| JP2006205052 | WASHING DEVICE |
| JP2005113206 | CHEMICAL PROCESSING UNIT |
| JP2002345665 | WATER SUPPLIER AND WATER SUPPLY METHOD |
杨明生 (中国广东省东莞市南城区宏图高新科技开发区, Guangdong 0, 523080, CN)
WANG, Yinguo (Hongtu Hi-tech Development Zone, NanchengDongguan, Guangdong 0, 523080, CN)
王银果 (中国广东省东莞市南城区宏图高新科技开发区, Guangdong 0, 523080, CN)
LIU, Huisen (Hongtu Hi-tech Development Zone, NanchengDongguan, Guangdong 0, 523080, CN)
刘惠森 (中国广东省东莞市南城区宏图高新科技开发区, Guangdong 0, 523080, CN)
东莞宏威数码机械有限公司 (中国广东省东莞市南城区宏图高新科技开发区, Guangdong 0, 523080, CN)
YEUNG, Mingsang (Hongtu Hi-tech Development Zone, NanchengDongguan, Guangdong 0, 523080, CN)
杨明生 (中国广东省东莞市南城区宏图高新科技开发区, Guangdong 0, 523080, CN)
WANG, Yinguo (Hongtu Hi-tech Development Zone, NanchengDongguan, Guangdong 0, 523080, CN)
王银果 (中国广东省东莞市南城区宏图高新科技开发区, Guangdong 0, 523080, CN)
LIU, Huisen (Hongtu Hi-tech Development Zone, NanchengDongguan, Guangdong 0, 523080, CN)
| 1.一种平移式基板清洗装置， 适用于对平板状的基板进行清洗， 所述平移式 基板清洗装置包括驱动机构及清洗机构， 所述驱动机构驱动所述清洗机构对所 述平板状的基板进行清洗， 其特征在于： 所述驱动机构包括固定座、 电机、 偏心轮及往复座， 所述固定座具有平行 设置的上底板及下底板， 所述上底板与所述下底板之间形成安装区， 所述往复 座滑动地安装于所述下底板上， 所述电机安装于所述上底板上并位于所述安装 区内， 所述偏心轮连接于所述电机与所述往复座之间并平行于所述上底板及所 述下底板， 所述电机通过所述偏心轮驱动所述往复座作往复运动； 所述清洗机构包括固定架、 输入总管及安装于所述固定架上的若干管道组， 所述管道组等间距排列且分别与所述输入总管连通， 所述管道组上设置有朝向 基板的用于喷洒清洗液的喷嘴， 所述固定架与所述往复座固定连接， 所述固定 架悬置于基板上方并与所述基板平行。 2.如权利要求 1所述的平移式基板清洗装置， 其特征在于： 所述固定座的下 底板上开设有沿所述固定架方向延伸的导槽， 所述往复座的下端安装有滑动卡 设于所述导槽内的第一轴承， 所述往复座的上端开设有与所述导槽相垂直的轴 承槽， 所述偏心轮上设置有第二轴承， 所述第二轴承的中心轴平行于所述偏心 轮的轴向， 所述第二轴承容置于所述轴承槽内与所述轴承槽滚动连接， 所述偏 心轮通过所述第二轴承驱动所述往复座沿所述导槽作直线往复运动。 3.如权利要求 2所述的平移式基板清洗装置， 其特征在于： 所述导槽的延伸 方向与所述基板的传输方向垂直。 4.如权利要求 1所述的平移式基板清洗装置， 其特征在于： 所述驱动机构还 包括连接座， 所述连接座固定连接于所述往复座与所述固定架之间。 5.如权利要求 1所述的平移式基板清洗装置， 其特征在于： 所述管道组包括 分支管及喷嘴管， 所述分支管的一端与所述输入总管连通， 所述分支管的另一 端与所述喷嘴管连通， 所述喷嘴管与所述固定架固定连接， 所述喷嘴均勾设置 于所述喷嘴管上， 全部所述管道组的喷嘴管等间距排列且位于与所述基板平行 的一个面上。 6.如权利要求 1所述的平移式基板清洗装置， 其特征在于： 还包括引导架， 所述引导架上设有与所述导槽相平行的引导槽， 所述引导架对称设置于所述固 定架的两侧， 所述固定架上设置有与所述导槽相平行的连接杆， 所述连接杆滑 动地穿过所述引导架的引导槽。 7.如权利要求 6所述的平移式基板清洗装置， 其特征在于： 所述引导架包括 支架及枢接于所述支架上的上导向轮及下导向轮， 所述上导向轮与所述下导向 轮之间形成所述引导槽。 |
本发明涉及一种对平板物件的清洗装置， 尤其涉及一种适用于对平板状的 基板进行清洗的平移式基板清洗装置。 背景技术
随着各种半导体产品的广泛应用及半导体技术 的发展， 半导体产品的批量 生产越来越大规模， 同时半导体产品的尺寸也越来越大， 导致半导体工艺曰趋 复杂， 而产品的生产不仅要求高精度， 也要求高效率及高自动化， 因此， 对生 产半导体产品的生产设备和生产工艺也提出了 更高的要求， 对于半导体制品， 例如有机发光显示器件、 液晶显示器件、 非晶硅太阳能电池板等， 其生产都需 要利用玻璃等作为基板， 在基板上进行多种工序进而形成多层薄膜， 工艺步骤 中涉及的镀膜、 光刻、 蚀刻等工艺会产生粉尘附着在基板上， 进而影响基板的 清洁度， 基板的清洁度对产品的质量有着重大影响， 因此， 在于镀膜、 光刻及 蚀刻等步骤中必须贯穿有清洗步骤， 以维持基板在生产过程中的表面清洁度。
以 OLED ( Organic Light-Emitting Diode, 即有机发光二极管） 为例， OLED的制造一般都在玻璃基板上进行多次工艺 骤，进而在基板上相继沉 积多层薄膜， 其膜层主要包括在玻璃基板上形成的透明阳极 ， 在阳极上依次 沉积空穴注入层、 空穴传输层、 发光层、 电子传输层和电子注入层， 最后是 金属阴极层； 在各个工艺步骤中若基板上沉积有粉尘， 在下一膜层的形成过 程中会将其覆盖， 进而影响膜层的厚度和均勾性， 影响后续的工艺质量， 最 终使 OLED 的质量降低， 可见基板的清洁起着举足轻重的作用， 因此需要 一种基板清洗装置， 对基板进行高效清洗的同时也能保证基板的高 清洁度。
然而， 现有用于清洁基板的装置具有长方形的流体喷 射区， 在该区域内相 隔预定位置设置有多个喷射口， 当运动的基板经过时， 喷射口内喷射出清洗液 进而对基板进行清洗， 但是由于各喷射口间具有闲置喷射区域， 在该区域对应 的基板上或基板的边缘位置处， 会出现清洗液喷射较少或喷射不均的现象， 导 致这些区域的清洗效果不佳， 这种现象在较大尺寸的基板中尤为明显； 为解决 上述问题， 通常会在喷射区域内增加喷射口以达到大面积 喷射的目的， 但这种 结果不仅使装置复杂， 而且会造成清洗液的大量浪费， 增加生产成本。
因此， 急需一种结构简单、 自动化程度高、 清洁效率及清洁度高的平移式 基板清洗装置。 发明内容
本发明的目的在于提供一种结构简单、 自动化程度高、 清洁效率及清洁度 高的平移式基板清洗装置。
为实现上述目的， 本发明的技术方案为： 提供一种平移式基板清洗装置， 适用于对平板状的基板进行清洗， 所述平移式基板清洗装置包括驱动机构及清 洗机构， 所述驱动机构驱动所述清洗机构对所述平板状 的基板进行清洗， 其中， 所述驱动机构包括固定座、 电机、 偏心轮及往复座， 所述固定座具有平行设置 的上底板及下底板， 所述上底板与所述下底板之间形成安装区， 所述往复座滑 动地安装于所述下底板上， 所述电机安装于所述上底板上并位于所述安装 区内， 所述偏心轮连接于所述电机与所述往复座之间 并平行于所述上底板及所述下底 板， 所述电机通过所述偏心轮驱动所述往复座作往 复运动； 所述清洗机构包括 固定架、 输入总管及安装于所述固定架上的若干管道组 ， 所述管道组等间距排 列且分别与所述输入总管连通， 所述管道组上设置有朝向基板的用于喷洒清洗 液的喷嘴， 所述固定架与所述往复座固定连接， 所述固定架悬置于基板上方并 与所述基板平行。
较佳地， 所述固定座的下底板上开设有沿所述固定架方 向延伸的导槽， 所 述往复座的下端安装有滑动卡设于所述导槽内 的第一轴承， 所述往复座的上端 开设有与所述导槽相垂直的轴承槽， 所述偏心轮上设置有第二轴承， 所述第二 轴承的中心轴平行于所述偏心轮的轴向， 所述第二轴承容置于所述轴承槽内与 所述轴承槽滚动连接， 所述偏心轮通过所述第二轴承驱动所述往复座 沿所述导 槽作直线往复运动； 更具体地， 所述导槽的延伸方向与所述基板的传输方向垂 直。 电机驱动偏心轮转动， 偏心轮通过第二轴承驱动往复座沿导槽作直线 往复 运动， 往复座带动固定架作直线往复运动， 使管道组将清洗液均勾充分地喷洒 在直线运动的基板上， 可对直线运动中的基板进行不间断地清洗， 提高基板的 清洗效率， 同时使基板得到均勾充分的清洗， 保持高清洁度。
较佳地， 所述驱动机构还包括连接座， 所述连接座固定连接于所述往复座 与所述固定架之间。 电机通过偏心轮带动往复座沿导槽作直线往复 运动， 往复 座通过连接座带动固定架作往复运动， 使往复座与固定座之间的连接简便。
较佳地， 所述管道组包括分支管及喷嘴管， 所述分支管的一端与所述输入 总管连通， 所述分支管的另一端与所述喷嘴管连通， 所述喷嘴管与所述固定架 固定连接， 所述喷嘴均勾设置于所述喷嘴管上， 全部所述管道组的喷嘴管等间 距排列且位于与所述基板平行的一个面上。 通过输入总管统一控制清洗液的输 入量， 并将清洗液均勾地分流到各分支管， 再通过喷嘴管上均勾设置的喷嘴喷 洒在直线运动的基板上， 便于清洁液流量的控制， 有效节约清洁液。
较佳地， 所述平移式基板清洗装置还包括引导架， 所述引导架上设有与所 述导槽相平行的引导槽， 所述引导架对称设置于所述固定架的两侧， 所述固定 架上设置有与所述导槽相平行的连接杆， 所述连接杆滑动地穿过所述引导架的 引导槽； 更具体地， 所述引导架包括支架及枢接于所述支架上的上 导向轮及下 导向轮， 所述上导向轮与所述下导向轮之间形成所述引 导槽。 固定架的连接杆 滑动地穿过上导向轮与下导向轮之间形成的引 导槽， 使固定架的运动阻力大为 减小， 进而使平移式基板清洗装置使用较小功率的电 机即可驱动固定架作往复 运动， 节约能源， 并使结构简单， 成本低廉。
与现有技术相比， 由于本发明的驱动机构包括固定座、 电机、 偏心轮及往 复座， 所述固定座具有平行设置的上底板及下底板， 所述上底板与所述下底板 之间形成安装区， 所述往复座滑动地安装于所述下底板上， 所述电机安装于所 述上底板上并位于所述安装区内， 所述偏心轮连接于所述电机与所述往复座之 间并平行于所述上底板及所述下底板， 所述电机通过所述偏心轮驱动所述往复 座作往复运动； 所述清洗机构包括固定架、 输入总管及安装于所述固定架上的 若干管道组， 所述管道组等间距排列且分别与所述输入总管 连通， 所述管道组 上设置有朝向基板的喷洒清洗液的喷嘴， 所述固定架与所述往复座固定连接， 所述固定架悬置于基板上方并与所述基板平行 ； 清洗时， 清洗液通过输入总管 流入管道组内， 再通过管道组上的喷嘴喷洒到基板上进而对基 板进行清洗， 在 此过程中， 所述电机通过偏心轮驱动往复座在下底板上作 往复运动， 往复座带 动固定架往复运动， 进而使清洗液通过喷嘴均勾充分的喷洒在直线 运动的基板 上， 避免管道组之间的间隙或喷嘴之间的间隙所对 应的区域喷洒到的清洗液不 均或不充分， 进而使基板得到均勾充分的清洗， 具有较高的清洁度， 并且将电 机的旋转运动转化为往复座及固定架的往复运 动， 可连续对直线运动中的基板 进行不间断的清洗， 提高基板的清洗效率， 同时， 通过电机通过偏心轮带动往 复座往复运动， 提高平移式基板清洗装置的自动化程度， 且结构简单， 成本低 廉。 附图说明
图 1是本发明平移式基板清洗装置的结构示意图
图 2是图 1中驱动机构的放大示意图。
图 3是本发明平移式基板清洗装置的使用状态示 图。
图 4是本发明平移式基板清洗装置的另一状态示 图。 具体实施方式
现在参考附图描述本发明的实施例， 附图中类似的元件标号代表类似的元 件。
如图 1、 图 2所示， 本发明平移式基板清洗装置 1包括驱动机构 10、 清洗 机构 20及引导架 30, 清洗机构 20滑动地安装于引导架 30上， 驱动机构 10设 置于清洗机构 20的一侧并驱动清洗机构 20对直线运动的基板进行清洗。 驱动 机构 10包括固定座 110、 电机 120、 偏心轮 130及往复座 140, 固定座 110具有 平行设置的上底板 111及下底板 112,上底板 111与下底板 112之间通过支柱 115 连接，上底板 111与下底板 112之间形成安装区 113 ,电机 120安装于上底板 111 上且输出轴位于安装区 113内； 在下底板 112上开设有沿清洗机构 20方向延伸 的导槽 114, 且导槽 114的延伸方向与基板的传输方向垂直， 往复座 140的下端 安装有滑动卡设于导槽 114内的第一轴承 142,往复座 140的上端开设有与导槽 114相垂直的轴承槽 141 ; 偏心轮 130上设置有第二轴承 131 , 且第二轴承 131 位于偏心轮 130的下方， 第二轴承 131的中心轴平行于偏心轮 130的轴向， 偏 心轮 130设置于往复座 140与电机 120之间且与电机 120的输出轴连接， 第二 轴承 131容置于往复座 140上端的轴承槽 141内与轴承槽 141滚动连接， 第二 轴承 131可在轴承槽 141内滑动， 电机 120驱动偏心轮 130转动， 偏心轮 130 通过第二轴承 131带动往复座 140在导槽 114上作直线往复运动； 清洗机构 20 包括固定架 210、 输入总管 220及安装于固定架 210上的若干管道组， 固定架 210悬置于基板上方并与基板平行， 管道组包括分支管 230及喷嘴管 240, 分支 管 230的一端与输入总管 210连通， 分支管 230的另一端与喷嘴管 240连通， 喷嘴管 240与固定架 210固定连接， 且所有喷嘴管 240等间距排列并位于与基 板平行的一个面上， 喷嘴管 240上均勾设置有朝向基板的喷嘴 250, 喷嘴 250用 于喷洒清洗液， 清洗液通过输入总管 220上的输入口 221输入后， 经分支管 230 流入喷嘴管 240内， 再由喷射管 240上均勾设置的喷嘴 250喷洒到直线运动的 基板上， 清洗液由输入总管 220的输入口 221统一控制输入量， 便于清洁液流 量的控制， 有效节约清洁液。
较佳者，驱动机构 10还包括连接座 150,连接座 150固定连接于往复座 140 与固定架 210之间； 引导架 30对称设置于固定架 210两侧， 引导架 30包括支 架 310及枢接于支架 310上的上导向轮 320及下导向轮 330,上导向轮 320与下 导向轮 330之间形成引导槽 340, 且引导槽 340与导槽 114相平行， 固定架 210 上设置有与导槽 114相平行的连接杆 211 , 连接杆 211滑动地穿过引导架 310的 引导槽 340将固定架 210枢接于导向架 30上； 固定架 210通过连接杆 211滑动 地安装于上导向轮 320与下导向轮 330之间形成的引导槽 340内，使固定架 210 的运动阻力大为减小， 进而使平移式基板清洗装置 1使用较小功率的电机即可 驱动固定架 210往复运动， 节约能源， 并使结构简单， 成本低廉。
下面结合图 3、 图 4, 对本发明平移式基板清洗装置 1用于对直线运动的基 板 2进行清洗的原理及过程进行说明。
如图 3所示， 将进入清洗工序的基板 2送入平移式基板清洗装置 1 , 基板 2 沿图中 a方向直线运动。 基板 2沿图中 a方向运动过程中， 清洗液从输入总管 220上的输入口 221加入到输入总管 220内，清洗液经输入总管 220均匀地分流 到各分支管 230中， 分支管 230中的清洗液流到喷嘴管 240后， 经喷嘴管 240 上的喷嘴 250喷洒到基板 2的表面， 进而对基板 2进行清洗； 在清洗过程中， 电机 120驱动偏心轮 130沿图中箭头方向转动， 如图 3所示， 偏心轮 130沿箭 头方向转动时产生动力， 进而通过第二轴承 131带动往复座 140沿导槽 114滑 动， 即沿图中 c方向滑动， 往复座 140推动固定架 210也沿 c方向运动， 固定架 210的运动方向与基板的传输方向垂直， 往复座 140沿 c方向运动过程中， 第二 轴承 131在轴承槽 141 内滚动， 进而使第二轴承 131从轴承槽 141的一端向另 一端滑动， 当偏心轮 130转过 180°时， 往复座 140滑动到导槽 114的端点处， 第二轴承 131也滑动到轴承槽 141的一端； 电机 120继续驱动偏心轮 130转动， 这时， 第二轴承 131沿轴承槽 141往回滑动， 偏心轮 130亦带动往复座 140往 回滑动， 即沿图中 c方向相反的方向滑动， 进而拉动固定座 110往回运动； 这样 使固定架 210在基板 2上方作直线往复运动，且固定架 210的运动方向与基板 2 的传输方向垂直， 使喷嘴管 240内的清洗液通过喷嘴 250均勾充分地喷洒在直 线运动着的基板 2上， 提高基板 2的清洁度， 并使平移式基板清洗装置 1具有 较高的自动化程度； 固定架 210通过连接杆 211滑动地安装于引导架 30的上导 向轮 320与下导向轮 330之间形成的引导槽 340内， 使固定架 210的运动阻力 大大减小， 因此使用较小功率的电机 120即可驱动固定架 210往复运动， 节约 能源， 并使结构简单， 成本低廉。
由于本发明的驱动机构 10包括固定座 110、 电机 120、 偏心轮 130及往复 座 140, 固定座 110具有平行设置的上底板 111及下底板 112, 上底板 111与下 底板 112之间形成安装区 113 ,往复座 140滑动地安装于下底板 112上，电机 120 安装于上底板 111上并位于安装区 113内，偏心轮 130连接于电机 120与往复座 140之间并平行于上底板 111及下底板 112; 清洗机构 20包括固定架 210、 输入 总管 220及安装于固定架 210上的若干管道组， 管道组包括分支管 230及喷嘴 管 240, 喷嘴管 240固定安装于固定架 210上且等间距排列， 分支管 230的一端 与输入总管 220连通， 分支管 230的另一端与喷嘴管 240连通， 喷嘴管 240上 设置有朝向基板的用于喷洒清洗液的喷嘴 250, 固定架 210与往复座 140固定连 接， 固定架 210悬置于基板上方并与所述基板平行； 清洗液由输入总管 220输 入， 由分支管 230流入喷嘴管 240后， 经喷嘴管 240上的喷嘴 250喷洒在基板 2 上， 实现对基板 2的清洗； 在清洗过程中， 电机 120通过偏心轮 130驱动往复 座 140沿导槽 114作直线往复运动， 往复座 140带动固定架 210往复运动， 进 而使清洗液通过喷嘴 250均匀充分地喷洒在直线运动着的基板 2上， 避免喷嘴 管 240之间的间隙或喷嘴 250之间的闲置区域所对应的基板 2上喷洒到的清洗 液不均勾或不充分， 进而使对基板 2的清洗具有较高的清洁度， 并可连续对直 线运动中的基板 2进行不间断地清洗， 提高基板 2的清洗效率， 同时， 通过电 机 120及偏心轮 130带动往复座 140往复运动， 将旋转运动转化为复座 140及 固定架 210的往复运动， 提高平移式基板清洗装置 1的自动化程度， 且结构简 单， 成本低廉。
本发明平移式基板清洗装置 1不限于对平板状的基板 2进行清洗， 可根据 实际需要， 用于相类似的平板物件的清洗。
本发明平移式基板清洗装置 1的喷嘴管 240及喷嘴 250的数量及设置方式 等均为本领域普通技术人员所熟知， 在此不再做详细的说明。
以上所揭露的仅为本发明的优选实施例而已， 当然不能以此来限定本发明 之权利范围， 因此依本发明申请专利范围所作的等同变化， 仍属本发明所涵盖 的范围。
Next Patent: DRIVING MECHANISM FOR VALVE PLATE OF SEALING CHAMBER