Title:
SUBSTRATE WASHING METHOD
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2010/104206
Kind Code:
A1
Abstract:
A substrate washing method which is able to be implemented by a simple apparatus configuration and washes a substrate, which has a fine pattern formed thereon, in a short period of time without having a detrimental effect on that fine pattern. The method comprises transporting the wafer (W) from a processing chamber, which processes the surface of the wafer (W) in a predetermined manner, to a washing chamber, which washes the wafer (W); cooling the wafer (W) inside the washing chamber to a predetermined temperature; feeding superfluid helium as a superfluid to the surface of the wafer (W); and washing away the contaminating components in the fine pattern by flushing out the superfluid from the surface of the wafer (W).
Inventors:
MATSUI Hidefumi (650 Mitsuzawa, Hosaka-ch, Nirasaki-shi Yamanashi 92, 〒4070192, JP)
松井 英章 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 〒4070192, JP)
MORIYA Tsuyoshi (Akasaka Biz Tower 3-1, Akasaka 5-chom, Minato-ku Tokyo 25, 〒1076325, JP)
守屋 剛 (〒25 東京都港区赤坂５－３－１ 赤坂Ｂｉｚタワー 東京エレクトロン株式会社内 Tokyo, 〒1076325, JP)
NISHIMURA Eiichi (650 Mitsuzawa, Hosaka-ch, Nirasaki-shi Yamanashi 92, 〒4070192, JP)
西村 栄一 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロンＡＴ株式会社内 Yamanashi, 〒4070192, JP)
松井 英章 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 〒4070192, JP)
MORIYA Tsuyoshi (Akasaka Biz Tower 3-1, Akasaka 5-chom, Minato-ku Tokyo 25, 〒1076325, JP)
守屋 剛 (〒25 東京都港区赤坂５－３－１ 赤坂Ｂｉｚタワー 東京エレクトロン株式会社内 Tokyo, 〒1076325, JP)
NISHIMURA Eiichi (650 Mitsuzawa, Hosaka-ch, Nirasaki-shi Yamanashi 92, 〒4070192, JP)
西村 栄一 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロンＡＴ株式会社内 Yamanashi, 〒4070192, JP)
Application Number:
JP2010/054481
Publication Date:
September 16, 2010
Filing Date:
March 10, 2010
Export Citation:
Assignee:
TOKYO ELECTRON LIMITED (3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku Tokyo, 25, 〒1076325, JP)
東京エレクトロン株式会社 (〒25 東京都港区赤坂五丁目３番１号 Tokyo, 〒1076325, JP)
MATSUI Hidefumi (650 Mitsuzawa, Hosaka-ch, Nirasaki-shi Yamanashi 92, 〒4070192, JP)
松井 英章 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 〒4070192, JP)
MORIYA Tsuyoshi (Akasaka Biz Tower 3-1, Akasaka 5-chom, Minato-ku Tokyo 25, 〒1076325, JP)
守屋 剛 (〒25 東京都港区赤坂５－３－１ 赤坂Ｂｉｚタワー 東京エレクトロン株式会社内 Tokyo, 〒1076325, JP)
NISHIMURA Eiichi (650 Mitsuzawa, Hosaka-ch, Nirasaki-shi Yamanashi 92, 〒4070192, JP)
東京エレクトロン株式会社 (〒25 東京都港区赤坂五丁目３番１号 Tokyo, 〒1076325, JP)
MATSUI Hidefumi (650 Mitsuzawa, Hosaka-ch, Nirasaki-shi Yamanashi 92, 〒4070192, JP)
松井 英章 (〒92 山梨県韮崎市穂坂町三ツ沢６５０ 東京エレクトロン株式会社内 Yamanashi, 〒4070192, JP)
MORIYA Tsuyoshi (Akasaka Biz Tower 3-1, Akasaka 5-chom, Minato-ku Tokyo 25, 〒1076325, JP)
守屋 剛 (〒25 東京都港区赤坂５－３－１ 赤坂Ｂｉｚタワー 東京エレクトロン株式会社内 Tokyo, 〒1076325, JP)
NISHIMURA Eiichi (650 Mitsuzawa, Hosaka-ch, Nirasaki-shi Yamanashi 92, 〒4070192, JP)
International Classes:
H01L21/304; B08B3/08; B08B3/10; B08B3/14; B08B7/00; H01L21/3065
Attorney, Agent or Firm:
BECCHAKU Shigehisa et al. (Matsuoaka Tamuracho Bldg. 7th Floor, 22-10 Shinbashi 5-chome, Minato-k, Tokyo 04, 〒1050004, JP)
Download PDF:
Previous Patent: 7-CYCLOALKYLAMINOQUINOLONES AS GSK-3 INHIBITORS
Next Patent: SUBSTRATE CLEANING METHOD
Next Patent: SUBSTRATE CLEANING METHOD