本発明の透明電磁波遮断フィルムは、支� ��体上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀及� ��バインダーからなる層を有する感光材料に� ��露光後、現像処理を行い作製される透明電� ��波遮断フィルムにおいて、露光、現像処理� ��の該フィルムに含まれるチオ硫酸イオンの� ��有量が、該フィルム中の銀成分に対し、質� ��比で1.0%以下であることを特徴とする。

 以下、本発明について詳細に説明する。

 本発明において、露光、現像処理後のフ� ��ルム中に含まれる銀成分は、例えば蛍光X線 分析などで定量することによって求めること ができ、また皮膜中に含まれるチオ硫酸イオ ンについては、例えば、ISO18917に記載のヨウ� ��・アミロース法、あるいはメチレンブルー� ��などを用いて定量することができる。フィ� ��ム中の銀成分に対するチオ硫酸イオンの比� ��を1.0%以下とするためには、フィルム中に残 存するチオ硫酸イオンの絶対量を低減させる 方法が好ましく用いられ、そのためには、フ ィルムに使用される水溶性バインダー量を低 減させる方法、定着処理で持ち込まれるチオ 硫酸イオンを低減する方法、定着処理後の水 洗条件を適切に設定する方法、あるいは酸化 処理浴を用いて、チオ硫酸イオンを酸化除去 する方法などを単独、あるいは適宜組み合わ せて用いることができる。

 一般に、定着処理においては、未現像の� ��ロゲン化銀粒子を溶解除去するためにチオ� ��酸ナトリウムなどのチオ硫酸塩が好ましく� ��いられるが、この定着処理に用いられるチ� ��硫酸塩のフィルム中への残存量を低減させ� ��ことが効果的であり、例えば、現像処理後� ��水洗温度を高くしたり、水洗時間を長くし� ��りすることにより低減が可能である。水洗� ��理の温度は20~60℃が好ましく、水洗処理時� �は30~600秒が好ましく、より好ましくは60秒~30 0秒である。フィルム皮膜中のチオ硫酸イオ� �量低減のためには、水洗水中のチオ硫酸イ� �ン濃度を低いレベルに維持することが好ま� �く、特にチオ硫酸イオン濃度を1.0g/L以下に� �さらに好ましくは0.2g以下に保つことが好ま� ��い。そのためには、常に新しい水を供給し� ��、処理後の水洗水を置換することが好まし� ��が、排水量の増加を生じるため、処理後の� ��洗水からチオ硫酸イオンを除去して再度使� ��する態様も好ましく用いることができる。

 〔粘着剤〕
 本発明においては、ゼラチン層を有する透� ��電磁波遮断フィルムを透明基材に貼り付け� ��ために、使用可能な粘着剤としては、透明� ��が高く、適切な接着力を有していれば特に� ��限はないが、アクリル系粘着剤、ゴム系粘� ��剤、シリコン系粘着剤などを好ましく用い� ��ことができる。中でも透明性、接着性及び� ��熱性に優れている点からアクリル系粘着剤� ��介して透明基材に貼り合わせて用いる態様� ��好ましく用いられる。

 アクリル系粘着剤とは、アクリル酸系ア� ��キルエステルを主成分として、これに極性� ��量体成分を共重合させて得られる粘着剤で� ��り、極性単量体成分の共重合割合は、アク� ��ル酸系アルキルエステル成分100質量部あた� ��、好ましくは0.1~20質量部、より好ましくは0 .5~15質量部、さらに好ましくは1~10質量部程度 が好ましい。

 アクリル酸系アルキルエステルとしては� ��(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸 エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)� �クリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル 、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリ� �酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(� �タ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デ� �ル、(メタ)アクリル酸ウンデシルまたは(メ� �)アクリル酸ドデシルなどの、アルキル基の� ��素数が1~12程度であるアクリル酸アルキルエ ステルあるいはメタアクリル酸アルキルエス テルが好ましく用いられる。これらは2種以� �併用しても構わない。

 極性単量体としては、硬化剤との反応活� ��基を有する化合物が用いられ、その種類に� ��いて特に限定はないが、一般には水酸基や� ��ルボキシル基を有するものが好ましく、例� ��ばアクリル酸エステル、メタアクリル酸エ� ��テル等のカルボキシル基含有アクリル酸系� ��量体が挙げられ、具体的な化合物としては� ��(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシルエチル、(� �タ)アクリル酸2-ヒドロキシルプロピル等の� �ドロキシル基含有(メタ)アクリル酸エステル 系単量体、N,N-ジメチルアミノエチルアクリ� �ート、N-t-ブチルアミノエチルアクリレート� ��のアミノ基含有(メタ)アクリル酸エステル� �単量体の如きアクリル酸系の極性単量体又� �マレイン酸等が好ましく用いられる。これ� �は必要に応じ、2種以上併用してもよい。

 〔硬化剤〕
 粘着剤成分の分子内架橋、あるいは分子間� ��橋を行うために、硬化剤を用いることが好� ��しい。硬化剤は粘着剤モノマーの種類に応� ��て適宜選択して用いられるが、例えば、ヘ� ��サメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ� ��ンジイソシアネートのトリメチロールプロ� ��ン付加物等の脂肪族ジイソシアネート、ト� ��レンジイソシアネート、トリレンジイソシ� ��ネートトリメチロールプロパン付加物等の� ��香族ジイソシアネートの如きポリイソシア� ��ート化合物、ブチルエーテル化スチロール� ��ラミン、トリメチロールメラミンの如きメ� ��ミン化合物、ヘキサメチレンジアミン、ト� ��エチルジアミン等のジアミン化合物、ビス� ��ェノールA・エピクロルヒドリン、ポリエチ レングリコールジグリシジルエーテル、トリ メチロールプロパントリグリシジルエーテル 、N,N,N″,N″-テトラグリシジル-m-キシレンジ� ��ミン等のエポキシ系化合物、尿素樹脂系化� ��物、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、硫酸� ��ルミニウム、酢酸銅等の金属塩等が用いら� ��る。

 本発明においては、透明電磁波遮断フィ� ��ムのゼラチン層を有する側をエポキシ系の� ��化剤を含有するアクリル系粘着剤で透明基� ��に貼り合わせる態様が好ましく用いられる� ��エポキシ系硬化剤は、一般に、アクリル系� ��着剤のカルボキシル基との反応性が高く、� ��じくカルボキシル基を有するゼラチンを含� ��透明電磁波遮断フィルムと粘着剤の結合を� ��り強固とすることが可能になると考えられ� ��高温・高湿環境において、長期間保管した� ��合においてもフィルムの密着性が低下しに� ��くなり、また現像銀の変色を低減させるこ� ��が可能になるものと推察される。変色の程� ��が低減する機構は明確ではないが、密着性� ��向上効果により、外気の影響が軽減される� ��めと推察される。

 硬化剤の配合量は、通例アクリル樹脂100� ��量部あたり0.001~10質量部、好ましくは0.005~5� ��量部、さらに好ましくは0.01~3質量部程度で� ��る。

 〔透明基材〕
 本発明の光学フィルターにおいて用いられ� ��透明基材は、光線透過率が80%以上、より好� ��しくは85%以上のガラス、あるいはプラスチ� ��クを用いることができる。ガラスには、通� ��ガラスに加え、半強化ガラス若しくは強化� ��ラスなどを用いることができる。プラスチ� ��クとしては、ポリエチレンテレフタレート� ��ポリエチレンナフタレート等のポリエステ� ��類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、� ��リプロピレン、ポリスチレン等のポリオレ� ��ィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ� ��ンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート� ��アクリル樹脂、トリアセチルセルロース、� ��リエーテルサルホン、もしくはポリエーテ� ��ケトン等の樹脂からなるフィルムを挙げる� ��とができる。これらの透明基材は単独で、� ��るいは積層して用いることができる。これ� ��のプラスチックフィルムの中では、透明性� ��および取扱い性の点などからポリエチレン� ��レフタレートフィルム、あるいはトリアセ� ��ルセルロースフィルムが特に好ましい。

 〔バインダー〕
 本発明の透明電磁波遮断フィルムには、後� ��するハロゲン化銀粒子を均一に分散させ、� ��つハロゲン化銀粒子を支持体上に担持し、� ��ロゲン化銀乳剤含有層と支持体の接着性を� ��保する目的でバインダーを用いる。本発明� ��用いることができるバインダーには、特に� ��限がなく、非水溶性ポリマー及び水溶性ポ� ��マーのいずれも用いることができるが、現� ��性向上の観点からは、水溶性ポリマーを用� ��ることが好ましい。

 本発明に係る感光材料には、バインダー� ��してゼラチンを用いることが有利であり、� ��の構成要件として感光性ハロゲン化銀を含� ��するゼラチン層を有するものであるが、必� ��に応じてゼラチン誘導体、ゼラチンと他の� ��分子のグラフトポリマー、ゼラチン以外の� ��ンパク質、糖誘導体、セルロース誘導体、� ��一あるいは共重合体のごとき合成親水性高� ��子物質等の親水性コロイドも用いることが� ��きる。

 本発明にかかる感光材料に用いるバインダ� ��の量には特に制限はないが、10mg/m ² 以上0.2g/m ² 以下である態様が好ましい。バインダー量が 10mg/m ² 未満の場合、バインダーに対するハロゲン化 銀の量が相対的に多くなるため、被膜が脆弱 になりやすく、十分な被膜強度を維持するこ とが困難となる。また、バインダー量が0.2g/m ² より多い場合には、感光性ハロゲン化銀粒子 の粒子間距離が大きくなるため、現像銀ネッ トワークが形成されにくくなり、有効な導電 性メッシュを形成しにくくなる傾向が見られ るからである。

 〔ハロゲン化銀粒子〕
 本発明で用いられるハロゲン化銀粒子の組� ��は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀� ��塩沃臭化銀、塩沃化銀等任意のハロゲン組� ��を有するものであってもよいが、導電性の� ��い金属銀を得るためには、感度の高い微粒� ��が好ましく、沃臭化銀粒子が好ましく用い� ��れる。沃素を多く含むようにすると感度も� ��く微粒子にすることができる。

 ハロゲン化銀粒子が現像され金属銀粒子� ��なった後の表面比抵抗を下げ、電磁波を効� ��的に遮断するためには、現像銀粒子同士の� ��触面積ができるだけ大きくなる必要がある� ��そのためには表面積比を高めるためにハロ� ��ン化銀粒子サイズが小さい程よいが、小さ� ��ぎる粒子は凝集して大きな塊状になりやす� ��、その場合接触面積は逆に少なくなってし� ��うので最適な粒子径が存在する。本発明に� ��いて、ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズ� ��、球相当径で0.01~0.5μmが好ましく、より好� �しくは0.03~0.3μmである。なお、ハロゲン化銀 粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ 体積を有する粒子の直径を表す。ハロゲン化 銀粒子の平均粒子サイズは、ハロゲン化銀粒 子の調製時の温度、pAg、pH、銀イオン溶液と� ��ロゲン溶液の添加速度、粒子径コントロー� ��剤(例えば、1-フェニル-5-メルカプトテトラ� ��ール、2-メルカプトベンズイミダゾール、� �ンズトリアゾール、テトラザインデン化合� �類、核酸誘導体類、チオエーテル化合物類� �)を適宜組み合わせて制御することができる� ��

 本発明においては、塗布銀量(g/m ² )を粒径(μm)で除した値が6以上25以下となる態 様が好ましい。比較的粒径の小さい感光性ハ ロゲン化銀を多量に用いた場合に、この値が 25より大きくなりやすく、この場合、フィル� ��断裁時のエッジ部分において、被膜からハ� ��ゲン化銀粒子の滑落などが生じやすくなる� ��向にある。また比較的粒径の大きい感光性� ��ロゲン化銀を少量用いた場合にこの値が6よ り小さくなりやすく、この場合、単位面積中 の感光性ハロゲン化銀の粒子個数が少なくな るため、導電性が低下しやすい傾向となるた めである。

 本発明においては、ハロゲン化銀粒子の� ��状は特に限定されず、例えば、球状、立方� ��状、平板状(6角平板状、3角形平板状、4角形 平板状等)、8面体状、14面体状等、さまざま� �形状であることができる。感度を高くする� �めにアスペクト比が2以上や4以上、さらに8~1 6であるような平板粒子も好ましく使用する� �とができる。粒子サイズの分布には特に限� �はないが、露光によるパターン形成時に、� �ターンの輪郭をシャープに再現させ、高い� �電性を維持しながら透明性を高めるという� �点からは、狭い分布が好ましい。本発明に� �る感光材料に用いられるハロゲン化銀粒子� �粒径分布は、好ましくは変動係数が0.22以下� ��さらに好ましくは0.15以下の単分散ハロゲン 化銀粒子である。ここで変動係数は、粒径分 布の広さを表す係数であり、次式によって定 義される。

 変動係数=S/R
 (式中、Sは粒径分布の標準偏差、Rは平均粒� ��を表す。)
 本発明で用いられるハロゲン化銀粒子は、� ��らに他の元素を含有していてもよい。例え� ��、写真乳剤において、硬調な乳剤を得るた� ��に用いられる金属イオンをドープすること� ��有用である。特に鉄イオン、ロジウムイオ� ��、ルテニウムイオンやイリジウムイオン等� ��第8~10族金属イオンは、金属銀像の生成の際 に露光部と未露光部の差が明確に生じやすく なるため好ましく用いられる。

 これらの金属イオンは、塩や錯塩の形で� ��ロゲン化銀乳剤に添加することができる。� ��ジウムイオン、イリジウムイオンに代表さ� ��る遷移金属イオンは、各種の配位子を有す� ��化合物であることもできる。そのような配� ��子としては、例えば、シアン化物イオンや� ��ロゲンイオン、チオシアナートイオン、ニ� ��ロシルイオン、水、水酸化物イオン等を挙� ��ることができる。具体的な化合物の例とし� ��は、臭化ロジウム酸カリウムやイリジウム� ��カリウム等が挙げられる。

 本発明において、ハロゲン化銀に含有され� ��前記金属イオン化合物の含有率は、ハロゲ� ��化銀1モル当たり、10 ^-10 ~10 ^-2 モル/モルAgであることが好ましく、10 ^-9 ~10 ^-3 モル/モルAgであることがさらに好ましい。

 ハロゲン化銀粒子に上述の金属イオンを� ��有させるためには、該金属化合物をハロゲ� ��化銀粒子の形成前、ハロゲン化銀粒子の形� ��中、ハロゲン化銀粒子の形成後等、物理熟� ��中の各工程における任意の場所で添加すれ� ��よい。また、添加においては、重金属化合� ��の溶液を粒子形成工程の全体あるいは一部� ��わたって連続的に行うことができる。

 本発明では、さらに感度を向上させるた� ��、写真乳剤で行われる化学増感を施すこと� ��できる。化学増感としては、例えば、金、� ��ラジウム、白金増感等の貴金属増感、無機� ��オウ、または有機イオウ化合物によるイオ� ��増感等のカルコゲン増感、塩化錫、ヒドラ� ��ン等還元増感等を利用することができる。

 また、ハロゲン化銀粒子には分光増感を� ��すことが好ましい。

 好ましい分光増感色素としては、シアニ� ��、カルボシアニン、ジカルボシアニン、複� ��シアニン、ヘミシアニン、スチリル色素、� ��ロシアニン、複合メロシアニン、ホロポー� ��ー色素等を挙げることができ、当業界で用� ��られている分光増感色素を単用あるいは併� ��して使用することができる。

 特に有用な色素は、シアニン色素、メロ� ��アニン色素、及び複合メロシアニン色素で� ��る。これらの色素類には、その塩基性異節� ��核として、シアニン色素類に通常利用され� ��核の何れをも通用できる。すなわち、ピロ� ��ン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピ� ��ール核、オキサゾール核、チアゾール核、� ��レナゾール核、イミダゾール核、テトラゾ� ��ル核、ピリジン核及びこれらの核に脂環式� ��化水素環が融合した核、及びこれらの核に� ��香族炭化水素環が融合した核、即ち、イン� ��レニン核、ベンズインドレニン核、インド� ��ル核、ベンズオキサゾール核、ナフトオキ� ��ゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチ� ��ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズ� ��ミダゾール核、キノリン核等である。これ� ��の核は、炭素原子上で置換されてもよい。

 メロシアニン色素または複合メロシアニ� ��色素には、ケトメチレン構造を有する核と� ��て、ピラゾリン-5-オン核、チオヒダントイ� ��核、2-チオオキサゾリジン-2,4-ジオン核、チ アゾリジン-2,4-ジオン核、ローダニン核、チ� ��バルビツール酸核等の5から6員異節環核を� �用することができる。

 これらの増感色素は単独に用いてもよい� ��、それらの組み合わせを用いてもよい。増� ��色素の組み合わせは特に、強色増感の目的� ��しばしば用いられる。

 これらの増感色素をハロゲン化銀乳剤中� ��含有せしめるには、それらを直接乳剤中に� ��散してもよいし、あるいは水、メタノール� ��プロパノール、メチルセロソルブ、2,2,3,3-� �トラフルオロプロパノール等の溶媒の単独� �しくは混合溶媒に溶解して乳剤へ添加して� �よい。また、特公昭44-23389号、同44-27555号、� ��57-22089号等に記載のように、酸または塩基� �共存させて水溶液としたり、米国特許第3,822 ,135号、同第4,006,025号等に記載のようにドデ� �ルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の界面� �性剤を共存させて水溶液あるいはコロイド� �散物としたものを乳剤へ添加してもよい。� �た、フェノキシエタノール等の実質上水と� �混和性の溶媒に溶解した後、水または親水� �コロイド分散したものを乳剤に添加しても� �い。特開昭53-102733号、同58-105141号に記載の� �うに親水性コロイド中に直接分散させ、そ� �分散物を乳剤に添加してもよい。

 〔ハロゲン化銀乳剤含有層〕
 本発明において、感光性ハロゲン化銀の含� ��量は特に制限はないが、銀換算で0.05g/m ² 以上1g/m ² 未満である態様が好ましい。感光性ハロゲン 化銀の含有量が0.05g/m ² 未満の場合、電磁波遮断性能を十分に得るこ とが困難となる。これは、後述する物理現像 または金属めっき処理の触媒となる現像銀核 の量が不十分となり、有効な導電性メッシュ を形成しにくくなるためと推定される。また 、感光性ハロゲン化銀の含有量が1g/m ² 以上である場合、バインダーに対するハロゲ ン化銀の量が相対的に多くなるため、被膜が 脆弱になりやすく、十分な被膜強度を維持す ることが困難となりやすい傾向となるからで ある。
ハロゲン化銀乳剤含有層は、ハロゲン化銀粒 子およびバインダーに加えて、硬膜剤、硬調 化剤、活性剤等を含有することができる。

 〔硬調化剤〕
 本発明においては、エッジが明瞭な導電性� ��ターンを描くために、感光材料は硬調であ� ��態様が好ましく、その方法として、塩化銀� ��有量を高くして粒径の分布を狭くする方法� ��あるいはヒドラジン化合物やテトラゾリウ� ��化合物を硬調化剤として使用することが好� ��しい。ヒドラジン化合物は、-NHNH-基を有す� ��化合物であり、代表的なものを下記一般式( 1)で示す。

 一般式(1)  T-NHNHCO-V、T-NHNHCOCO-V
 式中、Tは各々置換されてもよいアリール基 、ヘテロ環基を表す。Tで表されるアリール� �はベンゼン環やナフタレン環を含むもので� �この環は置換基を有してもよく、好ましい� �換基として直鎖、分岐のアルキル基(好まし� ��は炭素数1~20のメチル基、エチル基、イソプ ロピル基、n-ドデシル基等)、アルコキシ基(� �ましくは炭素数2~21のメトキシ基、エトキシ� ��等)、脂肪族アシルアミノ基(好ましくは炭� �数2~21のアルキル基を持つ、アセチルアミノ� ��、ヘプチルアミノ基等)、芳香族アシルアミ ノ基等が挙げられ、これらの他に、例えば上 記のような置換または未置換の芳香族環が-CO NH-、-O-、-SO ₂ NH-、-NHCONH-、-CH ₂ CH=N-、等の連結基で結合しているものも含む� ��Vは水素原子、置換されてもよいアルキル基 (メチル基、エチル基、ブチル、トリフロロ� �チル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチ ル基)、ヘテロ環基(ピリジル基、ピペリジル� ��、ピロリジル基、フラニル基、チオフェン� ��、ピロール基等)を表す。

 上述のヒドラジン化合物は、米国特許第4 ,269,929号の記載を参考にして合成することが� ��きる。ヒドラジン化合物はハロゲン化銀粒� ��含有層中、またはハロゲン化銀粒子含有層� ��隣接する親水性コロイド層中、さらには他� ��親水性コロイド層中に含有せしめることが� ��きる。

 特に好ましいヒドラジンの化合物を下記に� ��げる。
(H-1):1-トリフロロメチルカルボニル-2-{〔4-(3-n -ブチルウレイド)フェニル〕}ヒドラジン
(H-2):1-トリフロロメチルカルボニル-2-{4-〔2-(2 ,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ)ブチルアミド� �フェニル}ヒドラジン
(H-3):1-(2,2,6,6-テトラメチルピペリジル-4-アミ� ��-オキザリル)-2-{4-〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフ� ��ノキシ)ブチルアミド〕フェニル}ヒドラジ� �
(H-4):1-(2,2,6,6-テトラメチルピペリジル-4-アミ� ��-オキザリル)-2-{4-〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフ� ��ノキシ)ブチルアミド〕フェニルスルホンア ミドフェニル}ヒドラジン
(H-5):1-(2,2,6,6-テトラメチルピペリジル-4-アミ� ��-オキザリル)-2-(4-(3-(4-クロロフェニル-4-フ� �ニル-3-チア-ブタンアミド)ベンゼンスルホン アミド)フェニル)ヒドラジン
(H-6):1-(2,2,6,6-テトラメチルピペリジル-4-アミ� ��-オキザリル)-2-(4-(3-チア-6,9,12,15-テトラオキ サトリコサンアミド)ベンゼンスルホンアミ� �)フェニルヒドラジン
(H-7):1-(1-メチレンカルボニルピリジニウム)-2- (4-(3-チア-6,9,12,15-テトラオキサトリコサンア� ��ド)ベンゼンスルホンアミド)フェニルヒド� �ジンクロライド。

 硬調化剤としてヒドラジンを使用すると� ��に、ヒドラジンの還元作用を強化するため� ��アミン化合物またはピリジン化合物を好ま� ��く用いることができる。ヒドラジン化合物� ��還元作用を促進するアミン化合物としては� ��分子中にピペリジン環またはピロリジン環� ��少なくとも1個、チオエーテル結合が少なく とも1個、エーテル結合が少なくとも2個ある� ��とが特に好ましい。

 ヒドラジンの還元作用を促進する化合物� ��して、上述のアミン化合物の他にピリジニ� ��ム化合物やホスホニウム化合物も好ましく� ��いることができる。オニウム化合物は、正� ��荷を帯びているため、負電荷に帯電してい� ��ハロゲン化銀粒子に吸着して、現像時の現� ��主薬からの電子注入を促進することにより� ��調化を促進するものと考えられている。好� ��しいピリジニウム化合物は、特開平5-53231号 、同6-242534号のビスピリジニウム化合物を参� ��することができる。特に好ましいピリジニ� ��ム化合物は、ピリジニウムの1位または4位� �連結してビスピリジニウム体を形成してい� �ものである。塩としては、ハロゲンアニオ� �として、塩素イオンや臭素イオン等が好ま� �く、他に4フッ化ほう素イオン、過塩素酸イ� ��ン等が挙げられるが、塩素イオンまたは4フ ッ化ほう素イオンが好ましい。

 ヒドラジン化合物、アミン化合物、ピリジ� ��ウム化合物、及びテトラゾリウム化合物は� ��ロゲン化銀1モル当たり1×10 ^-6 ~5×10 ^-2 モル含有するのが好ましく、特に1×10 ^-4 ~2×10 ^-2 モルが好ましい。これらの化合物の添加量を 調節して硬調化度γを6以上にすることは容易 である。

 これらの化合物はハロゲン化粒子を含む� ��または他の親水性コロイド層に添加して使� ��する。水溶性の場合には水溶液にして、水� ��溶性の場合にはアルコール類、エステル類� ��ケトン類等の水に混和しうる有機溶媒の溶� ��としてハロゲン化銀粒子溶液または親水性� ��ロイド溶液に添加すればよい。また、これ� ��の有機溶媒に溶けないときには、ボールミ� ��、サンドミル、ジェットミル等で0.01~10μmの 大きさの微粒子にして添加することができる 。微粒子分散の方法は、写真添加剤である染 料の固体分散の技術を好ましく応用すること ができる。例えば、ボールミル、遊星回転ボ ールミル、振動ボールミル、ジェットミル等 の分散機を使用して所望の粒子径にすること ができる。分散時に界面活性剤を使用すると 分散後の安定性を向上させることができる。

 〔支持体〕
 本発明の透明電磁波遮断フィルムの作製に� ��いる支持体として例えば、セルロースエス� ��ル系フィルム、ポリエステル系フィルム、� ��リカーボネート系フィルム、ポリアリレー� ��系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルス ルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテ� �フタレート、ポリエチレンナフタレート等� �ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィ� �ム、ポリプロピレンフィルム、セロファン� �セルロースジアセテートフィルム、セルロ� �スアセテートブチレートフィルム、ポリ塩� �ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコー� �フィルム、エチレンビニルアルコールフィ� �ム、シンジオタクティックポリスチレン系� �ィルム、ポリカーボネートフィルム、ノル� �ルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテ� �フィルム、ポリエーテルケトンフィルム、� �リエーテルケトンイミドフィルム、ポリア� �ドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロ� �フィルム、ポリメチルメタクリレートフィ� �ムまたはアクリルフィルム等を用いること� �できる。また、これらプラスチックフィル� �以外に、石英ガラス、ソーダガラス等も用� �ることが可能である。

 中でも、セルローストリアセテートフィ� ��ム、ポリカーボネートフィルム、ポリスル� ��ン(ポリエーテルスルホンを含む)、ポリエ� �レンテレフタレートフィルムが好ましく用� �られる。

 本発明においては、透明性、等方性、接� ��性等の観点から、支持体としてはセルロー� ��エステルフィルムまたはポリエステルフィ� ��ムを用いることが特に好ましい。

 本発明の透明電磁波遮断フィルムをディ� ��プレイの表示画面に用いる場合には、高い� ��明性が要求されるため、支持体自体の透明� ��も高いことが望ましい。この場合における� ��ラスチックフィルムまたはガラス板の全可� ��光域の平均透過率は好ましくは85~100%であり 、より好ましくは90~100%である。また、本発� �では、色調調節剤として前記プラスチック� �ィルムまたはガラス板を本発明の目的を妨� �ない程度に着色したものを用いることもで� �る。

 本発明において、可視光域の平均透過率� ��は、400~700nmまでの可視光領域の透過率を、� ��なくとも5nm毎に測定して求めた可視光域の� ��透過率を積算し、その平均値として求めた� ��のと定義する。

 測定においては、測定アパチャーを、前� ��のメッシュパターンより十分大きくとって� ��く必要があり、少なくともメッシュの格子� ��積より100倍以上大きな面積で測定して求め� ��。

 本発明に用いる支持体の厚さには特に制� ��はないが、透過率の維持及び取り扱い性の� ��点から、5~200μmであることが好ましく、30~15 0μmであることがさらに好ましい。

 (紫外線吸収剤)
 本発明においては、電磁波遮断フィルムの� ��外線による劣化を避けるために紫外線吸収� ��を使用することが好ましい。

 紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸� ��剤、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフ� ��ノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合� ��、S-トリアジン系化合物、環状イミノエス� �ル系化合物等を好ましく使用することがで� �る。これらの中、ベンゾフェノン系化合物� �ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノ� �ステル系化合物が好ましい。ポリエステル� �配合するものとしては、特に環状イミノエ� �テル系化合物が好ましい。これら紫外線吸� �剤の添加層については特に制限はないが、� �ロゲン化銀乳剤含有層に用いられるバイン� �ーの紫外線による劣化を防止するという観� �から、ハロゲン化銀乳剤含有層への直接添� �、あるいはハロゲン化銀乳剤含有層よりも� �光に近い方に設けられる態様が好ましい。� �ロゲン化銀乳剤含有層あるいは、それに隣� �する層に添加する場合は、好ましい紫外線� �収剤としてはベンゾトリアゾール類が挙げ� �れ、例えば特開平1-250944号公報記載の一般式 [III-3]で示される化合物、特開昭64-66646号公報 記載の一般式[III]で示される化合物、特開昭6 3-187240号公報記載のUV-1L~UV-27L、特開平4-1633号� ��報記載の一般式[I]で示される化合物、特開� ��5-165144号公報記載の一般式(I)、(II)で示され� ��化合物などが好ましく用いられる。これら� ��紫外線吸収剤は、例えばジオクチルフタレ� ��ト、ジ-i-デシルフタレート、ジブチルフタ� ��ート等のフタル酸エステル類、トリクレジ� ��ホスフェート、トリオクチルホスフェート� ��の燐酸エステル類などに代表される高沸点� ��機溶媒に分散した形で添加する態様が好ま� ��く用いられる。また、これらの紫外線吸収� ��を支持体中に直接添加する態様も好ましく� ��いられ、この場合、例えば特表2004-531611号� �記載されたような態様も好ましく用いるこ� �ができる。

 〔露光〕
 本発明では、後述する現像・補力処理によ� ��、導電性パターンを形成するために、感光� ��料の露光を行う。露光に用いられる光源と� ��ては例えば、可視光線、紫外線等の光、電� ��線、X線等の放射線等が挙げられるが、紫外 線または近赤外線を用いることが好ましい。 さらに露光には波長分布を有する光源を利用 してもよく、波長分布の狭い光源を用いても よい。

 可視光線は必要に応じてスペクトル領域� ��発光を示す各種発光体が用いられる。例え� ��、赤色発光体、緑色発光体、青色発光体の� ��ずれか1種または2種以上が混合されて用い� �れる。スペクトル領域は、上記の赤色、緑� �及び青色に限定されず、黄色、橙色、紫色� �るいは赤外領域に発光する蛍光体も用いら� �る。また、紫外線ランプも好ましく、水銀� �ンプのg線、水銀ランプのi線等も利用される 。

 また、本発明では、露光は種々のレーザ� ��ビームを用いて行うことができる。例えば� ��ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レ� ��ザー、半導体レーザーまたは半導体レーザ� ��を励起光源に用いた固体レーザーと非線形� ��学結晶を組合わせた第二高調波発光光源(SHG )等の単色高密度光を用いた走査露光方式を� �ましく用いることができ、さらにKrFエキシ� �レーザー、ArFエキシマレーザー、F2レーザー 等も用いることができる。システムをコンパ クトで、迅速なものにするために、露光は、 半導体レーザー、半導体レーザーあるいは固 体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第 二高調波発生光源(SHG)を用いて行うことが好� ��しい。特にコンパクトで、迅速、さらに寿� ��が長く、安定性が高い装置を設計するため� ��は、露光は半導体レーザーを用いて行うこ� ��が好ましい。

 レーザー光源としては、具体的には、紫� ��半導体、青色半導体レーザー、緑色半導体� ��ーザー、赤色半導体レーザー、近赤外レー� ��ー等が好ましく用いられる。

 ハロゲン化銀乳剤含有層を画像状に露光� ��る方法は、フォトマスクを利用した面露光� ��行ってもよいし、レーザービームによる走� ��露光で行ってもよい。この際、レンズを用� ��た集光式露光でも反射鏡を用いた反射式露� ��でもよく、面々接触露光、近接場露光、縮� ��投影露光、反射投影露光等の露光方式を用� ��ることができる。レーザーの出力は、ハロ� ��ン化銀を感光させるのに適した量であれば� ��いので数十μW~5W程度でよい。

 〔現像処理〕
 本発明では、感光材料を露光した後、現像� ��理が行われる。現像処理は、発色現像主薬� ��含有しない、いわゆる黒白現像処理である� ��とが好ましい。

 現像処理液としては、現像主薬としてハ� ��ドロキノン、ハイドロキノンスルホン酸ナ� ��リウム、クロルハイドロキノン等のハイド� ��キノン類の他に、1-フェニル-3-ピラゾリド� �、1-フェニル-4,4-ジメチル-3-ピラゾリドン、1 -フェニル-4-メチル-4-ヒドロキシメチル-3-ピ� �ゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3-ピラゾリド ン等のピラゾリドン類及びN-メチルパラアミ� ��フェノール硫酸塩等の超加成性現像主薬と� ��用することができる。また、ハイドロキノ� ��を使用しないでアスコルビン酸やイソアス� ��ルビン酸等レダクトン類化合物を上記超加� ��性現像主薬と併用することが好ましい。

 また、現像処理液には保恒剤として亜硫� ��ナトリウム塩や亜硫酸カリウム塩、緩衝剤� ��して炭酸ナトリウム塩や炭酸カリウム塩、� ��像促進剤としてジエタノールアミン、トリ� ��タノールアミン、ジエチルアミノプロパン� ��オール等を適宜使用できる。

 現像処理で用いられる現像処理液は、画� ��を向上させる目的で、画質向上剤を含有す� ��ことができる。画質向上剤としては、例え� ��、1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール、5- メチルベンゾトリアゾール等の含窒素へテロ 環化合物を挙げることができる。

 本発明においては、露光後に行われる現� ��処理が、定着前物理現像を含んでいること� ��好ましい。ここで言う定着前物理現像とは� ��後述の定着処理を行う前に、露光により潜� ��を有するハロゲン化銀粒子の内部以外から� ��イオンを供給し、現像銀を補強するプロセ� ��のことを示す。現像処理液から銀イオンを� ��給するための具体的な方法としては、例え� ��予め現像処理液中に硝酸銀等を溶解してお� ��銀イオンを溶かしておく方法、あるいは現� ��液中に、チオ硫酸ナトリウム、チオシアン� ��アンモニウム等のようなハロゲン化銀溶剤� ��溶解しておき、現像時に未露光部のハロゲ� ��化銀を溶解させ、潜像を有するハロゲン化� ��粒子の現像を補力する方法等が挙げられる� ��

 本発明においては、現像液中に予めハロ� ��ン化銀溶剤を溶解しておく処方を用いた方� ��、未露光部でのカブリ発生による、フィル� ��の透過率低下を抑制できるため好ましい。

 本発明における現像処理においては、露� ��されたハロゲン化銀粒子の現像終了後に、� ��露光部分のハロゲン化銀粒子を除去して安� ��化させる目的で行われる定着処理を行う。� ��発明における定着処理は、ハロゲン化銀粒� ��を用いた写真フィルムや印画紙等で用いら� ��る定着液処方を用いることができる。定着� ��理で使用する定着液は、定着剤としてチオ� ��酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫� ��アンモニウム等を使用することができる。� ��着時の硬膜剤として硫酸アルミウム、硫酸� ��ロミウム等を使用することができる。定着� ��の保恒剤としては、現像処理液で述べた亜� ��酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、アスコル� ��ン酸、エリソルビン酸等を使用することが� ��き、その他にクエン酸、蓚酸等を使用する� ��とができる。

 本発明に使用する水洗水には、防黴剤と� ��てN-メチル-イソチアゾール-3-オン、N-メチ� �-イソチアゾール-5-クロロ-3-オン、N-メチル-� ��ソチアゾール-4,5-ジクロロ-3-オン、2-ニトロ -2-ブロム-3-ヒドロキシプロパノール,2-メチル -4-クロロフェノール、過酸化水素等を使用す ることができる。

 〔補力処理〕
 本発明においては、上述の現像処理によっ� ��形成された現像銀同士の接触を補助し、導� ��性を高めるために補力処理を行うことが好� ��しい。本発明において補力処理とは、現像� ��理中、あるいは処理後に、予め感光材料中� ��含有されていない導電性物質源を外部から� ��給し、導電性を高める処理のことを指し、� ��体的な方法としては、例えば物理現像、あ� ��いはめっき処理等を挙げることができる。� ��理現像は、潜像を有するハロゲン化銀乳剤� ��含有する感光材料を、銀イオンあるいは銀� ��イオンと還元剤を含有する処理液に浸漬す� ��ことで、これを施すことができる。本発明� ��おいては、物理現像の現像開始点が潜像核� ��けでなく、現像銀が物理現像開始点となっ� ��場合についても物理現像と定義し、これを� ��ましく用いることができる。

 本発明において、めっき処理には従来公� ��の種々のめっき方法を用いることができ、� ��えば電解めっき及び無電解めっきを単独、� ��るいは組み合わせて実施することができる� ��中でも、電流分布ムラによるめっきムラが� ��生しない無電解めっきを好ましく用いるこ� ��ができる。無電解めっきに用いることがで� ��る金属としては、例えば銅、ニッケル、コ� ��ルト、すず、銀、金、白金、その他各種合� ��を用いることができるが、めっき処理が比� ��的容易であり、かつ高い導電性を得やすい� ��いう観点から、銅無電解めっきを用いるこ� ��が特に好ましい。

 なお、補力処理は現像中、現像後定着前� ��定着処理後のいずれのタイミングにおいて� ��実施可能であるが、フィルムの透明性を高� ��維持するという観点から、定着処理後に実� ��することが好ましい。

 本発明において、物理現像または金属め� ��きにより付与された金属量が、感光材料を� ��光、現像処理することにより得られた現像� ��に対して、質量換算で10倍以上100倍以下で� �る態様が好ましい。この値は、物理現像ま� �は金属めっきを施す前後において、感光材� �中に含有される金属を、例えば蛍光X線分析� ��どで定量することによって求めることがで� ��る。物理現像または金属めっきにより付与� ��れた金属量が、感光材料を露光、現像処理� ��ることにより得られた現像銀に対して、質� ��換算で10倍未満である場合、導電性がやや� �下する傾向となりやすく、また、100倍より� �きい場合には、導電性メッシュパターン部� �外の不要な部分への金属析出による透過率� �低下が生じやすい傾向となる。

 尚、本発明においては、物理現像または� ��属めっきという記載は、物理現像またはめ� ��き処理の少なくとも1方の処理を施すことを 意味し、物理現像及び金属めっきの両方を含 んでも良いことを意味し、本発明においては 物理現像及び金属めっきの両方の処理を施す ことが好ましい。

 〔酸化処理〕
 本発明においては、現像処理あるいは物理� ��像またはめっき処理後に酸化処理を行うこ� ��が好ましい。酸化処理により、不要な金属� ��分をイオン化して溶解除去することが可能� ��なり、フィルムの透過率をより高めること� ��可能となる。

 酸化処理に用いる処理液としては、例え� ��Fe(III)イオンを含む水溶液を用いて処理する 方法、あるいは過酸化水素、過硫酸塩、過硼 酸塩、過燐酸塩、過炭酸塩、過ハロゲン酸塩 、次亜ハロゲン酸塩、ハロゲン酸塩、有機過 酸化物等の過酸化物を含む水溶液を用いて処 理する方法など、従来公知の酸化剤を含有す る処理液を用いることができる。酸化処理は 、現像処理終了後から、めっき処理前の間に 行われる態様が、短時間処理で効率的に透過 率向上を行うことができるため好ましい態様 であり、特に好ましくは、物理現像終了後に 行う態様である。

 (黒化処理)
 本発明においては、フィルム表面での外光� ��射を防止するという観点から、黒化処理を� ��すことが好ましい。このような黒化処理を� ��した透明電磁波遮断フィルムを例えばPDPな� ��のディスプレイに用いた場合、外光反射に� ��るコントラストの低下を軽減できるととも� ��、非使用時の画面の色調を黒く高品位に保� ��ことができ好ましい。黒化処理の方法とし� ��は、特に制限はなく、既知の手法を適宜、� ��独あるいは組み合わせて用いることができ� ��。例えば導電性パターンの最表面が金属銅� ��ら成る場合には、亜塩素酸ナトリウム、水� ��化ナトリウム、リン酸三ナトリウムを含ん� ��なる水溶液に浸漬して酸化処理する方法、� ��るいはピロリン酸銅、ピロリン酸カリウム� ��アンモニアを含んで成る水溶液に浸漬し、� ��解めっきを行うことにより、黒化処理する� ��法、などを好ましく用いることができる。� ��た、導電性パターンの最表層がニッケル-リ ン合金被膜から成る場合は、塩化銅(II)また� �硫酸銅(II)、塩化ニッケルまたは硫酸ニッケ� ��、及び塩酸を含有する酸性黒化処理液中に� ��漬する方法を好ましく用いることができる� ��

 また、上述の方法以外にも、表面を微粗� ��化する方法によっても黒化処理が可能であ� ��が、高い導電性を維持するという観点から� ��、表面の微粗面化よりも、酸化による黒化� ��理の方法が好ましい。

 〔電磁波遮断層の構成〕
 本発明においては、高い透光性と高い電磁� ��遮断性能を付与するために、格子状の細線� ��ターンを露光により描画し、次いで現像処� ��等を行うことで、導電性のメッシュパター� ��を形成する。上記導電性金属部の線幅は20μ m以下、線間隔は50μm以上であることが好まし い。また、導電性金属部は、アース接続等の 目的においては、線幅は20μmより広い部分を� ��していてもよい。また画像を目立たせなく� ��る観点からは、導電性金属部の線幅は18μm� �満が好ましく、15μm未満がより好ましく、14� �m未満がさらに好ましく、10μm未満がさらに� �り好ましく、7μm未満が最も好ましい。

 本発明における導電性金属部は、可視光� ��過率の点から開口率は85%以上が好ましく、9 0%以上がさらに好ましく、90%以上が最も好ま� ��い。開口率とは、メッシュをなす細線のな� ��部分が全体に占める割合であり、例えば、� ��幅10μm、ピッチ200μmの正方形の格子状メッ� �ュの開口率は90%である。

 本発明においては、支持体を挟んだ両側� ��各々感光性ハロゲン化銀乳剤層を設け、そ� ��ぞれに導電性パターンを形成することも好� ��しく行われる。この場合、各々の面に塗設� ��れるハロゲン化銀乳剤は、分光増感などに� ��り、それぞれ異なる波長に感度を有するよ� ��な態様が好ましい。表裏面で異なる波長に� ��度を持たせることにより、各々の面に異な� ��導電性パターンを作製することが可能とな� ��、例えば表裏面で各々異なる周波数の電磁� ��に対して選択的に遮蔽効果を有するように� ��電性パターンを形成することも可能となる� ��

 〔電磁波遮断層以外の機能性層〕
 本発明の電磁波遮断フィルムを、例えば、� ��ラズマディスプレイパネル(PDP)用の光学フ� �ルタと組み合わせて使う場合には、ハロゲ� �化銀粒子層の下に近赤外吸収染料を含む層� �ある近赤外線吸収層を設けることも好まし� �。場合によっては近赤外線吸収層を支持体� �対して、ハロゲン化銀粒子層のある側の反� �側に設けることもできるし、ハロゲン化銀� �子層側と反対側の両方に設けてもよい。ハ� �ゲン化銀を含むハロゲン化銀粒子層と支持� �との間に近赤外線吸収層を設けること、あ� �いは、ハロゲン化銀粒子層からみて支持体� �反対側に近赤外線吸収層を設けることがで� �るが、支持体の一方側にすると同時に塗布� �できるので前者の方が好ましい。

 近赤外線吸収染料の具体例としては、ポ� ��メチン系、フタロシアニン系、ナフタロシ� ��ニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモ� ��ウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン� ��、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系� ��インドールフェノール系、アゾ系、トリア� ��ルメタン系の化合物等が挙げられる。PDP用� ��学フィルタで近赤外線吸収能が要求される� ��は、主として熱線吸収や電子機器のノイズ� ��止である。このためには、最大吸収波長が7 50~1100nmである近赤外線吸収能を有する色素が 好ましく、金属錯体系、アミニウム系、フタ ロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモ ニウム系、スクワリウム化合物系が特に好ま しい。

 近赤外線吸収染料としては、ジイモニウ� ��化合物は、IRG-022、IRG-040(以上、日本化薬株� ��会社製商品名)、ニッケルジチオール錯体化 合物は、SIR-128、SIR-130、SIR-132、SIR-159、SIR-152� ��SIR-162(以上、三井化学株式会社製商品名)、� ��タロシアニン系化合物は、IR-10,IR-12(以上、� ��本触媒株式会社商品名)等の市販品を利用す ることができる。

 上記近赤外線吸収染料は、メタノール、� ��タノール及びイソプロパノール等のアルコ� ��ル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン及� ��メチルブチルケトン等のケトン溶媒、ジメ� ��ルスルホオキサイド、ジメチルホルムアミ� ��、ジメチルエーテル、トルエン等有機溶解� ��て使用するか、後述する微粒子化機械で平� ��粒子径0.01~10μmの微粒子にして塗布すること が好ましく、添加量としては光学濃度が、極 大波長で0.05~3.0濃度の範囲で使用するのが好� ��しい。

 なお、近赤外線吸収能を有する色素を、� ��調補正層に含有させる場合、上記の色素の� ��ちいずれか1種類を含有させてもよいし、2� �以上を含有させてもよい。

 本発明の透明電磁波遮断フィルムを、例� ��ば、プラズマディスプレイパネル(PDP)用の� �学フィルタと組み合わせて使う場合にはPDP� �用いられるネオンガスの輝線発光行による� �再現性の低下を防ぐためにこの対策として59 5nm付近の光を吸収する色素を含有する態様が 好ましい。このような特定波長を吸収する色 素としては、具体的には例えば、アゾ系、縮 合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノ ン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系 、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン 系、イソインドリノン系、キノフタロン系、 ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系等 の周知の有機顔料及び有機染料、無機顔料が 挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好 であることから、フタロシアニン系、アンス ラキノン系色素が特に好ましく用いられる。

 本発明の透明電磁波遮断フィルムを、デ� ��スプレイ画面の保護等を目的として用いる� ��合には、反射防止層を設けることが好まし� ��。反射防止層としては、金属酸化物、フッ� ��物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物� ��硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッ� ��リング法、イオンプレーティング法、イオ� ��ビームアシスト法等で単層あるいは多層に� ��膜積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素� ��脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは� ��層に薄膜積層させる方法等を用いることが� ��きる。

 本発明において、前記透明電磁波遮断フ� ��ルムにおいて、導電性パターンを有する層� ��対して該フィルムの支持体を挟んだ反対側� ��反射防止層を形成する場合には、まず最初� ��反射防止層を形成した後に、プロテクトフ� ��ルムを貼り合わせ、その後導電性パターン� ��を形成する態様が好ましい。導電性パター� ��を先に形成した後に反射防止層を形成する� ��合、反射防止層と支持体の接着性を向上さ� ��るために行うプラズマ処理やコロナ処理の� ��率が低下しやすい傾向にあるため、反射防� ��層を最初に形成する態様が好ましい。また� ��反射防止層を先に形成した場合、該層が現� ��及びめっき処理などにより劣化することを� ��止するという観点から、予めプロテクトフ� ��ルムを貼り合わせた後、導電性パターン層� ��形成する態様が好ましい。

 本発明において用いられるプロテクトフ� ��ルムは、一般的に市販されているプロテク� ��フィルムを用いることができるが、導電性� ��ターン形成のための感光性ハロゲン化銀乳� ��層を塗工しやすくするという観点から、フ� ��ルムの厚さは10μm以上100μm以下が好ましく� �特に好ましくは20μm以上60μm以下である。10μ m未満の場合、フィルムの剛性が著しく低下� �るためプロテクトフィルムの貼合せの作業� �率が低下しやすく、また100μmより厚い場合� �フィルムの巻き取り時に巻き取り皺などの� �障が発生しやすくなるためである。

 プロテクトフィルムに用いられる粘着剤� ��種類には特に制限はないが、反射防止フィ� ��ムを変質させることなく、また剥離時に反� ��防止フィルムにダメージを与えないものが� ��ましく用いられる。このような観点から、� ��クリル系、またはシリコーン系の粘着剤が� ��ましく用いられる。また、その粘着力とし� ��は、0.08~0.6N/25mmであるものが好ましく用い� �れる。