るのに必要なパルス数をも考慮して、最小露 光パルス数Nminを決定しておいても良い。

 上述したように、空間光変調器3a全体の 勢の変化に同期して、各ミラー要素SEでの反 射光Lrが照明瞳に形成する光強度分布の位置 変動するが、反射光Lrによる本来の光強度 布の位置変動が許容範囲内であれば、空間 変調器3a全体の姿勢を変化させても駆動部3c よる各ミラー要素SEの姿勢の調整を行う必 はない。この場合、反射光Lrによる本来の光 強度分布の位置変動と同様に回折光Ldによる 折干渉縞の位置変動が僅かであっても、瞳 度分布に対する回折干渉縞の悪影響は低減 れる。

 一方、各ミラー要素SEでの反射光Lrが照明 瞳に形成する光強度分布の位置変動が許容範 囲を超えている場合、空間光変調器3a全体の 勢の変化に応じて、駆動部3cにより各ミラ 要素SEの姿勢を調整する必要がある。この場 合、図5に示すように、空間光変調器3a全体の 姿勢が変化しても、入射光Liと各ミラー要素S Eの反射面との相対的な角度(ひいては各ミラ 要素SEからの反射光Lrの向き)が常に一定に たれるように、各ミラー要素SEの姿勢を個別 に調整すれば良い。換言すれば、空間光変調 器3a全体の姿勢が変化しても、空間光変調器3 aの外の空間軸に対して各ミラー要素SEの反射 面が一定の角度を保つように各ミラー要素SE 姿勢を個別に調整することにより、反射光L rによる本来の光強度分布の位置を変動させ ことなく、回折光Ldによる回折干渉縞の位置 だけを変動させることができる。

 あるいは、入射光Liと各ミラー要素SEの反 射面との相対的な角度(ひいては各ミラー要 SEからの反射光Lrの向き)を一定に保たなくて も、各ミラー要素SEからの反射光Lrが照明瞳 形成する光強度分布がほとんど変動しない うに、パルス毎に各ミラー要素SEの姿勢を所 要の姿勢に切り換える調整も可能である。換 言すれば、空間光変調器3aの外の空間軸に対 て各ミラー要素SEの反射面を一定の角度に たなくても、反射光Lrによる本来の光強度分 布が静止するようにパルス毎に各ミラー要素 SEの姿勢を個別に調整することにより、回折 Ldによる回折干渉縞の位置だけを変動させ ことができる。

 本実施形態の第2手法では、図6に示すよ に、制御部CRからの制御信号に応じて作動す る第2可変部3eの作用により、反射面および屈 折面を持つプリズム3bの姿勢を、ひいては回 光発生領域への入射光Liの向きを時間の経 に応じて変化させる。第2可変部3eとして、 えばプリズム3bに取り付けられた駆動素子( エゾ素子など)を用いることができる。プリ ム3bの姿勢が変化すると、空間光変調器3aへ の入射光Liの向きが変化する。一方、ミラー FRの上面の向き、基盤BAの表面の向き、およ び各ミラー要素SEの反射面の向きは、プリズ 3bの姿勢が変化しても不変である。

 したがって、ミラー枠FRの上面(または基 BAの表面)の回折光発生領域から発生する不 光としての回折光Ldの向きおよび各ミラー 素SEからの反射光Lrの向きは、プリズム3bの 勢の変化に伴って変動する。その結果、回 光Ldによって照明瞳に形成される回折干渉縞 の位置および反射光Lrによって照明瞳に形成 れる光強度分布の位置は時間の経過に応じ 変動する。

 各ミラー要素SEからの反射光Lrによる光強 度分布の位置変動が許容範囲内であれば、プ リズム3bの姿勢を変化させても駆動部3cによ 各ミラー要素SEの姿勢の調整を行う必要はな い。一方、各ミラー要素SEでの反射光Lrが照 瞳に形成する光強度分布の位置変動が許容 囲を超えている場合、プリズム3bの姿勢の変 化に応じて、駆動部3cにより各ミラー要素SE 姿勢を個別に調整する必要がある。この場 、各ミラー要素SEの姿勢の調整は、第1の手 における調整と同様である。なお、プリズ 3bの反射面または屈折面は光学面とみなすこ とができる。この第2手法では、プリズム3bを 導光光学系と見なすことができ、プリズム3b 反射面を導光光学系の一部とみなすことが きる。

 上述の第2手法では、プリズム3bの姿勢を 化させることにより回折光発生領域への入 光Liの向きを変化させている。しかしなが 、これに限定されることなく、例えば図7に す第3手法のように、プリズム3bへ入射する の向きを変化させることにより回折光発生 域への入射光Liの向きを変化させることも きる。具体的に、本実施形態の第3手法では 制御部CRからの制御信号に応じて作動する 3可変部11aの作用により、例えばプリズム3b 入射側に配置されて所定の角度をなす2つの 面(屈折面)を持つ偏角プリズム11を光軸AX廻 に回転させる。この偏角プリズム11の屈折 は光学面とみなすことができる。この第3手 においては、偏角プリズム11を導光光学系 一部とみなすことができる。

 こうして、光軸AX廻りに回転する偏角プ ズム11の作用により、プリズム3bへ入射する の向きが、ひいては回折光発生領域への入 光Liの向きが時間の経過に応じて変化する 図7では、プリズム3bへ入射する光の向きを 化させる手段として光軸AX廻りに回転する偏 角プリズム11を例示しているが、例えばプリ ム3bの前側に配置された光路折曲げ用の平 ミラーを振動させることによりプリズム3bへ 入射する光の向きを変化させることもできる 。

 なお、上述の説明では、空間光変調器3a 複数のミラー要素が配列される面に対向し 光学面を有するプリズム部材として、1つの 学ブロックで一体的に形成されたKプリズム 3bを用いている。しかしながら、これに限定 れることなく、例えば図8に示すような一対 のプリズム31と32とにより、Kプリズム3bと同 の機能を有するプリズム部材を構成するこ ができる。この場合、プリズム31と32との接 面を光が通るため、接触面の研磨が必要で る。場合によっては、プリズム31と32との間 でオプチカルコンタクトが必要になる。

 また、例えば図9に示すような平行平面板 33と一対の三角プリズム34および35とにより、 Kプリズム3bと同様の機能を有するプリズム部 材を構成することができる。三角プリズム34 35とは互いに接触しないため、三角プリズ 34と35との間にオプチカルコンタクトは不要 ある。平行平面板33と三角プリズム34および 35とは互いに接触していても良いし、間隔を てていても良い。平行平面板33は空間光変 器3aのカバーガラスの機能も果たすので、空 間光変調器3aの寿命後の交換時には、平行平 板33および空間光変調器3aを交換するだけで 三角プリズム34および35を交換する必要はな 。

 また、例えば図10に示すような平行平面 36と一対の平面ミラー37および38とにより、K リズム3bと同様の機能を有する組立て光学 材を構成することができる。図10の構成は、 図9における三角プリズム34および35を平面ミ ー37および38で置き換えたものである。この 場合、図9の構成例と同様に、空間光変調器3a の寿命後の交換時には、平行平面板36および 間光変調器3aを交換するだけで平面ミラー37 および38を交換する必要はない。また、図9の 構成例に比して、平面ミラー37から平行平面 36へ入射する光の屈折分だけ、空間光変調 3aへ入射する光の角度を小さくすることがで きる。

 この図10の構成例において、上述の第2手 を適用する場合には、空間光変調器3aの入 側に位置する平面ミラー37の姿勢を変化させ ればよい。なお、平面ミラー37および38の姿 を一体的に変化させる構成であってもよい これら平面ミラー37および38の反射面は光学 とみなすことができる。また、この平面ミ ー37を導光光学系の一部とみなすことがで る。

 また、上述の説明では、二次元的に配列 れて個別に制御される複数の光学要素を有 る空間光変調器として、二次元的に配列さ た複数の反射面の向き(角度:傾き)を個別に 御可能な空間光変調器を用いている。しか ながら、これに限定されることなく、たと ば二次元的に配列された複数の反射面の高 (位置)を個別に制御可能な空間光変調器を いることもできる。このような空間光変調 としては、たとえば特開平6-281869号公報及び これに対応する米国特許第5,312,513号公報、並 びに特表2004-520618号公報およびこれに対応す 米国特許第6,885,493号公報の図1dに開示され 空間光変調器を用いることができる。これ の空間光変調器では、二次元的な高さ分布 形成することで回折面と同様の作用を入射 に与えることができる。なお、上述した二 元的に配列された複数の反射面を持つ空間 変調器を、たとえば特表2006-513442号公報およ びこれに対応する米国特許第6,891,655号公報や 、特表2005-524112号公報およびこれに対応する 国特許公開第2005/0095749号公報の開示に従っ 変形しても良い。

 また、上述の説明では、複数のミラー要 を有する反射型の空間光変調器を用いてい が、これに限定されることなく、たとえば 国特許第5,229,872号公報に開示される透過型 空間光変調器を用いても良い。ここでは、 国特許第5,312,513号公報、米国特許第6,885,493 公報、米国特許第6,891,655号、米国特許公開 2005/0095749号公報、および米国特許第5,229,872 公報の教示を参照として援用する。

 なお、上述の実施形態では、空間光変調 ニットを用いて瞳強度分布を形成する際に 瞳輝度分布計測装置で瞳強度分布を計測し つ、この計測結果に応じて空間光変調ユニ ト中の空間光変調器を制御してもよい。こ ような技術は、たとえば特開2006-54328号公報 や特開2003-22967号公報およびこれに対応する 国特許公開第2003/0038225号公報に開示されて る。ここでは、米国特許公開第2003/0038225号 報の教示を参照として援用する。

 また、上述の実施形態では、マスクの代 りに、所定の電子データに基づいて所定パ ーンを形成する可変パターン形成装置を用 ることができる。このような可変パターン 成装置を用いれば、パターン面が縦置きで 同期精度に及ぼす影響を最低限にできる。 お、可変パターン形成装置としては、たと ば所定の電子データに基づいて駆動される 数の反射素子を含むDMD(デジタル・マイクロ ミラー・デバイス)を用いることができる。DM Dを用いた露光装置は、例えば特開2004-304135号 公報、国際特許公開第2006/080285号パンフレッ およびこれに対応する米国特許公開第2007/02 96936号公報に開示されている。また、DMDのよ な非発光型の反射型空間光変調器以外に、 過型空間光変調器を用いても良く、自発光 の画像表示素子を用いても良い。なお、パ ーン面が横置きの場合であっても可変パタ ン形成装置を用いても良い。ここでは、米 特許公開第2007/0296936号公報の教示を参照と て援用する。

 なお、上述の実施形態では、オプティカ インテグレータとして、フライアイレンズ5 を用いているが、その代わりに、内面反射型 のオプティカルインテグレータ(典型的には ッド型インテグレータ)を用いても良い。こ 場合、ズーム光学系4の後側にその前側焦点 位置がズーム光学系4の後側焦点位置と一致 るように集光レンズを配置し、この集光レ ズの後側焦点位置またはその近傍に入射端 位置決めされるようにロッド型インテグレ タを配置する。このとき、ロッド型インテ レータの射出端が照明視野絞り7の位置にな 。ロッド型インテグレータを用いる場合、 のロッド型インテグレータの下流の視野絞 結像光学系8内の、投影光学系PLの開口絞りA Sの位置と光学的に共役な位置を照明瞳面と ぶことができる。また、ロッド型インテグ ータの入射面の位置には、照明瞳面の二次 源の虚像が形成されることになるため、こ 位置およびこの位置と光学的に共役な位置 照明瞳面と呼ぶことができる。ここで、ズ ム光学系4と上記の集光レンズとを、オプテ カルインテグレータと空間光変調器との間 光路中に配置された集光光学系とみなすこ ができ、ズーム光学系4、上記の集光レンズ およびロッド型インテグレータを分布形成光 学系とみなすことができる。

 上述の実施形態の露光装置は、本願特許 求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各 サブシステムを、所定の機械的精度、電気 精度、光学的精度を保つように、組み立て ことで製造される。これら各種精度を確保 るために、この組み立ての前後には、各種 学系については光学的精度を達成するため 調整、各種機械系については機械的精度を 成するための調整、各種電気系については 気的精度を達成するための調整が行われる 各種サブシステムから露光装置への組み立 工程は、各種サブシステム相互の、機械的 続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管 続等が含まれる。この各種サブシステムか 露光装置への組み立て工程の前に、各サブ ステム個々の組み立て工程があることはい までもない。各種サブシステムの露光装置 の組み立て工程が終了したら、総合調整が われ、露光装置全体としての各種精度が確 される。なお、露光装置の製造は温度およ クリーン度等が管理されたクリーンルーム 行っても良い。

 次に、上述の実施形態にかかる露光装置 用いたデバイス製造方法について説明する 図11は、半導体デバイスの製造工程を示す ローチャートである。図11に示すように、半 導体デバイスの製造工程では、半導体デバイ スの基板となるウェハWに金属膜を蒸着し(ス ップS40)、この蒸着した金属膜上に感光性材 料であるフォトレジストを塗布する(ステッ S42)。つづいて、上述の実施形態の投影露光 置を用い、マスク(レチクル)Mに形成された ターンをウェハW上の各ショット領域に転写 し(ステップS44:露光工程)、この転写が終了し たウェハWの現像、つまりパターンが転写さ たフォトレジストの現像を行う(ステップS46: 現像工程)。その後、ステップS46によってウ ハWの表面に生成されたレジストパターンを スクとし、ウェハWの表面に対してエッチン グ等の加工を行う(ステップS48:加工工程)。

 ここで、レジストパターンとは、上述の 施形態の投影露光装置によって転写された ターンに対応する形状の凹凸が生成された ォトレジスト層であって、その凹部がフォ レジスト層を貫通しているものである。ス ップS48では、このレジストパターンを介し ウェハWの表面の加工を行う。ステップS48で 行われる加工には、例えばウェハWの表面の ッチングまたは金属膜等の成膜の少なくと 一方が含まれる。なお、ステップS44では、 述の実施形態の投影露光装置は、フォトレ ストが塗布されたウェハWを、感光性基板つ りプレートPとしてパターンの転写を行う。

 図12は、液晶表示素子等の液晶デバイス 製造工程を示すフローチャートである。図12 に示すように、液晶デバイスの製造工程では 、パターン形成工程(ステップS50)、カラーフ ルタ形成工程(ステップS52)、セル組立工程( テップS54)およびモジュール組立工程(ステ プS56)を順次行う。

 ステップS50のパターン形成工程では、プ ートPとしてフォトレジストが塗布されたガ ラス基板上に、上述の実施形態の投影露光装 置を用いて回路パターンおよび電極パターン 等の所定のパターンを形成する。このパター ン形成工程には、上述の実施形態の投影露光 装置を用いてフォトレジスト層にパターンを 転写する露光工程と、パターンが転写された プレートPの現像、つまりガラス基板上のフ トレジスト層の現像を行い、パターンに対 する形状のフォトレジスト層を生成する現 工程と、この現像されたフォトレジスト層 介してガラス基板の表面を加工する加工工 とが含まれている。

 ステップS52のカラーフィルタ形成工程で 、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応する3つのドッ トの組をマトリックス状に多数配列するか、 またはR、G、Bの3本のストライプのフィルタ 組を水平走査方向に複数配列したカラーフ ルタを形成する。

 ステップS54のセル組立工程では、ステッ S50によって所定パターンが形成されたガラ 基板と、ステップS52によって形成されたカ ーフィルタとを用いて液晶パネル(液晶セル )を組み立てる。具体的には、例えばガラス 板とカラーフィルタとの間に液晶を注入す ことで液晶パネルを形成する。ステップS56 モジュール組立工程では、ステップS54によ て組み立てられた液晶パネルに対し、この 晶パネルの表示動作を行わせる電気回路お びバックライト等の各種部品を取り付ける

 また、本発明は、半導体デバイス製造用 露光装置への適用に限定されることなく、 えば、角型のガラスプレートに形成される 晶表示素子、若しくはプラズマディスプレ 等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮 素子(CCD等)、マイクロマシーン、薄膜磁気 ッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製 するための露光装置にも広く適用できる。 に、本発明は、各種デバイスのマスクパタ ンが形成されたマスク(フォトマスク、レチ ル等)をフォトリソグラフィ工程を用いて製 造する際の、露光工程(露光装置)にも適用す ことができる。

 なお、上述の実施形態では、露光光としてA rFエキシマレーザ光(波長:193nm)やKrFエキシマ ーザ光(波長:248nm)を用いることができる。ま た、これに限定されることなく、他の適当な レーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を 給するF 2 レーザ光源などを用いることもできる。

 また、上述の実施形態において、投影光 系と感光性基板との間の光路中を1.1よりも きな屈折率を有する媒体(典型的には液体) 満たす手法、所謂液浸法を適用しても良い この場合、投影光学系と感光性基板との間 光路中に液体を満たす手法としては、国際 開第WO99/49504号パンフレットに開示されてい ような局所的に液体を満たす手法や、特開 6-124873号公報に開示されているような露光 象の基板を保持したステージを液槽の中で 動させる手法や、特開平10-303114号公報に開 されているようなステージ上に所定深さの 体槽を形成し、その中に基板を保持する手 などを採用することができる。ここでは、 際公開第WO99/49504号パンフレット、特開平6-12 4873号公報および特開平10-303114号公報の教示 参照として援用する。

 また、上述の実施形態において、米国特 公開第2006/0170901号公報及び米国特許公開第2 007/0146676号公報に開示されるいわゆる偏光照 方法を適用することも可能である。ここで 、米国特許公開第2006/0170901号公報及び米国 許公開第2007/0146676号公報の教示を参照とし 援用する。

 また、上述の実施形態では、露光装置に いてマスクを照明する照明光学系に対して 発明を適用しているが、これに限定される となく、マスク以外の被照射面を照明する 般的な照明光学系に対して本発明を適用す こともできる。