Title:
SUPERCONDUCTING THIN FILM MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2007/135832
Kind Code:
A1
Abstract:
Disclosed is a superconducting thin film material (1) having excellent characteristics
such as high JC and high IC, which can be produced at low cost.
The superconducting thin film material (1) comprises a metal textured substrate
(10) and an oxide superconducting film (30) formed on the metal textured substrate
(10). The oxide superconducting film (30) comprises a physically deposited
HoBCO layer (31) formed by physical deposition and a metal organic deposited
HoBCO layer (32) formed on the physically deposited HoBCO layer (31) by metal
organic deposition.
Inventors:
HAHAKURA, Shuji (1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku, Osaka-sh, Osaka 24, 5540024, JP)
母倉 修司 (〒24 大阪府大阪市此花区島屋一丁目１番３号 住友電気工業株式会社 大阪製作所内 Osaka, 5540024, JP)
OHMATSU, Kazuya (1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku, Osaka-sh, Osaka 24, 5540024, JP)
大松 一也 (〒24 大阪府大阪市此花区島屋一丁目１番３号 住友電気工業株式会社 大阪製作所内 Osaka, 5540024, JP)
母倉 修司 (〒24 大阪府大阪市此花区島屋一丁目１番３号 住友電気工業株式会社 大阪製作所内 Osaka, 5540024, JP)
OHMATSU, Kazuya (1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku, Osaka-sh, Osaka 24, 5540024, JP)
大松 一也 (〒24 大阪府大阪市此花区島屋一丁目１番３号 住友電気工業株式会社 大阪製作所内 Osaka, 5540024, JP)
Application Number:
JP2007/058657
Publication Date:
November 29, 2007
Filing Date:
April 20, 2007
Export Citation:
Assignee:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. (5-33, Kitahama 4-chome Chuo-ku, Osaka-sh, Osaka 41, 5410041, JP)
住友電気工業株式会社 (〒41 大阪府大阪市中央区北浜四丁目５番３３号 Osaka, 5410041, JP)
INTERNATIONAL SUPERCONDUCTIVITY TECHNOLOGY CENTER, THE JURIDICAL FOUNDATION (Eishin Kaihatsu BLDG. 6F, 5-34-3 Shinbashi, Minato-k, Tokyo 04, 1050004, JP)
財団法人 国際超電導産業技術研究センター (〒04 東京都港区新橋５丁目３４番３号 栄進開発ビル６階 Tokyo, 1050004, JP)
HAHAKURA, Shuji (1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku, Osaka-sh, Osaka 24, 5540024, JP)
母倉 修司 (〒24 大阪府大阪市此花区島屋一丁目１番３号 住友電気工業株式会社 大阪製作所内 Osaka, 5540024, JP)
住友電気工業株式会社 (〒41 大阪府大阪市中央区北浜四丁目５番３３号 Osaka, 5410041, JP)
INTERNATIONAL SUPERCONDUCTIVITY TECHNOLOGY CENTER, THE JURIDICAL FOUNDATION (Eishin Kaihatsu BLDG. 6F, 5-34-3 Shinbashi, Minato-k, Tokyo 04, 1050004, JP)
財団法人 国際超電導産業技術研究センター (〒04 東京都港区新橋５丁目３４番３号 栄進開発ビル６階 Tokyo, 1050004, JP)
HAHAKURA, Shuji (1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku, Osaka-sh, Osaka 24, 5540024, JP)
母倉 修司 (〒24 大阪府大阪市此花区島屋一丁目１番３号 住友電気工業株式会社 大阪製作所内 Osaka, 5540024, JP)
International Classes:
H01B12/06; C23C14/08; C23C16/40; H01B13/00; H01L21/205; H01L39/24; H01B12/06; C23C14/08; C23C16/40; H01B13/00; H01L21/02; H01L39/24
Attorney, Agent or Firm:
FUKAMI, Hisao et al. (Fukami Patent Office, Nakanoshima Central Tower 22nd Floor, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-sh, Osaka 05, 5300005, JP)