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Title:
SPATIAL LIGHT MODULATING UNIT, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/125511
Kind Code:
A1
Abstract:
An illumination optical system for illuminating a surface to be irradiated with light from a light source. The illumination optical system comprises a distribution forming optical system for forming a predetermined light intensity distribution in an illumination pupil from a light flux which has passed through a spatial light modulator having two-dimensionally arranged and individually controlled optical elements. The problem that the formation of a desired pupil intensity distribution becomes difficult because of the arrival of specular reflected light from portions other than the optical elements of the spatial light modulator at the illumination pupil is avoided by the following construction. An entrance-side optical system for guiding light to the optical elements and an exit-side optical system for guiding the light which has passed through the optical elements are so constructed by a first deflection member and a second deflection member, respectively, that the specular reflected light travels outside a reflecting surface of the second deflection member.

Inventors:
TANAKA, Hirohisa (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 10083, JP)
Application Number:
JP2008/069999
Publication Date:
October 15, 2009
Filing Date:
November 04, 2008
Export Citation:
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Assignee:
NIKON CORPORATION (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 31, 10083, JP)
株式会社ニコン (〒31 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo, 10083, JP)
International Classes:
G02B26/08; G02B19/00; G03F7/20; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
YAMAGUCHI, Takao (Daiichi Bldg, 10 Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-k, Tokyo 48, 10100, JP)
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Claims:
二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
 前記空間光変調器の前記複数の光学要素を経た光を導く射出側光学系とを備え、
 前記射出側光学系は、前記複数の光学要素以外の面部分であって前記複数の光学要素の配列される配列面とほぼ平行な面部分を経た0次光が前記射出側光学系の入射瞳を通過しないように構成されていることを特徴とする空間光変調ユニット。
前記空間光変調器の前記複数の光学要素へ光を導く入射側光学系を備えていることを特徴とする請求項1に記載の空間光変調ユニット。
前記入射側光学系の光軸に沿って前記複数の光学要素に入射した平行光束が前記複数の光学要素を経て前記射出側光学系の光軸に沿って導かれる基準状態における前記複数の光学要素の光学面は、前記配列面に対して所定の軸線廻りに傾いていることを特徴とする請求項2に記載の空間光変調ユニット。
前記複数の光学要素の光学面は、前記所定の軸線と直交する方向の寸法が前記所定の軸線と平行な方向の寸法よりも大きい外形形状を有することを特徴とする請求項3に記載の空間光変調ユニット。
前記入射側光学系は前記空間光変調器側に配置された第1偏向部材を有し、前記射出側光学系は前記空間光変調器側に配置された第2偏向部材を有することを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記第1偏向部材から前側へ延びる前記入射側光学系の光軸と前記第2偏向部材から後側へ延びる前記射出側光学系の光軸とは互いに一致または互いに平行であることを特徴とする請求項5に記載の空間光変調ユニット。
前記第2偏向部材は反射面を備え、
 前記複数の光学要素以外の面部分であって前記複数の光学要素の配列される前記配列面とほぼ平行な面部分を経た前記0次光は前記第2偏向部材の前記反射面の外へ向かうことを特徴とする請求項5または6に記載の空間光変調ユニット。
前記入射側光学系は、前記複数の光学要素以外の面部分であって前記複数の光学要素の配列される配列面とほぼ平行な面部分を経た0次光が前記入射側光学系を通過しないように構成されていることを特徴とする請求項2乃至7のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記空間光変調器は、二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的にまたは離散的に変化させることを特徴とする請求項9に記載の空間光変調ユニット。
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系とともに用いられ、該照明光学系中の分布形成光学系へ前記光源からの光を導いて、前記入射瞳と共役な照明瞳に所定の光強度分布を形成することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
前記照明光学系は、前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項11に記載の空間光変調ユニット。
前記複数の光学要素以外の面部分であって前記複数の光学要素の配列される前記配列面とほぼ平行な面部分は、前記複数の光学要素の間に位置することを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
 請求項1乃至13のいずれか1項に記載の空間光変調ユニットと、
 前記空間光変調器を介した光束に基づいて、前記入射瞳と共役な照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系。
前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記空間光変調ユニットとの間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項14に記載の照明光学系。
前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項14または15に記載の照明光学系。
所定のパターンを照明するための請求項14乃至16のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
請求項17に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
第1光学系から入射した光を変調して第2光学系へ導く空間光変調器であって、
 二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、
 前記第1光学系の光軸に沿って前記複数の光学要素に入射した平行光束が前記複数の光学要素を経て前記第2光学系の光軸に沿って導かれる基準状態における前記複数の光学要素の光学面は、前記複数の光学要素の配列される配列面に対して所定の軸線廻りに傾いていることを特徴とする空間光変調器。
二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項19に記載の空間光変調器。
前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的にまたは離散的に変化させることを特徴とする請求項20に記載の空間光変調器。
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系とともに用いられ、該照明光学系中の分布形成光学系へ前記光源からの光を導いて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成することを特徴とする請求項19乃至21のいずれか1項に記載の空間光変調器。
前記照明光学系は、前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項22に記載の空間光変調器。
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
 請求項19乃至23のいずれか1項に記載の空間光変調器と、
 前記空間光変調器を介した光束に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系。
前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記空間光変調器との間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項24に記載の照明光学系。
前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項24または25に記載の照明光学系。
所定のパターンを照明するための請求項24乃至26のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
請求項27に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Description:
空間光変調ユニット、照明光学 、露光装置、およびデバイス製造方法

 本発明は、空間光変調ユニット、照明光 系、露光装置、およびデバイス製造方法に する。さらに詳細には、本発明は、半導体 子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘ ド等のデバイスをリソグラフィー工程で製 するための露光装置に好適な照明光学系に するものである。

 この種の典型的な露光装置においては、 源から射出された光束が、オプティカルイ テグレータとしてのフライアイレンズを介 て、多数の光源からなる実質的な面光源と ての二次光源(一般には照明瞳における所定 の光強度分布)を形成する。以下、照明瞳で 光強度分布を、「瞳強度分布」という。ま 、照明瞳とは、照明瞳と被照射面(露光装置 場合にはマスクまたはウェハ)との間の光学 系の作用によって、被照射面が照明瞳のフー リエ変換面となるような位置として定義され る。

 二次光源からの光束は、コンデンサーレ ズにより集光された後、所定のパターンが 成されたマスクを重畳的に照明する。マス を透過した光は投影光学系を介してウェハ に結像し、ウェハ上にはマスクパターンが 影露光(転写)される。マスクに形成された ターンは高集積化されており、この微細パ ーンをウェハ上に正確に転写するにはウェ 上において均一な照度分布を得ることが不 欠である。

 従来、ズーム光学系を用いることなく瞳 度分布(ひいては照明条件)を連続的に変更 ることのできる照明光学系が提案されてい (特許文献1を参照)。特許文献1に開示された 明光学系では、アレイ状に配列され且つ傾 角および傾斜方向が個別に駆動制御される 数の微小なミラー要素により構成された可 マルチミラーを用いて、入射光束を反射面 の微小単位に分割して偏向させることによ 、光束の断面を所望の形状または所望の大 さに変換し、ひいては所望の瞳強度分布を 現している。

特開2002-353105号公報

 特許文献1に記載された照明光学系では、 姿勢が個別に制御される多数の微小なミラー 要素を有する空間光変調器を用いているので 、瞳強度分布の形状および大きさの変更に関 する自由度は高い。しかしながら、ミラー要 素からの正反射光だけでなく、例えばミラー 要素を支持する基盤の表面などからの正反射 光も照明瞳に達することがある。この場合、 ミラー要素以外からの正反射光(一般には不 光)の影響により、所望の瞳強度分布を形成 ることが困難になる。

 本発明は、前述の課題に鑑みてなされた のであり、例えば空間光変調器のミラー要 以外からの不要光の影響を抑えて、所望の 強度分布を実現することのできる照明光学 を提供することを目的とする。また、本発 は、不要光の影響を抑えて所望の瞳強度分 を実現する照明光学系を用いて、適切な照 条件のもとで良好な露光を行うことのでき 露光装置を提供することを目的とする。

 前記課題を解決するために、本発明の第1形 態では、二次元的に配列されて個別に制御さ れる複数の光学要素を有する空間光変調器と 、
 前記空間光変調器の前記複数の光学要素を た光を導く射出側光学系とを備え、
 前記射出側光学系は、前記複数の光学要素 外の面部分であって前記複数の光学要素の 列される配列面とほぼ平行な面部分を経た0 次光が前記射出側光学系の入射瞳を通過しな いように構成されていることを特徴とする空 間光変調ユニットを提供する。

 本発明の第2形態では、光源からの光に基づ いて被照射面を照明する照明光学系において 、
 第1形態の空間光変調ユニットと、
 前記空間光変調器を介した光束に基づいて 前記入射瞳と共役な照明瞳に所定の光強度 布を形成する分布形成光学系とを備えてい ことを特徴とする照明光学系を提供する。

 本発明の第3形態では、所定のパターンを 照明するための第2形態の照明光学系を備え 前記所定のパターンを感光性基板に露光す ことを特徴とする露光装置を提供する。

 本発明の第4形態では、第3形態の露光装置 用いて、前記所定のパターンを前記感光性 板に露光する露光工程と、
 前記所定のパターンが転写された前記感光 基板を現像し、前記所定のパターンに対応 る形状のマスク層を前記感光性基板の表面 形成する現像工程と、
 前記マスク層を介して前記感光性基板の表 を加工する加工工程とを含むことを特徴と るデバイス製造方法を提供する。

 本発明の第5形態では、第1光学系から入射 た光を変調して第2光学系へ導く空間光変調 であって、
 二次元的に配列されて個別に制御される複 の光学要素を有し、
 前記第1光学系の光軸に沿って前記複数の光 学要素に入射した平行光束が前記複数の光学 要素を経て前記第2光学系の光軸に沿って導 れる基準状態における前記複数の光学要素 光学面は、前記複数の光学要素の配列され 配列面に対して所定の軸線廻りに傾いてい ことを特徴とする空間光変調器を提供する

 本発明の照明光学系では、例えば入射側 学系の光軸に沿って空間光変調器の複数の 学要素(例えばミラー要素)に入射した平行 束が複数の光学要素を経て射出側光学系の 軸に沿って導かれる基準状態における複数 光学要素の光学面が、複数の光学要素の配 される配列面に対して所定の軸線廻りに傾 ている。その結果、複数の光学要素以外の 部分であって複数の光学要素の配列される 列面とほぼ平行な面部分を経た0次光(例えば ミラー要素以外からの正反射光のような不要 光)は、射出側光学系の入射瞳を通過するこ なく、ひいては照明光学系の照明瞳に達し い。

 こうして、本発明の照明光学系では、例 ば空間光変調器のミラー要素以外からの不 光の影響を抑えて、所望の瞳強度分布を実 することができる。また、本発明の露光装 では、不要光の影響を抑えて所望の瞳強度 布を実現する照明光学系を用いて、マスク パターン特性に応じて実現された適切な照 条件のもとで良好な露光を行うことができ ひいては良好なデバイスを製造することが きる。

本発明の実施形態にかかる露光装置の 成を概略的に示す図である。 本実施形態にかかる空間光変調器の基 的な構成および作用を概略的に示す図であ 。 図2の空間光変調器の部分斜視図である 。 従来技術の不都合および本発明の課題 説明するための比較例を概略的に示す図で る。 本実施形態の第1実施例にかかる空間光 変調器の構成および作用を概略的に示す図で ある。 第1実施例にしたがう数値実施例を概略 的に示す図である。 第1実施例にしたがう別の数値実施例を 概略的に示す図である。 本実施形態の第2実施例にかかる空間光 変調器の構成および作用を概略的に示す図で ある。 第2実施例にしたがう数値実施例を概略 的に示す図である。 第2実施例にしたがう別の数値実施例 概略的に示す図である。 半導体デバイスの製造工程を示すフロ ーチャートである。 液晶表示素子等の液晶デバイスの製造 工程を示すフローチャートである。

符号の説明

1 光源
2 ビーム送光部
3 空間光変調器
3a 空間光変調器の本体
3b 駆動部
4 ズーム光学系
5 フライアイレンズ
6 コンデンサー光学系
7 照明視野絞り(マスクブラインド)
8 視野絞り結像光学系
IL 照明光学系
CR 制御部
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ

 本発明の実施形態を、添付図面に基づい 説明する。図1は、本発明の実施形態にかか る露光装置の構成を概略的に示す図である。 図1において、感光性基板であるウェハWの露 面の法線方向に沿ってZ軸を、ウェハWの露 面内において図1の紙面に平行な方向に沿っ X軸を、ウェハWの露光面内において図1の紙 に垂直な方向に沿ってY軸をそれぞれ設定し ている。

 図1を参照すると、本実施形態の露光装置 は、装置の光軸AXに沿って、空間光変調器3を 含む照明光学系ILと、マスクMを支持するマス クステージMSと、投影光学系PLと、ウェハWを 持するウェハステージWSとを備えている。 実施形態の露光装置では、照明光(露光光)を 供給する光源1からの光が、照明光学系ILを介 してマスクMを照明する。マスクMを透過した は、投影光学系PLを介して、マスクMのパタ ンの像をウェハW上に形成する。

 光源1からの光に基づいてマスクMのパタ ン面(被照射面)を照明する照明光学系ILは、 間光変調器3の作用により、複数極照明(2極 明、4極照明など)、輪帯照明等の変形照明 行う。照明光学系ILは、光軸AXに沿って光源1 側から順に、ビーム送光部2と、空間光変調 3と、ズーム光学系4と、フライアイレンズ5 、コンデンサー光学系6と、照明視野絞り(マ スクブラインド)7と、視野絞り結像光学系8と を備えている。

 空間光変調器3は、ビーム送光部2を介し 光源1からの光に基づいて、その遠視野領域( フラウンホーファー回折領域)に所望の光強 分布(瞳強度分布)を形成する。空間光変調器 3の構成および作用については後述する。ビ ム送光部2は、光源1からの入射光束を適切な 大きさおよび形状の断面を有する光束に変換 しつつ空間光変調器3へ導くとともに、空間 変調器3に入射する光束の位置変動および角 変動をアクティブに補正する機能を有する ズーム光学系4は、空間光変調器3からの光 集光して、フライアイレンズ5へ導く。

 フライアイレンズ5は、例えば稠密に配列 された多数のレンズ素子からなる波面分割型 のオプティカルインテグレータである。フラ イアイレンズ5は、入射した光束を波面分割 て、その後側焦点面にレンズ素子と同数の 源像からなる二次光源(実質的な面光源)を形 成する。フライアイレンズ5の入射面は、ズ ム光学系4の後側焦点位置またはその近傍に 置されている。フライアイレンズ5として、 例えばシリンドリカルマイクロフライアイレ ンズを用いることができる。シリンドリカル マイクロフライアイレンズの構成および作用 は、例えば米国特許第6913373号公報に開示さ ている。また、フライアイレンズとして、 えば米国特許第6741394号公報に開示されてい マイクロフライアイレンズを用いることも きる。ここでは、米国特許第6913373号公報お よび米国特許第6741394号公報の教示を参照と て援用する。

 本実施形態では、フライアイレンズ5によ り形成される二次光源を光源として、照明光 学系ILの被照射面に配置されるマスクMをケー ラー照明する。このため、二次光源が形成さ れる位置は投影光学系PLの開口絞りASの位置 光学的に共役であり、二次光源の形成面を 明光学系ILの照明瞳面と呼ぶことができる。 典型的には、照明瞳面に対して被照射面(マ クMが配置される面、または投影光学系PLを めて照明光学系と考える場合にはウェハWが 置される面)が光学的なフーリエ変換面とな る。

 なお、瞳強度分布とは、照明光学系ILの 明瞳面または当該照明瞳面と光学的に共役 面における光強度分布(輝度分布)である。フ ライアイレンズ5による波面分割数が比較的 きい場合、フライアイレンズ5の入射面に形 される大局的な光強度分布と、二次光源全 の大局的な光強度分布(瞳強度分布)とが高 相関を示す。このため、フライアイレンズ5 入射面および当該入射面と光学的に共役な における光強度分布についても瞳強度分布 称することができる。

 コンデンサー光学系6は、フライアイレン ズ5から射出された光を集光して、照明視野 り7を重畳的に照明する。照明視野絞り7を通 過した光は、視野絞り結像光学系8を介して マスクMのパターン形成領域の少なくとも一 に照明視野絞り7の開口部の像である照明領 域を形成する。なお、図1では、光軸(ひいて 光路)を折り曲げるための光路折曲げミラー の設置を省略しているが、必要に応じて光路 折曲げミラーを照明光路中に適宜配置するこ とが可能である。

 マスクステージMSにはXY平面(例えば水平 )に沿ってマスクMが載置され、ウェハステー ジWSにはXY平面に沿ってウェハWが載置される 投影光学系PLは、照明光学系ILによってマス クMのパターン面上に形成される照明領域か の光に基づいて、ウェハWの露光面(投影面) にマスクMのパターンの像を形成する。こう て、投影光学系PLの光軸AXと直交する平面(XY 平面)内においてウェハステージWSを二次元的 に駆動制御しながら、ひいてはウェハWを二 元的に駆動制御しながら一括露光またはス ャン露光を行うことにより、ウェハWの各露 領域にはマスクMのパターンが順次露光され る。

 図2は、本実施形態にかかる空間光変調器 の基本的な構成および作用を説明する図であ る。図2を参照すると、本実施形態の空間光 調器3は、複数のミラー要素を有する反射型 空間光変調器であって、本体3aと、駆動部3b とを備えている。本体3aは、YZ平面に沿って 次元的に配列された複数の微小なミラー要 SEと、複数のミラー要素SEを支持する基盤(ベ ース)BAとを有する。駆動部3bは、制御部CRか の指令にしたがって、複数のミラー要素SEの 姿勢を個別に制御駆動する。

 空間光変調器3は、第1平面反射鏡(R1の反 面を経て複数のミラー要素SEに入射した光に 対して、その入射位置に応じた空間的な変調 を付与して射出する。空間光変調器3から射 された光は、第2平面反射鏡R2の反射面を経 ズーム光学系4に入射する。空間光変調器3の 本体3aは、図3に示すように、二次元的に配列 された複数の微小なミラー要素(光学要素)SE 備えている。説明および図示を簡単にする めに、図2および図3では空間光変調器3が4×4= 16個のミラー要素SEを備える構成例を示して るが、実際には16個よりもはるかに多数のミ ラー要素SEを備えている。

 図2を参照すると、光軸AXと平行な方向に って第1平面反射鏡R1の反射面に入射する光 群のうち、光線L1は複数のミラー要素SEのう ちのミラー要素SEaに、光線L2はミラー要素SEa は異なるミラー要素SEbにそれぞれ入射する 同様に、光線L3はミラー要素SEa,SEbとは異な ミラー要素SEcに、光線L4はミラー要素SEa~SEc は異なるミラー要素SEdにそれぞれ入射する ミラー要素SEa~SEdは、その位置に応じて設定 された空間的な変調を光L1~L4に与える。

 空間光変調器3は、集光光学系としてのズ ーム光学系4の前側焦点位置またはその近傍 配置されている。したがって、空間光変調 3の複数のミラー要素SEa~SEdによって反射され て所定の角度分布が与えられた光は、ズーム 光学系4の後側焦点面4aに所定の光強度分布SP1 ~SP4を形成する。すなわち、ズーム光学系4は 空間光変調器3の複数のミラー要素SEa~SEdが 出光に与える角度を、その遠視野領域(フラ ンホーファー回折領域)である面4a上での位 に変換している。

 図1を参照すると、ズーム光学系4の後側 点面4aの位置には、フライアイレンズ5の入 面が位置決めされている。したがって、フ イアイレンズ5が形成する二次光源の光強度 布(輝度分布)は、空間光変調器3およびズー 光学系4が形成する光強度分布SP1~SP4に応じ 分布となる。空間光変調器3は、図3に示すよ うに、平面形状の反射面を上面にした状態で 1つの平面に沿って規則的に且つ二次元的に 列された多数の微小な反射素子であるミラ 要素SEを含む可動マルチミラーである。

 各ミラー要素SEは可動であり、その反射 の傾き、すなわち反射面の傾斜角および傾 方向は、制御部CR(図3では不図示)からの指令 にしたがって作動する駆動部3b(図3では不図 )の作用により独立に制御される。各ミラー 素SEは、その反射面に平行な二方向であっ 互いに直交する二方向(Y方向およびZ方向)を 転軸として、所望の回転角度だけ連続的或 は離散的に回転することができる。すなわ 、各ミラー要素SEの反射面の傾斜を二次元 に制御することが可能である。

 各ミラー要素SEの反射面を離散的に回転 せる場合、回転角を複数の状態(例えば、・ ・、-2.5度、-2.0度、・・・0度、+0.5度・・・ +2.5度、・・・)で切り換え制御するのが良い 図3には外形が矩形状のミラー要素SEを示し いるが、ミラー要素SEの外形形状は矩形状 限定されない。ただし、光利用効率の観点 ら、ミラー要素SEの隙間が少なくなるように 配列可能な形状(最密充填可能な形状)として 良い。また、光利用効率の観点から、隣り う2つのミラー要素SEの間隔を必要最小限に えても良い。

 本実施形態では、空間光変調器3として、 二次元的に配列された複数のミラー要素SEの きを連続的に(または離散的に)それぞれ変 させる空間光変調器を用いている。このよ な空間光変調器として、たとえば特表平10-50 3300号公報およびこれに対応する欧州特許公 第779530号公報、特開2004-78136号公報およびこ に対応する米国特許第6,900,915号公報、特表2 006-524349号公報およびこれに対応する米国特 第7,095,546号公報、並びに特開2006-113437号公報 に開示される空間光変調器を用いることがで きる。ここでは、欧州特許公開第779530号公報 、米国特許第6,900,915号公報、および米国特許 第7,095,546号公報の教示を参照として援用する 。

 空間光変調器3では、制御部CRからの制御 号に応じて作動する駆動部3bの作用により 複数のミラー要素SEの姿勢がそれぞれ変化し 、各ミラー要素SEがそれぞれ所定の向きに設 される。空間光変調器3の複数のミラー要素 SEによりそれぞれ所定の角度で反射された光 、ズーム光学系4を介して、フライアイレン ズ5の後側焦点位置またはその近傍の照明瞳 、複数極状(2極状、4極状など)、輪帯状等の 強度分布(瞳強度分布)を形成する。この瞳 度分布は、ズーム光学系4の作用により、相 的に(等方的に)変化する。

 すなわち、ズーム光学系4およびフライア イレンズ5は、空間光変調器3を介した光束に づいて、照明光学系ILの照明瞳に所定の光 度分布を形成する分布形成光学系を構成し いる。さらに、フライアイレンズ5の後側焦 位置またはその近傍の照明瞳と光学的に共 な別の照明瞳位置、すなわち視野絞り結像 学系8の瞳位置および投影光学系PLの瞳位置( 開口絞りASの位置)にも、瞳強度分布に対応す る光強度分布が形成される。

 露光装置では、マスクMのパターンをウェ ハWに高精度に且つ忠実に転写するために、 えばマスクMのパターン特性に応じた適切な 明条件のもとで露光を行うことが重要であ 。本実施形態の照明光学系ILでは、複数の ラー要素SEの姿勢がそれぞれ個別に変化する 空間光変調器3を用いているので、空間光変 器3の作用により形成される瞳強度分布を自 に且つ迅速に変化させることができる。

 しかしながら、前述したように、複数の ラー要素を有する反射型の空間光変調器を いて通常の設計により構成された照明光学 では、ミラー要素からの正反射光だけでな 、ミラー要素を支持する基盤の表面などか の正反射光も照明瞳に達する。この場合、 ラー要素以外からの正反射光(不要光)の影 により、所望の瞳強度分布を形成すること 困難になる。以下、通常の設計にしたがっ 構成された図4の比較例を参照して、従来技 の不都合および本発明の課題を説明する。

 図4に示す比較例にかかる空間光変調器30 は、複数のミラー要素SEの反射面がYZ平面に 平行に設定された基準状態において、光軸AX 平行な方向に沿って第1平面反射鏡R1の反射 へ入射した光線が、空間光変調器30を経た に、第2平面反射鏡R2の反射面により光軸AXと 平行な方向に向かって反射されるように構成 されている。換言すれば、光軸AXと平行な方 に沿って第1平面反射鏡R1の反射面へ入射し 光線が複数のミラー要素SEを経て第2平面反 鏡R2の反射面により光軸AXと平行な方向に向 かって反射される基準状態(以下、単に「基 状態」という)における複数のミラー要素SE 反射面は、複数のミラー要素SEの配列される 配列面(YZ平面)と一致している。

 また、図4に示す比較例では、複数のミラ ー要素SEを支持する基盤BAの表面は、複数の ラー要素SEの配列面と平行であり、ひいては 基準状態における複数のミラー要素SEの反射 と平行である。したがって、ミラー要素SE らの正反射光だけでなく、基盤BAの表面から の正反射光も、第2平面反射鏡R2の反射面およ びズーム光学系4(図4では不図示)を経て照明 (図1のフライアイレンズ5の後側焦点面に対 )に達する。また、ミラー要素SEの間にミラ 枠が設けられたタイプの空間光変調器30では 、ミラー枠の上面からの正反射光も同様に照 明瞳に達する。すなわち、複数のミラー要素 SE以外の面部分であって複数のミラー要素SE 配列面とほぼ平行な面部分からの正反射光 、不要光として照明瞳に達してしまう。そ 結果、図4に示す比較例では、ミラー要素SE 外からの不要光の影響により、所望の瞳強 分布を形成することが困難である。

 さらに、図4に示す比較例では、フライア イレンズ5の後側焦点面の照明瞳と光学的に 役な面が、図中破線40で示すように複数のミ ラー要素SEの配列面(YZ平面)に対して傾いてし まう。ここで、照明瞳の共役面40(図面の明瞭 化のために空間光変調器30から離れた位置に している)が複数のミラー要素SEの配列面と す角度は、空間光変調器30から第2平面反射 R2へ至る射出光軸AX2と基準状態における複 のミラー要素SEの反射面の法線(X方向に沿っ 延びる線分)41とがなす角度、ひいては第1平 面反射鏡R1から空間光変調器30へ至る入射光 AX1と法線41とがなす角度と等しい。その結果 、例えば中央付近のミラー要素の反射面を照 明瞳の共役面40に一致させても、周辺のミラ 要素の反射面が共役面40から射出光軸AX2方 に位置ずれするため、所望の瞳強度分布を 成することが困難である。

 図5は、本実施形態の第1実施例にかかる 間光変調器の構成および作用を概略的に示 図である。第1実施例にかかる空間光変調器3 では、図4の比較例と同様に、基盤BAの表面お よび複数のミラー要素SEの配列面がYZ平面と 行に設定されている。しかしながら、第1実 例では、図4の比較例とは異なり、空間光変 調器3から第2平面反射鏡R2へ至る射出光軸AX2 X方向に沿って延びるように設定されている そのため、基準状態における複数のミラー 素SEの反射面の法線41は、法線41と射出光軸A X2となす角度が法線41と入射光軸AX1となす角 と等しくなるように、射出光軸AX2と入射光 AX1とがなす角度の半分だけX軸に対して傾い いる。換言すれば、基準状態における複数 ミラー要素SEの反射面は、複数のミラー要 SEの配列面に対して、射出光軸AX2と入射光軸 AX1とがなす角度の半分だけY軸廻りに傾いて る。

 その結果、第1実施例にかかる空間光変調 器3では、複数のミラー要素SEの反射面がYZ平 に対して傾いて設定された基準状態におい 、入射光軸AX1と平行な方向に沿って複数の ラー要素SEへ入射して反射された光線は、 出光軸AX2と平行な方向に沿って第2平面反射 R2に入射した後、その反射面により光軸AXに 向かって反射される。一方、複数のミラー要 素SE以外の面部分であって複数のミラー要素S Eの配列面とほぼ平行な面部分(基盤BAの表面 ど)へ入射して正反射された光線は、図中矢 42で示す方向(射出光軸AX2に関して入射光軸A X1と対称な方向)へ導かれるため、第2平面反 鏡R2の反射面の有効領域に達することなく、 ひいてはフライアイレンズ5の後側焦点面の 明瞳に達しない。ここで、複数のミラー要 SE以外の面部分であって複数のミラー要素SE 配列面とほぼ平行な面部分は、複数のミラ 要素SEの間に位置する。

 こうして、第1実施例では、空間光変調器 3のミラー要素SE以外からの不要光の影響を抑 えて、所望の瞳強度分布を実現することがで きる。また、第1実施例では、射出光軸AX2が 数のミラー要素SEの配列面と直交するように X方向に沿って延びているので、照明瞳の共 面40が複数のミラー要素SEの配列面と平行に る。その結果、中央付近だけでなく全体に って複数のミラー要素SEの反射面を共役面40 とほぼ一致させることができ、ひいては所望 の瞳強度分布を形成することが容易になる。

 図6に示す数値実施例では、第1実施例の 成に基づいて、入射光軸AX1と射出光軸AX2と なす角度が40度に設定されている。すなわち 、法線41と射出光軸AX2となす角度および法線4 1と入射光軸AX1となす角度がともに20度に設定 されている。したがって、基準状態における 複数のミラー要素SEの反射面は、複数のミラ 要素SEの配列面に対してY軸廻りに20度だけ いている。

 図7に示す別の数値実施例では、第1実施 の構成に基づいて、入射光軸AX1と射出光軸AX 2とのなす角度が30度に設定されている。すな わち、法線41と射出光軸AX2となす角度および 線41と入射光軸AX1となす角度がともに15度に 設定されている。したがって、基準状態にお ける複数のミラー要素SEの反射面は、複数の ラー要素SEの配列面に対してY軸廻りに15度 け傾いている。

 図8は、本実施形態の第2実施例にかかる 間光変調器の構成および作用を概略的に示 図である。第2実施例にかかる空間光変調器3 では、図4の比較例と同様に、第1平面反射鏡R 1から空間光変調器3へ至る入射光軸AX1と空間 変調器3から第2平面反射鏡R2へ至る射出光軸 AX2とが、X軸に対して同じ角度をなすようにX に関して対称に設定されている。しかしな ら、第2実施例では、図4の比較例とは異な 、基盤BAの表面および複数のミラー要素SEの 列面が、YZ平面に対して傾いて設定されて る。そのため、基準状態における複数のミ ー要素SEの反射面の法線41は、法線41と射出 軸AX2となす角度が法線41と入射光軸AX1となす 角度と等しくなるようにX方向に沿って延び いる。換言すれば、基準状態における複数 ミラー要素SEの反射面は、YZ平面に平行であ 、複数のミラー要素SEの配列面に対して、 出光軸AX2と入射光軸AX1とがなす角度の半分 けY軸廻りに傾いている。

 その結果、第2実施例にかかる空間光変調 器3では、複数のミラー要素SEの反射面がYZ平 と平行に設定された基準状態において、入 光軸AX1と平行な方向に沿って複数のミラー 素SEへ入射して反射された光線は、射出光 AX2と平行な方向に沿って第2平面反射鏡R2に 射した後、その反射面により光軸AXに向かっ て反射される。一方、複数のミラー要素SE以 の面部分であって複数のミラー要素SEの配 面とほぼ平行な面部分(基盤BAの表面など)へ 射して正反射された光線は、図中矢印42で す方向(射出光軸AX2に関して入射光軸AX1と対 な方向)へ導かれるため、第2平面反射鏡R2の 反射面の有効領域に達することなく、ひいて はフライアイレンズ5の後側焦点面の照明瞳 達しない。

 こうして、第2実施例においても第1実施 と同様に、空間光変調器3のミラー要素SE以 からの不要光の影響を抑えて、所望の瞳強 分布を実現することができる。また、第2実 例においても第1実施例と同様に、射出光軸 AX2が複数のミラー要素SEの配列面と直交する 向に沿って延びているので、照明瞳の共役 40が複数のミラー要素SEの配列面と平行にな る。その結果、中央付近だけでなく全体に亘 って複数のミラー要素SEの反射面を共役面40 ほぼ一致させることができ、ひいては所望 瞳強度分布を形成することが容易になる。

 図9に示す数値実施例では、第2実施例の 成に基づいて、入射光軸AX1と射出光軸AX2と なす角度が60度に設定されている。すなわち 、法線41と射出光軸AX2となす角度および法線4 1と入射光軸AX1となす角度がともに30度に設定 されている。したがって、基準状態における 複数のミラー要素SEの反射面は、複数のミラ 要素SEの配列面に対してY軸廻りに30度だけ いている。

 図10に示す別の数値実施例では、第2実施 の構成に基づいて、入射光軸AX1と射出光軸A X2とのなす角度が40度に設定されている。す わち、法線41と射出光軸AX2となす角度および 法線41と入射光軸AX1となす角度がともに20度 設定されている。したがって、基準状態に ける複数のミラー要素SEの反射面は、複数の ミラー要素SEの配列面に対してY軸廻りに20度 け傾いている。

 なお、上述の説明では、第1実施例の構成 に基づく2つの数値実施例および第2実施例の 成に基づく2つの数値実施例を例示したが、 これに限定されることなく、第1実施例の構 に基づく数値実施例および第2実施例の構成 基づく数値実施例について様々な形態が可 である。また、上述の説明では、本発明に かる空間光変調器の具体的な構成例として 第1実施例および第2実施例を例示したが、 れに限定されることなく、本発明にかかる 間光変調器の具体的な構成について様々な 態が可能である。

 ところで、上述の実施形態では、第2平面 反射鏡R2が単体で、あるいは第2平面反射鏡R2 ズーム光学系4とが協働して、空間光変調器 3の複数のミラー要素SEを経た光を導く射出側 光学系を構成し、この射出側光学系と空間光 変調器3とが空間光変調ユニットを構成して ると考えることができる。また、第1平面反 鏡R1が単体で、あるいはビーム送光部2中の 学系と第1平面反射鏡R1とが協働して、空間 変調器3の複数のミラー要素SEへ光を導く入 側光学系を構成し、この入射側光学系と射 側光学系と空間光変調器3とが空間光変調ユ ニットを構成していると考えることもできる 。

 いずれの場合も、上述の実施形態におけ 空間光変調ユニットでは、空間光変調器3の 複数のミラー要素SE以外の面部分であって複 のミラー要素SEの配列面とほぼ平行な面部 を経た0次光(正反射光)が、照明光学系ILの照 明瞳と光学的に共役な射出側光学系の入射瞳 を通過しないように、ひいては照明瞳に達し ないように構成されている。ちなみに、射出 側光学系が平面反射鏡やプリズムのような偏 向部材だけにより構成されていると考えられ るとき、射出側光学系は学術上の入射瞳を持 たないことになるが、この場合、0次光が射 側光学系の入射瞳を通過しないということ 、当該射出側光学系を含む後続の光学系で 義される入射瞳または当該入射瞳の共役像 外側に0次光が向かうことを指すことができ 。

 なお、上述の実施形態では、ミラー要素S Eの反射面からの回折光による照明瞳での回 ボケの幅を矩形状の反射面の一辺方向と他 方向とで対称にするために、射出光軸AX2に って照明瞳側から見込むミラー要素SEの反射 面の見かけの外形形状が正方形になるように 構成することが望ましい。そのためには、例 えば図5および図8の各実施例において、ミラ 要素SEの矩形状の反射面のZ方向(厳密にはXZ 面においてミラー要素SEの反射面の断面が 長く延びる方向)の寸法を、Y方向の寸法より も大きい所要の寸法に設定する必要がある。

 また、上述の実施形態では、第1平面反射 鏡R1から前側(光源側)へ延びる入射側光学系 前側光軸AXと、第2平面反射鏡R2から後側(マ ク側)へ延びる射出側光学系の後側光軸AXと 1つの直線に沿って延びている。このように 空間光変調器3を挟んで前側光軸AXと後側光 AXとを互いに一致または互いに平行に設定 、空間光変調器3の上流と下流とで光路を同 (または平行)にすることにより、例えば瞳 度分布の形成のために回折光学素子を用い 従来の照明光学装置と光学系を共用するこ ができる。

 また、上述の実施形態では、ビーム送光 2からの光を偏向して空間光変調器3へ導く 1偏向部材および空間光変調器3からの光を偏 向してズーム光学系4へ導く第2偏向部材とし 、第1平面反射鏡R1および第2平面反射鏡R2を れぞれ用いている。しかしながら、これに 定されることなく、第1偏向部材および第2 向部材として、所要の断面形状を有する1つ たは複数のプリズムなどを用いることがで る。

 また、上述の実施形態における空間光変 ユニットでは、空間光変調器3の複数のミラ ー要素SE以外の面部分であって複数のミラー 素SEの配列面とほぼ平行な面部分を経た0次 (正反射光)が、入射側光学系(ビーム送光部2 )に入射しないように構成されている。これ より、空間光変調器3での0次光が光源に戻さ れることによる悪影響を防止することができ る。

 なお、上述の説明では、二次元的に配列 れて個別に制御される複数の光学要素を有 る空間光変調器として、二次元的に配列さ た複数の反射面の向き(角度:傾き)を個別に 御可能な空間光変調器を用いている。しか ながら、これに限定されることなく、たと ば二次元的に配列された複数の反射面の高 (位置)を個別に制御可能な空間光変調器を いることもできる。このような空間光変調 としては、たとえば特開平6-281869号公報及び これに対応する米国特許第5,312,513号公報、並 びに特表2004-520618号公報およびこれに対応す 米国特許第6,885,493号公報の図1dに開示され 空間光変調器を用いることができる。これ の空間光変調器では、二次元的な高さ分布 形成することで回折面と同様の作用を入射 に与えることができる。なお、上述した二 元的に配列された複数の反射面を持つ空間 変調器を、たとえば特表2006-513442号公報およ びこれに対応する米国特許第6,891,655号公報や 、特表2005-524112号公報およびこれに対応する 国特許公開第2005/0095749号公報の開示に従っ 変形しても良い。

 また、上述の説明では、複数のミラー要 を有する反射型の空間光変調器を用いてい が、これに限定されることなく、たとえば 国特許第5,229,872号公報に開示される透過型 空間光変調器を用いても良い。ここでは、 国特許第5,312,513号公報、米国特許第6,885,493 公報、米国特許第6,891,655号、米国特許公開 2005/0095749号公報、および米国特許第5,229,872 公報の教示を参照として援用する。

 なお、上述の実施形態では、空間光変調 を用いて瞳強度分布を形成する際に、瞳輝 分布計測装置で瞳強度分布を計測しつつ、 の計測結果に応じて空間光変調器を制御し もよい。このような技術は、たとえば特開2 006-54328号公報や特開2003-22967号公報およびこ に対応する米国特許公開第2003/0038225号公報 開示されている。ここでは、米国特許公開 2003/0038225号公報の教示を参照として援用す 。

 また、上述の実施形態では、マスクの代 りに、所定の電子データに基づいて所定パ ーンを形成する可変パターン形成装置を用 ることができる。このような可変パターン 成装置を用いれば、パターン面が縦置きで 同期精度に及ぼす影響を最低限にできる。 お、可変パターン形成装置としては、たと ば所定の電子データに基づいて駆動される 数の反射素子を含むDMD(デジタル・マイクロ ミラー・デバイス)を用いることができる。DM Dを用いた露光装置は、例えば特開2004-304135号 公報、国際特許公開第2006/080285号パンフレッ およびこれに対応する米国特許公開第2007/02 96936号公報に開示されている。また、DMDのよ な非発光型の反射型空間光変調器以外に、 過型空間光変調器を用いても良く、自発光 の画像表示素子を用いても良い。なお、パ ーン面が横置きの場合であっても可変パタ ン形成装置を用いても良い。ここでは、米 特許公開第2007/0296936号公報の教示を参照と て援用する。

 なお、上述の実施形態では、オプティカ インテグレータとして、フライアイレンズ5 を用いているが、その代わりに、内面反射型 のオプティカルインテグレータ(典型的には ッド型インテグレータ)を用いても良い。こ 場合、ズーム光学系4の後側にその前側焦点 位置がズーム光学系4の後側焦点位置と一致 るように集光レンズを配置し、この集光レ ズの後側焦点位置またはその近傍に入射端 位置決めされるようにロッド型インテグレ タを配置する。このとき、ロッド型インテ レータの射出端が照明視野絞り7の位置にな 。ロッド型インテグレータを用いる場合、 のロッド型インテグレータの下流の視野絞 結像光学系8内の、投影光学系PLの開口絞りA Sの位置と光学的に共役な位置を照明瞳面と ぶことができる。また、ロッド型インテグ ータの入射面の位置には、照明瞳面の二次 源の虚像が形成されることになるため、こ 位置およびこの位置と光学的に共役な位置 照明瞳面と呼ぶことができる。ここで、ズ ム光学系4と上記の集光レンズとを、オプテ カルインテグレータと空間光変調器との間 光路中に配置された集光光学系とみなすこ ができ、ズーム光学系4、上記の集光レンズ およびロッド型インテグレータを分布形成光 学系とみなすことができる。

 上述の実施形態の露光装置は、本願特許 求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各 サブシステムを、所定の機械的精度、電気 精度、光学的精度を保つように、組み立て ことで製造される。これら各種精度を確保 るために、この組み立ての前後には、各種 学系については光学的精度を達成するため 調整、各種機械系については機械的精度を 成するための調整、各種電気系については 気的精度を達成するための調整が行われる 各種サブシステムから露光装置への組み立 工程は、各種サブシステム相互の、機械的 続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管 続等が含まれる。この各種サブシステムか 露光装置への組み立て工程の前に、各サブ ステム個々の組み立て工程があることはい までもない。各種サブシステムの露光装置 の組み立て工程が終了したら、総合調整が われ、露光装置全体としての各種精度が確 される。なお、露光装置の製造は温度およ クリーン度等が管理されたクリーンルーム 行っても良い。

 次に、上述の実施形態にかかる露光装置 用いたデバイス製造方法について説明する 図11は、半導体デバイスの製造工程を示す ローチャートである。図11に示すように、半 導体デバイスの製造工程では、半導体デバイ スの基板となるウェハWに金属膜を蒸着し(ス ップS40)、この蒸着した金属膜上に感光性材 料であるフォトレジストを塗布する(ステッ S42)。つづいて、上述の実施形態の投影露光 置を用い、マスク(レチクル)Mに形成された ターンをウェハW上の各ショット領域に転写 し(ステップS44:露光工程)、この転写が終了し たウェハWの現像、つまりパターンが転写さ たフォトレジストの現像を行う(ステップS46: 現像工程)。その後、ステップS46によってウ ハWの表面に生成されたレジストパターンを スクとし、ウェハWの表面に対してエッチン グ等の加工を行う(ステップS48:加工工程)。

 ここで、レジストパターンとは、上述の 施形態の投影露光装置によって転写された ターンに対応する形状の凹凸が生成された ォトレジスト層であって、その凹部がフォ レジスト層を貫通しているものである。ス ップS48では、このレジストパターンを介し ウェハWの表面の加工を行う。ステップS48で 行われる加工には、例えばウェハWの表面の ッチングまたは金属膜等の成膜の少なくと 一方が含まれる。なお、ステップS44では、 述の実施形態の投影露光装置は、フォトレ ストが塗布されたウェハWを、感光性基板つ りプレートPとしてパターンの転写を行う。

 図12は、液晶表示素子等の液晶デバイス 製造工程を示すフローチャートである。図12 に示すように、液晶デバイスの製造工程では 、パターン形成工程(ステップS50)、カラーフ ルタ形成工程(ステップS52)、セル組立工程( テップS54)およびモジュール組立工程(ステ プS56)を順次行う。

 ステップS50のパターン形成工程では、プ ートPとしてフォトレジストが塗布されたガ ラス基板上に、上述の実施形態の投影露光装 置を用いて回路パターンおよび電極パターン 等の所定のパターンを形成する。このパター ン形成工程には、上述の実施形態の投影露光 装置を用いてフォトレジスト層にパターンを 転写する露光工程と、パターンが転写された プレートPの現像、つまりガラス基板上のフ トレジスト層の現像を行い、パターンに対 する形状のフォトレジスト層を生成する現 工程と、この現像されたフォトレジスト層 介してガラス基板の表面を加工する加工工 とが含まれている。

 ステップS52のカラーフィルタ形成工程で 、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応する3つのドッ トの組をマトリックス状に多数配列するか、 またはR、G、Bの3本のストライプのフィルタ 組を水平走査方向に複数配列したカラーフ ルタを形成する。

 ステップS54のセル組立工程では、ステッ S50によって所定パターンが形成されたガラ 基板と、ステップS52によって形成されたカ ーフィルタとを用いて液晶パネル(液晶セル )を組み立てる。具体的には、例えばガラス 板とカラーフィルタとの間に液晶を注入す ことで液晶パネルを形成する。ステップS56 モジュール組立工程では、ステップS54によ て組み立てられた液晶パネルに対し、この 晶パネルの表示動作を行わせる電気回路お びバックライト等の各種部品を取り付ける

 また、本発明は、半導体デバイス製造用 露光装置への適用に限定されることなく、 えば、角型のガラスプレートに形成される 晶表示素子、若しくはプラズマディスプレ 等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮 素子(CCD等)、マイクロマシーン、薄膜磁気 ッド、及びDNAチップ等の各種デバイスを製 するための露光装置にも広く適用できる。 に、本発明は、各種デバイスのマスクパタ ンが形成されたマスク(フォトマスク、レチ ル等)をフォトリソグラフィ工程を用いて製 造する際の、露光工程(露光装置)にも適用す ことができる。

 なお、上述の実施形態では、露光光としてA rFエキシマレーザ光(波長:193nm)やKrFエキシマ ーザ光(波長:248nm)を用いることができる。ま た、これに限定されることなく、他の適当な レーザ光源、たとえば波長157nmのレーザ光を 給するF 2 レーザ光源などを用いることもできる。

 また、上述の実施形態において、投影光 系と感光性基板との間の光路中を1.1よりも きな屈折率を有する媒体(典型的には液体) 満たす手法、所謂液浸法を適用しても良い この場合、投影光学系と感光性基板との間 光路中に液体を満たす手法としては、国際 開第WO99/49504号パンフレットに開示されてい ような局所的に液体を満たす手法や、特開 6-124873号公報に開示されているような露光 象の基板を保持したステージを液槽の中で 動させる手法や、特開平10-303114号公報に開 されているようなステージ上に所定深さの 体槽を形成し、その中に基板を保持する手 などを採用することができる。ここでは、 際公開第WO99/49504号パンフレット、特開平6-12 4873号公報および特開平10-303114号公報の教示 参照として援用する。

 また、上述の実施形態において、米国特 公開第2006/0170901号公報及び米国特許公開第2 007/0146676号公報に開示されるいわゆる偏光照 方法を適用することも可能である。ここで 、米国特許公開第2006/0170901号公報及び米国 許公開第2007/0146676号公報の教示を参照とし 援用する。

 また、上述の実施形態では、露光装置に いてマスクを照明する照明光学系に対して 発明を適用しているが、これに限定される となく、マスク以外の被照射面を照明する 般的な照明光学系に対して本発明を適用す こともできる。




 
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