Title:
SUBSTRATE STRUCTURE MANUFACTURING METHOD, SUBSTRATE STRUCTURE, ELECTRON EMITTING ELEMENT, ELECTRON EMITTING ELEMENT MANUFACTURING METHOD, ELECTRON SOURCE, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND LAMINATED CHIP
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/001742
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a substrate structure manufacturing method comprising a first step
(S11) of preparing a substrate having at least one fine hole, a second step (S12,
S13) of mounting electrodes and immersing the substrate into a dispersing medium
containing a plurality of inserts, and a third step (S14) of applying a predetermined
voltage to the electrodes.
Inventors:
TAKI, Yusuke (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
瀧 優介 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
KAMEYAMA, Masaomi (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
亀山 雅臣 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
TANAKA, Akira (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
田中 彰 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
YASUKAWA, Tomoyuki (2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai-sh, Miyagi 77, 9808577, JP)
安川 智之 (〒77 宮城県仙台市青葉区片平二丁目１番１号 国立大学法人東北大学内 Miyagi, 9808577, JP)
瀧 優介 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
KAMEYAMA, Masaomi (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
亀山 雅臣 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
TANAKA, Akira (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
田中 彰 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
YASUKAWA, Tomoyuki (2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai-sh, Miyagi 77, 9808577, JP)
安川 智之 (〒77 宮城県仙台市青葉区片平二丁目１番１号 国立大学法人東北大学内 Miyagi, 9808577, JP)
Application Number:
JP2007/062744
Publication Date:
January 03, 2008
Filing Date:
June 26, 2007
Export Citation:
Assignee:
NIKON CORPORATION (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 31, 1008331, JP)
株式会社ニコン (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 Tokyo, 1008331, JP)
TOHOKU UNIVERSITY (2-1-1, Katahira Aoba-ku, Sendai-sh, Miyagi 77, 9808577, JP)
国立大学法人東北大学 (〒77 宮城県仙台市青葉区片平二丁目１番１号 Miyagi, 9808577, JP)
TAKI, Yusuke (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
瀧 優介 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
KAMEYAMA, Masaomi (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
亀山 雅臣 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
TANAKA, Akira (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
田中 彰 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
株式会社ニコン (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 Tokyo, 1008331, JP)
TOHOKU UNIVERSITY (2-1-1, Katahira Aoba-ku, Sendai-sh, Miyagi 77, 9808577, JP)
国立大学法人東北大学 (〒77 宮城県仙台市青葉区片平二丁目１番１号 Miyagi, 9808577, JP)
TAKI, Yusuke (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
瀧 優介 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
KAMEYAMA, Masaomi (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
亀山 雅臣 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
TANAKA, Akira (2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-k, Tokyo 31, 1008331, JP)
田中 彰 (〒31 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株式会社ニコン知的財産本部内 Tokyo, 1008331, JP)
International Classes:
H01J9/02; H01J1/304; H01J29/04; H01J31/12
Attorney, Agent or Firm:
FUJIMOTO, Yoshihiro (VerdyNOGIZAKA 2F, 14-7 Minamiaoyama,1-chom, Minato-ku Tokyo 62, 1070062, JP)
Previous Patent: NICKEL FINE PARTICLE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND FLUID COMPOSITION USING THE SAME
Next Patent: DEHUMIDIFYING/DEOXIDIZING AGENT
Next Patent: DEHUMIDIFYING/DEOXIDIZING AGENT