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Title:
TEMPERATURE-COMPENSATED TIMEPIECE RESONATOR AND METHOD FOR PRODUCING SUCH A RESONATOR
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2016/199039
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a resonator that is intended for equipping a timepiece control member and comprises a body (1) that is used when deformed. The body (1) is made of a glass material having a first thermoelastic coefficient (β1). Said glass material comprises a portion (3) that is locally modified such that said modified portion (3) has a second thermoelastic coefficient (02) that is different from the first thermoelastic coefficient (01), such that the resonator is temperature-compensated. The present invention also relates to a method for manufacturing said resonator. The invention also relates to a balance spring made of a material that is not necessarily glass but that is transparent at laser wavelengths.

Inventors:
TOBENAS BORRON, Susana Del Carmen (Guinandstrasse 4, 2555 Brügg, 2555, CH)
Application Number:
IB2016/053369
Publication Date:
December 15, 2016
Filing Date:
June 08, 2016
Export Citation:
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Assignee:
RICHEMONT INTERNATIONAL SA (Route des Biches 10, 1752 Villars-sur-Glâne, 1752, CH)
International Classes:
G04B17/22
Foreign References:
EP1958031A22008-08-20
EP2590325A12013-05-08
JPH06117470A1994-04-26
EP1422436A12004-05-26
EP2590325A12013-05-08
EP1958031A22008-08-20
Other References:
BROKMANN U ET AL: "UV LASER RADIATION FOR MICROSTRUCTURING OF PHOTOSTRUCTURABLE GLASSES", GLASS SCIENCE AND TECHNOLOGY, DGG, DEUTSCHLAND, vol. 77, no. 5, 1 September 2004 (2004-09-01), pages 249 - 252, XP001214068, ISSN: 0946-7475
BERRY; PRITCHET, IBM TECHNICAL DISCLOSURE BULLETIN #1237, vol. 14, no. 4, 1971
SHEN ET AL., SENSORS & ACTUATORS A 95, 2001
Attorney, Agent or Firm:
P&TS SA (AG, LTD.) (Av. J.-J. Rousseau 4, P.O. Box 2848, 2001 Neuchâtel, 2001, CH)
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Claims:
Revendications

1. Résonateur destiné à équiper un organe régulateur d'une pièce d'horlogerie et comportant un corps utilisé en déformation (1), le corps (1) étant réalisé dans un matériau vitreux ayant un premier coefficient thermoélastique (βι),

caractérisé en ce que ledit matériau vitreux comporte une portion localement modifiée (3) de manière à ce que ladite portion modifiée (3) ait un second coefficient thermoélastique (β2) différent du premier coefficient thermoélastique (βι), de sorte à que le résonateur soit thermocompensé . 2. Résonateur selon la revendication 1

dans lequel ledit matériau vitreux est modifié par irradiation.

3. Résonateur selon la revendication 2

dans lequel ladite irradiation est une irradiation laser.

4. Résonateur selon l'une des revendications 1 à 3

dans lequel le matériau vitreux a un coefficient de dilatation thermique inférieur à 1 ppm/°C.

5. Résonateur selon la revendication 4

dans lequel le matériau vitreux comprend une silice amorphe pure, un borosilicate, un aluminosilicate, ou un verre à base de silice avec un taux d'impuretés contrôlé.

6. Résonateur selon l'une des revendications 1 à 5

dans lequel la portion modifiée (3) a une densité qui diffère de la densité matériau vitreux.

7. Résonateur selon la revendication 6

dans lequel la portion modifiée (3) comprend une silice amorphe ayant été modifiée par la création d'un polymorphe cristallin.

8. Résonateur selon la revendication 7

dans lequel le polymorphe cristallin comprend l'un de: quartz alpha, quartz beta, stishovite, tridymite, calcédoine ou cristobalite.

9. Résonateur selon la revendication 6

dans lequel la portion modifiée (3) comprend des clusters métalliques en présence ou pas d'impuretés.

10. Résonateur selon la revendication 6

dans lequel la portion modifiée (3) comprend une région densifiée par incrément local de la température fictive d'une silice ou une zone

structurellement modifié par à un mécanisme d'absorption non linaire.

11. Résonateur selon l'une des revendications 1 à 10

dans lequel ledit matériau vitreux a également un premier coefficient d'expansion thermique (ai); et

dans lequel la portion modifiée (3) a un second coefficient d'expansion thermique (002) différent du premier coefficient d'expansion thermique (ai).

12. Résonateur selon l'une des revendications 1 à 11

dans lequel ledit matériau vitreux a également un premier module de Young (E1); et

dans lequel la portion modifiée (3) a un second module de Young (E2) différent du premier module de Young (E1).

13. Résonateur selon l'une des revendications 1 à 12 caractérisé en ce qu'il est un ressort-spiral (1).

14. Résonateur selon la revendication 13

dans lequel la configuration géométrique et/ou de la valeur du second coefficient thermoélastique (β2) dans de la portion modifiée (3) varient le long du ressort-spiral (1).

15. Pièce d'horlogerie comprenant le résonateur selon l'une des revendications 1 à 14.

16. Méthode de fabrication du résonateur selon l'une des revendications 1 à 14, comprenant:

usiner une pièce de matériau vitreux ayant un premier CTE (βι) afin de former le corps utilisé en déformation (1) du résonateur; et

modifier localement le matériau vitreux de manière à former ladite portion modifiée (3) ayant un second CTE (β2) différent du premier CTE (β .

17. Méthode selon la revendication 16,

dans laquelle ladite modification locale est réalisée par irradiation. 18. Méthode selon la revendication 17,

dans laquelle ladite irradiation est un traitement laser.

19. Méthode selon la revendication 18,

dans laquelle le laser est opéré en régime non-ablatif.

20. Méthode selon l'une des revendications 16 à 19,

dans laquelle ladite modification locale comprend une modification de la densité de la matière vitreuse.

21. Méthode selon l'une des revendications 18 à 20,

dans laquelle le laser est un laser focalisé à l'échelle nanométrique ou micrométrique. 22. Méthode selon l'une des revendications 18 à 21,

dans laquelle le laser utilise des impulsions ultracourtes comprises entre quelques femtosecondes à quelques nanosecondes.

23. Méthode selon l'une des revendications 16 à 22

dans laquelle l'usinage peut être réalisé par un procédé de gravure chimique, par un procédé de gravure physique ou par une combinaison des deux procédés.

24. Méthode selon l'une des revendications 16 à 23

dans laquelle l'étape de former ladite portion modifiée (3) est réalisée avant, simultanément ou après l'étape d'usinage.

25. Résonateur destiné à équiper un organe régulateur d'une pièce d'horlogerie et comportant un corps utilisé en déformation (1), le corps (1) étant réalisé dans un matériau transparent aux longueurs d'ondes d'un laser et ayant un premier module de Young (Ei),

caractérisé en ce que

ledit matériau comporte une portion localement modifiée (3) de manière à ce que ladite portion modifiée (3) ait un second module de Young (E2) qui diffère du premier module de Young (E1) de la portion non modifiée du matériau.

26. Résonateur selon la revendication 25

dans lequel le matériau a une première raideur (K1) et ladite portion modifiée (3) a une seconde raideur (K2) qui diffère de la première raideur (Ki).

27. Résonateur selon la revendication 25 ou 26

dans lequel ladite portion modifiée (3) se trouve dans la courbe terminale extérieure (5) et/ou dans la courbe terminale intérieure (4) du ressort-spiral (1).

28. Résonateur selon l'une des revendications 25 à 27

dans lequel ladite portion modifiée (3) comporte des contraintes internes qui diffèrent de celles de la portion non modifiée du matériau.

29. Méthode de fabrication du résonateur selon l'une des revendications 25 à 28, comprenant:

usiner une pièce de matériau ayant un premier module de Young (Ei) afin de former le corps utilisé en déformation (1) du résonateur; et modifier localement le matériau de manière à former ladite portion modifiée (3) ayant un second module de Young (E2) différent du premier module de Young (E1).

30. Méthode selon la revendication 29,

dans laquelle le matériau a une première raideur (Ki) et ladite portion modifiée (3) est modifiée de manière à avoir une seconde raideur (K2) qui diffère de la première raideur (K1). 31. Méthode selon la revendication 30,

dans laquelle la seconde raideur (K2) de la portion modifiée (3) est modifiée de manière à ajuster la fréquence du ressort-spiral (1).

32. Méthode selon la revendication 31,

dans laquelle la fréquence du ressort-spiral (1) est ajustée avant son assemblage avec un balancier.

33. Méthode selon la revendication 31 ou 32,

dans laquelle la fréquence du ressort-spiral (1) est ajustée de manière à appairer le ressort-spiral (1) avec un balancier.

34. Méthode selon l'une des revendications 29 à 33,

dans laquelle ladite irradiation est un traitement laser.

35. Méthode selon la revendication 34,

dans laquelle ladite irradiation est un traitement laser femtosecondes.

Description:
Résonateur horloger thermocompensé et méthode pour réaliser un tel résonateur

Domaine technique

[0001] L'invention se rapporte à un résonateur thermocompensé destiné à équiper un organe régulateur d'une pièce d'horlogerie ainsi qu'à une méthode de fabrication dudit résonateur. L'invention se rapporte également à un résonateur dont la valeur ajustée du module de Young et/ou de la raideur est ajustée.

Etat de la technique

[0002] La base de temps d'une pièce d'horlogerie fait appel à un résonateur dont les oscillations doivent être entretenues. Un résonateur avec une fréquence de résonance donnée remplit le plus souvent des cas cette fonction. Il est connu, notamment, des résonateurs tels que le pendule (qui fait intervenir la gravité), le quartz (piézoélectricité), le diapason (lames vibrantes) ou encore les ressorts de rappel de formes plus diverses, selon qu'ils sont conçus pour osciller sur de grandes ou de petites amplitudes.

[0003] En particulier, dans la plupart des montres mécaniques, l'organe réglant est constitué par l'ensemble balancier/spiral. Le ressort-spiral est dans ce cas fixé par une extrémité sur l'axe de balancier et par l'autre extrémité sur un pont dans lequel pivote l'axe du balancier. De cette manière, le ressort se contracte et se détend de manière alternative autour de son centre durant les oscillations du balancier. Depuis sa création, quelques centaines d'années en arrière, et jusqu'à nos jours, les ressorts spiraux sont principalement fabriqués à partir d'une lame métallique de section rectangulaire enroulée sur elle-même sous forme de spiral d'Archimède.

[0004] Les ressorts-spiraux métalliques actuels sont principalement réalisés à base de FeNiCr (communément appelé élinvar) ou de NbZr, ce dernier ayant en plus du premier une susceptibilité magnétique réduite. Le choix de ces matériaux est principalement dicté par le besoin d'avoir un résonateur dont les propriétés mécaniques et géométriques varient le moins possible lors de changements de température auxquels peut être exposée la montre, à savoir une plage pouvant aller jusqu'à une

soixantaine de degrés, plus spécifiquement dans une plage de 8 à 38 °C pour les montres certifiées devant répondre aux critères régissant la certification « chronomètre ».

[0005] Ces résonateurs sont difficiles à fabriquer. Il s'agit de garantir la maîtrise et la répétabilité des procédés de fabrication métallurgiques complexes ayant un impact définitif dans les propriétés mécaniques intrinsèques du ressort-spiral. De faibles variations de composition chimique de l'alliage, de traitements thermiques, de taux d'écrouissage de la matière lors de sa transformation d'un lingot à un fil fin, ou encore des imprécisions géométriques des fils produits sont à l'origine de grandes variations dans les propriétés mécaniques des spiraux produits. Des opérations de retouche du ressort-spiral lors du réglage de la montre sont effectuées afin de pallier en partie à ces inconvénients.

[0006] De plus, l'amplitude élevée du balancier et un couple faible d'entretien de ses oscillations ont favorisé le développement d'un ressort en forme de spiral pour équiper l'organe réglant des montres mécaniques. Cette forme géométrique présente cependant des inconvénients, comme par exemple l'action de la gravité. En effet, les faibles déformations dues au propre poids du spiral peuvent induire des défauts dans le

développement concentrique du spiral autour de l'axe du balancier et donc affecter la précision de la montre.

[0007] D'autre part, certains alliages métalliques très répandus dans la fabrication de spiraux, comme ceux à base de FeNiCr, sont sensibles à l'action d'un champ magnétique. [0008] Une alternative aux résonateurs métalliques a été proposée sur la base de silicium. Ce matériau arbore un certain nombre d'avantages, comme des propriétés mécaniques stables, une insensibilité aux champs magnétiques, des procédés de microfabrication (DRIE notamment) permettant une grande précision et reproductibilité des géométries, une densité faible, donc des perturbations dues à la gravité réduites, et un facteur de qualité élevé. Le brevet JPH06117470 (Yokogawa, 1992) mentionne notamment un ressort-spiral réalisé dans un tel matériau.

[0009] Le coefficient thermoélastique négatif du module d'élasticité de ce matériau est cependant trop important pour garantir la précision de fréquence d'un tel résonateur. Des recherches sur le sujet ont mené à l'ajout d'une couche d'un matériau dont le coefficient thermoélastique est opposé à celui du silicium. Ainsi, Berry et Pritchet (IBM Technical Disclosure Bulletin #1237, Vol. 14, No. 4, 1971) ont montré que la silice amorphe (Si0 2 ) répondait avantageusement à cette condition. C'est ce que Shen et al.

(Sensors & Actuators A 95, 2001) ont vérifié, exposant les calculs permettant d'optimiser l'épaisseur de cette couche pour une épaisseur donnée du barreau d'un résonateur en silicium monocristallin ou polycristallin, indiquant que la même démarche peut être utilisée pour tout autre matériau de résonateur.

[0010] Le document EP1422436 divulgue un ressort spiral issu du découpage d'une plaque {001} en Silicium. Cette invention a pour but de pallier les inconvénients décrits ci-dessus proposant un spiral dont la sensibilité aux variations de température et aux champs magnétiques est minimisée. De plus la technologie de fabrication de précision (Ion Etching) proposée pour la mise en forme de ces spiraux, combinée à une

modélisation et une compensation de l'anisotropie due à l'orientation cristalline du matériau, permet de réduire les retouches de l'organe réglant et d'améliorer la reproductibilité du procédé.

[0011] Cependant, la dérive de la fréquence des résonateurs fabriqués en silicium monocristallin peut nécessiter des corrections complexes selon les applications. Ceci vient du caractère anisotrope des grandeurs physiques comme le module de Young et le coefficient de dilatation thermique de ce matériau. [0012] Le but de l'invention décrite dans le document EP2590325 est de pallier au moins en partie à l'inconvénient cité précédemment. Ce document divulgue un résonateur thermocompensé comportant un ressort en céramique dont la surface est revêtue avec au moins un deuxième matériau dont le CTE (coefficient thermoélastique) est de signe opposé au CTE du matériau utilisé pour l'âme du ressort.

[0013] L'utilisation de revêtements dans les résonateurs de montres compromet leur robustesse mécanique. Les revêtements déposés sur les ressorts doivent supporter des contraintes très importantes. Typiquement ces contraintes se concentrent à proximité de l'interface revêtement- substrat. La répétition des déformations lors du développement

concentrique du ressort (armage et désarmage) peut donc résulter dans la cassure du revêtement ou dans sa délamination, ceci entraînant un changement sensible de la fréquence d'oscillation. [0014] Nous mentionnons enfin le brevet EP1958031 qui fait état d'une compensation thermique par modification des propriétés thermoélastiques d'un verre dit photostructurable suite à l'exposition à une source UV. Cette technique présente plusieurs limitations inhérentes au choix du matériau et du procédé. Le matériau est d'une part limité à une catégorie particulière de verres dits « photostructurables », qui sont des verres dopés notamment avec un élément photoactif comme le cérium et avec un agent de

nucléation comme l'argent. Lors de l'exposition de l'élément photoactif à la radiation ultraviolette ce dernier est photoionisé, ceci donnant lieu à un électron. Ces électrons seront donc piégés par la suite par les agents de nucléation ce qui permettra la formation de centres de nucléation ou des clusters à l'origine du processus de formation de nano ou de microcristaux dans la matrice vitreuse. Le processus décrit précédemment est très dépendant de la température, raison pour laquelle des traitements thermiques conséquents (T > 500°C) sont requis afin de compléter (figer ?)le processus de photostructuration de ce type de matériaux.

[0015] D'autre part le procédé de photostructuration décrit dans le brevet EP1958031 nécessite l'utilisation de masques afin de cacher quelques zones de la matière photostructurable de l'exposition au rayonnement UV. Il n'est donc pas possible par ce procédé de réaliser des modifications locales de la matière photostructurable sans que la partie de la couche extérieure du substrat située entre les zones modifiées et la source lumineuse ne soit elle aussi modifiée. Enfin, ce procédé se limite aux longueurs d'onde UV de la lumière et à l'utilisation des outillages spécifiques.

Bref résumé de l'invention

[0016] Dans le cadre de la présente invention, on propose de palier à ces inconvénients en proposant un résonateur destiné à équiper un organe régulateur, ou résonateur, d'une pièce d'horlogerie, le résonateur comportant un corps utilisé en déformation et étant réalisé dans un matériau vitreux ayant un premier coefficient thermoélastique (CTE), ledit matériau vitreux comportant une portion modifiée de manière à ce que ladite portion modifiée ait un second CTE différent du premier CTE, de sorte à que le résonateur soit thermocompensé.

[0017] La présente invention se rapporte également à une méthode de fabrication du résonateur, comprenant les étapes d'usiner une pièce de matériau vitreux ayant un premier CTE afin de former le corps utilisé en déformation du résonateur; et de modifier localement le matériau vitreux de manière à former ladite portion modifiée ayant un second CTE différent du premier CTE.

[0018] Dans un mode de réalisation, la modification locale est réalisée à l'aide d'un procédé d'irradiation tel qu'un traitement laser. Le procédé d'irradiation peut faire intervenir une absorption multiphotonique dans le matériau vitreux.

[0019] La portion modifiée est ajustée de manière à ce que ses propriétés physiques compensent les propriétés physiques du reste du matériau vitreux (portion non modifiée). De la sorte, le résonateur est thermocompensé, et sa raideur peut elle aussi être ajustée. [0020] Le résonateur ainsi obtenu est amagnétique et thermocompensé tout en évitant l'utilisation de revêtements.

[0021] L'invention concerne également un ressort-spiral réalisé dans un matériau qui n'est pas nécessairement vitreux mais qui est transparent aux longueurs d'ondes d'un laser (de type femtoseconde). Par exemple, la présente invention concerne un ressort-spiral réalisé dans un matériau partiellement, voire entièrement cristallin, comprenant notamment des verres, du silicium (monocristallin, polycristallin), des vitrocéramiques, des céramiques, etc. [0022] Selon un mode de réalisation, une pièce d'horlogerie comporte un corps utilisé en déformation, le corps étant réalisé dans un matériau transparent aux longueurs d'ondes d'un laser et ayant un premier module de Young; ledit matériau comportant une portion localement modifiée de manière à ce que ladite portion modifiée ait un second module de Young qui diffère du premier module de Young de la portion non modifiée du matériau.

[0023] Le matériau peut également comporter une portion localement modifiée de manière à ce que ladite portion modifiée ait une seconde raideur qui diffère de la première raideur du matériau non modifié. [0024] L'invention concerne également une méthode de fabrication du résonateur, comprenant les étapes:

d'usiner une pièce de matériau ayant un premier module de Young afin de former le corps utilisé en déformation du résonateur; et de modifier localement le matériau de manière à former ladite portion modifiée ayant un second module de Young différent du premier module de Young.

[0025] Le matériau peut également être modifié localement de manière à former ladite portion modifiée ayant une second raideur différente de la premier raideur du matériau non modifié. [0026] Selon une forme d'exécution, la méthode comprend l'ajustement de la fréquence du ressort-spiral. Cet ajustement peut être réalisé avant est l'assemblage du ressort-spiral avec un balancier.

[0027] Encore selon une forme d'exécution, la fréquence du ressort- spiral est ajusté de manière à appairer le ressort-spiral avec le balancier.

Brève description des figures

[0028] Des exemples de mise en œuvre de l'invention sont indiqués dans la description illustrée par les figures annexées dans lesquelles :

les figures 1 à 6 représentent une vue en coupe d'une lame d'un ressort-spiral, selon un mode de réalisation;

la figure 7 montre une vue de dessus d'un ressort-spiral 1 selon un mode de réalisation;

la figure 8 montre un détail d'une section du ressort-spiral de la figure 7;

la figure 9 montre un wafer en matériau vitreux dans lequel est fabriquée une pluralité de ressorts-spiraux, selon un mode de réalisation;

la figure 10 est une vue en coupe du wafer de la figure 9 pendant un procédé d'irradiation, selon un mode de réalisation; et

la figure 11 illustre la vue en coupe de la figure 9 après une étape d'usinage, selon un mode de réalisation.

Exemple(s) de mode de réalisation de l'invention [0029] Selon un mode de réalisation, un ressort-spiral destiné à équiper un résonateur de type balancier-spiral d'une montre mécanique est réalisé dans un matériau vitreux. Ici, l'expression "matériau vitreux" comprend notamment des matériaux pseudo-amorphes (c'est-à-dire non cristallins) présentant le phénomène de transition vitreuse. La transition vitreuse est un phénomène réversible de transition entre la forme dure et la forme « fondue » ou caoutchouteuse d'un matériau amorphe. La température de transition vitreuse d'un matériau amorphe est toujours plus basse que le point de fusion de sa forme cristalline. On entend également par " matériau vitreux" un matériau étant partiellement vitreux (donc au moins

partiellement amorphe). [0030] Le matériau vitreux peut comprendre n'importe quel verre tel que défini ci-dessus. De manière préférée, le matériau vitreux possède un faible coefficient de dilatation thermique, c'est-à-dire inférieur à 1 ppm/°C. Par exemple, le matériau vitreux est à base de silice (aSi02 amorphe) ayant un coefficient de dilatation thermique d'environ 0.5 ppm/°C. Par exemple, le matériau vitreux peut comprendre une silice amorphe pure, un borosilicate, un aluminosilicate, ou un verre à base de silice avec un taux d'impuretés contrôlé.

[0031 ] Selon le mode de réalisation, le ressort-spiral 1 comprend un matériau vitreux ayant un premier βι. Le matériau vitreux est localement modifié de sorte à produire une portion modifiée 3 à même le matériau vitreux, la portion modifiée 3 du matériau vitreux ayant un second CTE β2 différent du premier CTE βι. Autrement dit, la portion modifiée comprend ledit matériau vitreux ayant subi, localement, des modifications

structurelles. De la sorte, le ressort-spiral 1 est caractérisé par un CTE effectif β β qui est défini par la combinaison du premier CTE βι et du second CTE β2. La présence de la portion modifiée permet de minimiser la dérive thermique du résonateur formé par le ressort-spiral et le balancier.

[0032] Le matériau vitreux a également un premier coefficient

d'expansion thermique i et la portion modifiée a un second coefficient d'expansion thermique 0C2 qui peut être différent du premier d'expansion thermique ai. Le matériau vitreux a également un premier module de Young Ei et la portion modifiée a un second module de Young E2 qui peut être différent du premier module de Young E L Le ressort-spiral 1 est donc également caractérisé par un coefficient d'expansion thermique effectif a e ff qui est défini par la combinaison du premier et second coefficient

d'expansion thermique ai, 0C2 et par un module de Young effectif E e ff qui est défini par la combinaison du premier et second module de Young E1, E2. [0033] Les figures 1 à 6 représentent une section de la lame d'un ressort- spiral 1 comprenant une matrice dans un matériau au moins partiellement vitreux 2 et une portion modifiée 3. Ladite portion modifiée peut

comprendre une zone modifiée centrale 3 (figures 1 et 4), deux zones modifiées surfaciques 3 (figures 2 et 3), ou encore une pluralité de zones modifiées 3 distribuées dans la matrice de matériau vitreux (figures 5 et 6). Sans être limitatif aux variantes illustrées, les zones exposées 3 pourront avoir des géométries et des répartitions variées, une asymétrie de ces zones pouvant aussi être choisie pour pallier à des contraintes de compression et de traction différentes par rapport à la fibre neutre de la lame. Ces différentes géométries peuvent être, si nécessaire, combinées sur des portions réparties le long de la lame pour respecter l'isotropie du matériau ou pour répondre à d'autres besoins. Les zones exposées 3 peuvent se trouver en n'importe quel endroit de la lame, de préférence sans contact avec la surface de celle-ci.

[0034] La configuration de la portion modifiée 3 peut également varier le long du ressort-spiral 1. En particulier, cette variation peut comprendre la configuration géométrique de la portion modifiée 3 qui varie le long du ressort-spiral 1, mais aussi une variation de la valeur du second CTE β2, et possiblement également du second coefficient d'expansion thermique 0C2 et du second module de Young E2,dans les différentes portions modifiées 3, le long du ressort-spiral 1. La portion modifiée 3 peut être arrangée de manière à s'étendre dans la direction longitudinale du ressort-spiral 1 de manière continue (telle des fibres continues) ou de manière discontinue. De la même manière, des géométries allongées de la portion modifiée 3 pourront être orientées dans n'importe quelle direction, de préférence dans la direction longitudinale du ressort-spiral 1.

[0035] Afin de profiter de la haute précision et répétabilité des procédés de microfabrication et du procédé de thermocompensation proposé, la géométrie du ressort-spiral 1 pourra de manière avantageuse intégrer des moyens d'attache à ses deux extrémités, comme ils sont connus de l'homme du métier, avec des moyens de montage rigides ou, de préférence, élastiques. Pour des besoins d'identification divers (appairage, etc.), des références d'identification pourront être micro-gravés sur le ressort-spiral

[0036] La dérive thermique du résonateur concerne les variations relatives de la fréquence d'oscillation de l'organe réglant suite à des changements de température dans la plage de 8 à 38°C. Les variations relatives de fréquence avec la température dépendent principalement du coefficient d'expansion thermique effectif oc e ff et du CTE effectif e ff du ressort-spiral 1.

[0037] Dans le cas particulier du résonateur, la fréquence d'oscillati peut être écrite selon:

où K est la raideur du ressort-spiral et / le moment d'inertie du balancier. Ce dernier est décrit par l'équation (2):

/ = mr 2 (2) où m est la masse du balancier et r est le rayon de giration du balancier, et K est décrit par l'équation (3):

K = Hîl (3)

12L

où Eeff est le module de Young effectif du ressort-spiral, h la hauteur ressort-spiral, e l'épaisseur ressort-spiral et L la longueur ressort-spiral. [0038] En première approximation la variation relative de la fréquence en fonction de la température peut être formulée selon:

où A est une constante, e ff le coefficient thermoélastique effectif du ressort-spiral, oc e ff le coefficient d'expansion thermique effectif du ressort- spiral, b le coefficient expansion thermique du balancier. [0039] Si l'on cherche à minimiser la dérive thermique de la fréquence du résonateur, il faudrait satisfaire la relation suivante:

[0040] Comme le CTE de la plupart de métaux est très négatif, de l'ordre de 1000 ppm/C, et le coefficient d'expansion thermique est plutôt de l'ordre de 10 ppm/C, des alliages complexes comme le Nivarox CT® ou le Parachrom® ont dû être développés afin de satisfaire l'équation

précédente.

[0041] Dans le cas de l'utilisation du silicium monocristallin (CTE ~ -60 ppm/C), on obtient la thermo compensation grâce à la croissance d'une couche de S1O2 amorphe autour de l'âme du ressort-ressort. Le S1O2 amorphe est une des rares matières présentant un CTE positif, de l'ordre de 200 ppm/C. L'épaisseur de la couche de S1O2 pour la thermocompensation du ressort-spiral est prédite en fonction des dimensions de la lame du ressort-spiral comme décrit dans le document EP1422436. Le CTE du ressort- spiral est dans ce cas un CTE effectif p e ff comprenant la contribution de l'âme en silicium monocristallin du ressort-spiral et la contribution de la couche extérieure en S1O2 amorphe. Ce CTE effectif p e ff satisfait l'équation (6) pour autant que le b soit connu et que le a du ressort-spiral ne diffère pas significativement du a de l'âme: β βΠ = 2a b - 3a (6).

[0042] Dans la présente invention, lesdites modifications structurelles du matériau vitreux résultent dans un second CTE β2 du matériau vitreux localement modifié (portion modifiée) qui diffère du premier CTE βι du matériau vitreux non-modifié. Le ressort-spiral a donc un CTE effectif p e ff qui diffère de celui qu'il aurait en absence de la portion modifiée (qui correspondrait alors au premier CTE βι). L'équation (6) peut donc être satisfaite pour le résonateur à l'aide des contributions du premier CTE βι et du second CTE β2 au CTE effectif p e ff . [0043] Un avantage de la solution proposée est qu'il n'est pas nécessaire d'ajouter ni de faire croître une matière différente à celle formant le ressort-spiral pour modifier le CTE effectif p e ff du ressort-spiral. De plus, le second CTE β2 peut être modulé de façon contrôlée. [0044] Selon un mode de réalisation, un procédé de fabrication du résonateur, comprend les étapes:

d'usiner une pièce d'un matériau vitreux ayant un premier CTE βι afin de former le résonateur; et

de modifier localement le matériau vitreux de manière à former ladite portion modifiée 3 ayant un second CTE β2 différent du premier CTE βι-

[0045] L'étape d'usinage peut être réalisée par un procédé de gravure chimique, par un procédé de gravure physique ou par une combinaison des deux procédés. [0046] L'étape de former ladite portion modifiée 3 peut être réalisée avant, au cours de ou après l'étape d'usinage. Dans le cas où la formation de la portion modifiée 3 est réalisée avant l'étape d'usinage, le procédé peut en outre comprendre une autre étape de formation de la portion modifiée, après l'étape d'usinage. [0047] Dans un mode de réalisation, l'étape de modifier localement le matériau vitreux comprend un traitement laser.

[0048] Dans une variante, le laser est opéré en régime non ablatif. C'est- à-dire qu'on n'enlève pas de la matière dans la zone où le laser est focalisé.

[0049] Selon un mode de réalisation, le laser utilise des durées

d'impulsions ultracourtes, c'est-à-dire des durées d'impulsions comprises entre quelques femtosecondes à quelques nanosecondes, et

préférablement entre quelques femtosecondes à quelques picosecondes. [0050] Des durées d'impulsions laser ultracourtes induisent des modifications structurelles issues de phénomènes non linéaires complexes qui donnent lieu aussi à une modification locale du CTE du module d'élasticité ainsi que du module d'élasticité lui-même. [0051] En particulier, l'utilisation de durées d'impulsion comprises entre quelques femtosecondes et quelques picosecondes favorisent des

mécanismes d'interaction radiation-matière basés sur l'absorption

multiphotonique.

[0052] Des durées d'impulsion comprises entre quelques femtosecondes et quelques nanosecondes peuvent être obtenues avec plusieurs types de lasers de longueurs d'onde très diverses comme par exemple, et de préférence, un laser Ti :Sapphire (650 à 1 100 nm), un laser Yb (1030 nm) ou encore un laser dans l'infrarouge moyen (mid infrared, 1050 nm).

[0053] En fonction de la combinaison des paramètres d'opération du laser, notamment de la durée de pulsation, de la puissance et du taux de répétition, la nature précise de l'interaction laser-matière sera différente. Cependant, pour autant qu'une modification structurelle puisse avoir lieu, le premier CTE βι de la matrice vitreuse sera modifié, au moins localement de sorte à obtenir la portion modifiée 3 ayant le second CTE β2. Le même raisonnement s'applique également pour obtenir la portion modifiée 3 ayant le second coefficient d'expansion thermique 0C2 différent du premier d'expansion thermique i et ayant un second module de Young E2 différent du premier module de Young E L

[0054] Un tel traitement laser permettrait de modifier le CTE effectif e ff du ressort-spiral 1, de modifier le coefficient d'expansion thermique effectif oceff et/ou d'ajuster la valeur du module de Young effectif E e ff dudit ressort 1. Combiné avec la possibilité de travailler au « cas par cas », l'ajustement fin du module de Young effectif E e ff du ressort 1 permet d'ajuster sa raideur (et donc la fréquence du résonateur) sans avoir besoin de modifier ni la hauteur ni l'épaisseur du corps vibrant (1). Ceci facilite par exemple les opérations d'appairage spiral-balancier en même temps que de permettre une augmentation significative du rendement de ces opérations.

[0055] La figure 7 montre une vue de dessus d'un ressort-spiral 1 selon un mode de réalisation. Le ressort-spiral 1 comprend une courbe terminale intérieure 4 et une courbe terminale extérieure 5. Un détail d'une section 6 du ressort-spiral 1 est montré à la figure 8. Dans la section 6, la portion modifiée 3 comprend une portion 3' s'étendant dans la direction

longitudinale du ressort-spiral 1 de manière continue et de manière discontinue. [0056] La modification du module de Young effectif E e ff dans une portion spécifique du ressort-spiral 1, comme par exemple dans la courbe terminale du spiral, permet d'optimiser la concentricité de son déploiement par rapport à l'axe du balancier. Il est également possible de compenser des effets de d'affaissement dus à la gravité ou encore autres défauts

d'isochronisme.

[0057] La structure d'un matériau solide présentant le phénomène de transition vitreuse (autrement dit, son volume spécifique ou sa densité) peut être figée en fonction du cycle thermique (rampe d'échauffement- refroidissement) auquel il est soumis. Il est donc possible, en fonction du cycle thermique, de figer la structure d'un matériau présentant le

phénomène de transition vitreuse, soit dans un état vitreux particulier ou même dans un état cristallin. Dans le cas particulier d'un verre il est possible de figer sa structure en le faisant subir un cycle thermique qui ne comporte pas de passage dans l'état liquide du matériau. Cela dit, en restant dans la zone vitreuse solide du matériau, il est possible de changer sa structure en le soumettant à un cycle thermique particulier.

[0058] Les verres à base de silice se densifient suite à un incrément de leur température fictive. La température fictive d'un verre est la

température à laquelle sa structure (arrangement atomique) est figée. La température fictive dépend de la vitesse de refroidissement lors d'un cycle thermique. Pour un verre ordinaire, plus élevée est sa température fictive (plus rapidement il est refroidi), plus grand sera son volume spécifique. Dans le cas particulier de la silice, une tendance opposée est observée. En effet, à plus grande température fictive on trouvera des volumes

spécifiques plus petits. [0059] La modification locale du matériau vitreux par un traitement laser focalisé en utilisant des durées d'impulsions laser ultracourtes permet d'obtenir une portion modifiée grâce à des phénomènes de nature thermique comme ceux décrits ci-dessus. Les phénomènes de nature thermique menant à un changement local de la structure du matériau vitreux peuvent être modulables, notamment en jouant avec le taux de répétition du laser.

[0060] Il est également connu que l'absorption multiphotonique dans le matériau vitreux peut mener à des phénomènes de nature plus complexe que les phénomènes de nature thermique, par exemple la photoionisation et même la création de nano espaces vides. En effet des modifications locales de la densité d'une matrice vitreuse à base de silice issues de l'interaction avec un laser à durée d'impulsion ultracourte ont été rapportés et ceci sans pour autant que ces phénomènes non linéaires soient totalement compris. [0061] Dans un mode de réalisation, la portion modifiée 3 a une densité qui diffère de la densité du matériau vitreux. La densité différente de la portion modifiée 3 peut comprendre la création d'un polymorphe cristallin d'une silice amorphe (comme par exemple le alpha ou le beta quartz, la stishovite, la tridymite, la calcédoine ou encore la cristobalite), ou la formation de clusters métalliques selon la présence ou pas d'impuretés ou la formation d'une région densifiée suite à un incrément local de la température fictive de la silice, ou encore la formation de zones

structurellement modifiés due à n'importe quel mécanisme d'absorption non linaire. [0062] De manière avantageuse, le laser est focalisé à l'échelle nano ou micrométrique. Un tel laser permet la génération de la portion modifiée dont le CTE du module d'élasticité et la raideur peuvent être modifiés, et ceci dans des proportions qui ne sont pas nécessairement constantes ou linéaires.

[0063] La formation de la portion modifiée ayant un second CTE différent du premier CTE βι permet d'ajuster, au cas par cas, la valeur du CTE effectif p e ff du résonateur.

[0064] La méthode de l'invention offre l'avantage de pouvoir régler de manière précise et individuelle les propriétés thermomécaniques de chaque résonateur dans le but d'un réglage fin du comportement en température de l'oscillateur.

[0065] La figure 9 montre un wafer 7 en matériau vitreux dans lequel est fabriquée une pluralité de ressorts-spiraux 1. La figure 10 montre une vue en coupe du wafer de la figure 9 pendant l'étape de modification locale permettant de former la portion modifiée 3, par exemple, par irradiation avec un laser focalisé 8. Comme suggéré dans la figure 10, le faisceau laser 8 peut se déplacer, par exemple en x, y, z, de manière à réaliser la modification locale selon une forme plus ou moins complexe, ici une forme "annulaire" dans la masse du corps du ressort-spiral 1. Dans la figure 10 les parties indiquées par le chiffre "9" correspondent au matériau vitreux qui est usiné dans l'étape d'usinage. La figure 11 illustre la vue en coupe de la figure 9 après l'étape d'usinage pendant laquelle les parties 9 ont été éliminées par l'usinage libérant les ressorts-spiraux 1 comportant la portion modifiée 3.

[0066] La figure 9 montre également des parties 7a, 7b, 7c du wafer 7 pour lesquelles les ressorts-spiraux 1 ont subi un traitement d'irradiation différent selon la partie 7a, 7b, 7c du wafer dans laquelle se trouvent les ressorts-spiraux 1. Par conséquent, les ressorts-spiraux 1 dans l'une des différentes parties 7a, 7b, 7c pourront avoir une portion modifiée 3 dont les propriétés physiques diffèrent de celles de la portion modifiée 3 des ressorts-spiraux 1 dans les autres parties 7a, 7b, 7c du wafer 7. [0067] L'étape de modifier localement le matériau vitreux peut donc être réalisée localement non seulement à l'échelle du corps utilisé en déformation (ressort- spiral) 1 mais également à l'échelle du wafer 7.

[0068] La méthode a également l'avantage d'être applicable à une vaste catégorie de verres notamment à ceux dits «non photostructurables». Par conséquent, le processus de transformation du matériau vitreux a lieu de manière directe sans besoin d'étapes supplémentaires comme les

traitements thermiques requis dans le cas des verres dits

«photostructurables». De plus l'utilisation de mécanismes d'absorption multiphotoniques permet d'utiliser une gamme étendue de longueurs d'ondes allant de l'infrarouge à l'ultraviolette. Egalement, une telle méthode permet de modifier localement les propriétés thermoélastiques du matériau vitreux sans aucune restriction quant à la localisation de la portion modifiée dans le volume du matériau vitreux. [0069] Il va de soi que la présente invention n'est pas limitée au mode de réalisation qui vient d'être décrit et que diverses modifications et variantes simples peuvent être envisagées par l'homme de métier sans sortir du cadre de la présente invention.

[0070] Par exemple, l'invention n'est pas limitée à un résonateur de type balancier-spiral mais s'applique également à tout type de résonateurs adaptés à une application horlogère, tels qu'un résonateur de type diapason, dont le corps utilisé en déformation, c'est-à-dire le ressort-spiral dans le cas d'un résonateur balancier-spiral ou les lames vibrantes dans le cas d'un résonateur diapason, est réalisé dans une matière vitreuse ayant un premier coefficient thermoélastique, et de sorte à comprendre une portion modifiée 3 ayant un second CTE différent du premier CTE βι.

[0071] Jusqu'à maintenant, la discussion a concerné un ressort-spiral réalisé dans un matériau vitreux, tel que défini plus haut. Cependant, la présente invention concerne également un ressort-spiral réalisé dans tout matériau transparent aux longueurs d'ondes d'un laser (par exemple de type femtoseconde). Par exemple, la présente invention concerne un ressort-spiral réalisé dans un matériau partiellement, voire entièrement cristallin, comprenant notamment des verres, du silicium (monocristallin, polycristallin), des vitrocéramiques, des céramiques, etc.

[0072] Selon un mode de réalisation, le matériau est localement modifié (par exemple en utilisant un laser, préférablement de type femtosecondes) de manière à produire une portion modifiée 3 ayant un second module de Young E2 qui diffère d'un premier module de Young E1 de la portion non modifiée du matériau. De la sorte, il est possible d'ajuster une valeur du module de Young effectif E e ff du ressort-spiral 1, définie par la combinaison du premier et du second module de Young E1, E2.

[0073] La raideur du ressort-spiral 1 dépend de son module de Young (de sa rigidité) mais aussi du rapport de sa section à sa longueur. On peut cependant supposer que le rapport de la section à la longueur du ressort- spiral ne sera pas changé par la modification locale. Autrement dit, le matériau a une première raideur K1 et la portion modifiée a une seconde raideur K2 qui peut être différente de la première raideur K1. L'ajustement du module de Young effectif E e ff du ressort-spiral 1 permet donc d'ajuster une valeur de la raideur effective K e ff du ressort-spiral 1, sans avoir besoin de modifier ni la hauteur ni l'épaisseur du ressort-spiral 1. La raideur effective K e ff du ressort-spiral 1 est définie par la combinaison de la première et de la seconde raideur K1, K2.

[0074] La modification locale de la raideur du ressort-spiral 1 peut être utilisée pour l'ajustement de la fréquence du ressort-spiral 1, par exemple avant son assemblage avec un balancier. Ceci facilite par exemple les opérations d'appairage spiral-balancier, voire d'appairage de l'organe réglant dans son ensemble par rapport au mouvement, en même temps que de permettre une augmentation significative du rendement de cette opération.

[0075] La modification locale du module de Young et de la raideur peut être appliquée à la courbe terminale extérieure 5 et/ou à la courbe terminale intérieure 4 du ressort-spiral 1, comme illustré à la figure 7. La portion modifiée 3 peut comprendre une portion 3' s'étendant dans la direction longitudinale du ressort-spiral 1 de manière continue et/ou de manière discontinue.

[0076] La modification du module de Young effectif E e ff et/ou de la raideur effective K e ff dans une portion spécifique du ressort-spiral 1, comme par exemple dans la courbe terminale du spiral, permet d'optimiser la concentricité de son déploiement par rapport à l'axe du balancier. Il est également possible de compenser des effets de d'affaissement dus à la gravité ou encore autres défauts d'isochronisme. [0077] Encore selon un mode de réalisation, le matériau est localement modifié de manière à ajuster les contraintes internes dans la portion modifiée 3.

[0078] Dans le cas où la modification locale est réalisée à l'aide d'un traitement laser, préférablement à l'aide d'un laser utilisant des durées d'impulsions ultracourtes, c'est-à-dire des durées d'impulsions comprises entre quelques femtosecondes à quelques nanosecondes, et

préférablement entre quelques femtosecondes à quelques picosecondes.

[0079] L'utilisation de tels lasers permet le contrôle précis de

modifications très localisées du matériau par les procédés d'absorption non- linéaires de l'énergie du laser. Les modifications ainsi induites dans la portion modifiée du matériau peuvent être de nature continue, formation de (nano) structures auto organisées, et/ou la formation de nano vides. Ces modifications peuvent induire différents types d'anisotropie dans la portion modifiée du matériau, qui peuvent avoir des effets importants sur les propriétés chimique, optiques, thermiques et/ou mécaniques. Notamment, le changement du volume de la matière résultant de l'exposition induit des contraintes autour des zones exposées par laser, et ainsi des modifications des contraintes internes, qui peuvent être des contraintes de compression ou de traction, dans la portion modifiée. La contrainte induite dépend principalement de deux paramètres : la polarisation et l'énergie par pulsation. [0080] La modification locale peut être réalisée de manière à ne pas influencer sur la thermocompensation de la portion modifiée du matériau, ou du moins pas de manière linéaire. En effet, le module d'Young effectif et le CTE effectif peuvent être contrôlés par la quantité totale de zones modifiées tandis que les contraintes résiduelles peuvent être contrôlées par la localisation des zones affectées par rapport au composant réalisé.

Numéros de référence employés sur les figures

1 ressort-spiral

2 matrice en matériau vitreux

3 portion modifiée

4 courbe terminale intérieure

5 courbe terminale extérieure

6 section du spiral

7 wafer

7a portion du wafer

8 irradiation laser

9 parties usinées du wafer

i premier coefficient d'expansion thermique

a.2 second coefficient d'expansion thermique

OCeff coefficient d'expansion thermique effectif βι premier coefficient thermoélastique

second coefficient thermoélastique

eff coefficient thermoélastique effectif

CTE coefficient thermoélastique

Ei premier module de Young

E 2 second module de Young

Eeff module de Young effectif

Ki première raideur

K 2 seconde raideur

Keff raideur effective