La présente invention a trait à l'utilisation, dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, en tant qu'agent anti-buée, d'au moins un composé du type des polysiloxanes comprenant des motifs polyéthers, ou bien des motifs aminés éventuellement combinés à des motifs polyéthers, ou bien encore des motifs polyéthers combinés à des motifs aminés encombrés (de type Hals). Elle a également pour objet un procédé de traitement anti-buée des surfaces dures par dépôt sur lesdites surfaces d'une formulation de nettoyage comprenant lesdits polysiloxanes. L'invention concerne aussi les formulations les comprenant.

Par surfaces dures, on entend plus particulièrement des surfaces comme les vitres, les miroirs, les carreaux de céramiques, les carreaux émaillés, les surfaces vitro- céramiques, les surfaces synthétiques comme les surfaces mélaminées, le formica.

Les formulations actuelles destinées au nettoyage de surfaces dures, si elles sont relativement efficaces pour ce qui concerne le nettoyage proprement dit, ne sont toutefois pas très performantes pour éviter la formation de buée sur de telles surfaces.

Ce problème peut être gênant, par exemple s'il a lieu dans les pièces d'une maison où le degré d'humidité est élevé, tel que dans les salles de bains entre autres, ou bien dans les pièces où la différence de température entre t'extérieur et l'intérieur est importante. Ce phénomène peut devenir critique, s'il apparaît dans un véhicule en mouvement, car il limite fortement la visibilité du conducteur.

La présente invention a donc pour but d'apporter une solution au problème d'apparition de buée, soit en t'évitant, soit en accélérant sa disparition du support.

Ainsi, la présente invention concerne l'utilisation en tant qu'agent anti-buée, dans une formulation destinée au nettoyage de surfaces dures, d'au moins un composé de formule suivante (I) : formule dans laquelle : R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les radicaux alkyles en Ci-C6, les radicaux alcoxy en Ci-Ce, le radical phényle, le radical hydroxyle ; de préférence, les radicaux R, identiques ou différents, représentent le radical méthyle, hydroxyméthyle, hydroxyéthyle, hydroxyle ; au moins 60% en nombre desdits symboles R représentant un radical alkyle en C1- C6, méthyle de préférence ;

R'identiques ou différents, représentent un radical R ou un groupement X, au moins un des symboles R'représentant X lorsque m+p+t = 0 X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante : -R1 (O-R2),-OR3 formule dans laquelle : R1 représente un radical alkyle linéaire en Cl-Cl5, ou un radical alkyle ramifié en C4-Cis. Plus particulièrement, le radical linéaire est en C1-Cg et de préférence en C3-C9. Quant au radical ramifié, il est de préférence en C4-Cg ; selon un mode de réalisation particulièrement avantageux de l'invention, le radical linéaire est en C3, le radical ramifié est en C4 ; R2, identiques ou différents, représentent-CH2CH2-ou-CH (CH3)-CH2-, ou leurs combinaisons ; ces dernières pouvant présenter des répartitions statistiques ou blocs ; R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Ce ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié en C1-C6. De préférence, le radical R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, le radical-COCH3 ; r, représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie de 2 à 200 ; Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules (b1) et/ou (b2) suivantes : dans lesquelles : a vaut 0 ou de préférence 1 R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi : -les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C1g, les radicaux alkylène- carbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C20 -les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4, -les radicaux de formule-R7- (CO) b 0-R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en Cl-Cl2, l'un et/ou I'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements-OH, b étant égal à 0 ou 1,

-les radicaux de formule-R8-O-R9-OCO-R8 dans laquelle les radicaux R8 et R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylène en C2-C1z, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle ; U représente-O-ou-NR10-, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, et un radical divalent de formule : dans laquelle R4 a la signification indiquée précédemment, R5 et R6 ont les significations indiquées ci-après et R11 représente un radical divalent alkylène, linéaire ou ramifié, en Cl-Cl2, l'un des liens valentiels (celui de R11) étant relié à l'atome de -NR10-, I'autre (celui de R4) étant relié à un atome de silicium ; de préférence, U représente-O-ou-NR10-, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-Ce ; R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en Cl-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle ; R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O ; R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule : où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule : où p représente un nombre de 2 à 20.

U' représente -O- ou -NR12-, R12 étant un radical représentant un atome d'hydrogène ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6 ; Z correspond à un groupement de formule (c1) ou (c2) : -R1-N(R13)2-R1-N(R13)-R'1-N(R14)2 c1 c2 formules dans lesquelles : R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15, R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Cl-C20, plus particulièrement en C1-C10, de

préférence en Ci-C4, un radical cylcoalkyle en Cs-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-C20, plus particulièrement en Ci-Cio, de préférence en C1-C4 ; n représente : * un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 5 à 1000, de préférence de 5 à 500, lorsque p et/ou t sont (est) différent (s) de 0 * un nombre moyen, entier ou décimal, supérieur à 50 et allant jusqu'à 1000, de préférence allant de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150 lorsque p et t sont égaux à 0 m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, et plus particulièrement de 0 à 200, de préférence de 2 à 50 p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450 ; selon un mode plus particulier de réalisation de l'invention, p varie de 0 à 100, et de préférence de 0 à 50 t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 1 à 20, si au moins p est égal à 0 ; Dans le cas où au moins p est différent de 0, alors t est égal à 0.

Le composé de formule (I) peut en outre présenter quelques motifs T et/ou Q ; le nombre de ces motifs T etlou Q peut aller jusqu'A 10 pour 100 atomes de silicium, de préférence jusqu'à 5 pour 100 atomes de silicium.

II est rappelé que par motifs T et Q, on entend des atomes de silicium qui sont engagés dans un réseau. Les motifs T correspondent à un atome de silicium partageant, sur les quatre liaisons, trois atomes d'oxygène avec trois autres atomes de silicium (symbolisé aussi par R-Si-03/2) ; les motifs Q représentent un atome de silicium partageant quatre atomes d'oxygène avec quatre atomes de silicium (aussi symbolisé par Si-04/2).

En outre, et ce de manière classique dans le domaine des composés comme les polysiloxanes, la formule (I) est comprise comme décrivant aussi des polymères présentant une répartition statistique des différents groupements mentionnés.

Un second objet de la présente invention est constitué par un procédé pour le traitement anti-buée des surfaces dures, par dépôt sur lesdites surfaces d'un formulation de nettoyage comprenant au moins un composé de formule (I) ci-dessus.

Un troisième objet de la présente invention est constitué par une formulation comprenant : (a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) telle que décrite ci-dessus, (b) 0 à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100°C, (c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, d'au moins un tensioactif,

(d) 0 à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol, (e) complément à 100 % en poids d'eau.

Ainsi, la formulation comprenant au moins un compose de formule (I) permet d'éviter la formation de buée ou d'en limiter fortement les effets, tout en conservant les propriétés de nettoyage de la formulation.

Mais d'autres avantages apparaîtront plus clairement à la lecture de la description et des exemples qui vont suivre.

Ainsi que cela a été indiqué, on met en oeuvre dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, au moins un composé de formule (I) telle que définie ci-dessus.

Selon un premier mode de réalisation de l'invention, on met en oeuvre en tant qu'agent anti-buée, au moins un composé de formule (I) tel que les coefficients p et t sont égaux à 0, et m est différent de ou égal à 0. Par conséquent, le polysiloxane selon ce premier mode est exempt de motifs aminés, et ne comprend que des motifs polyéthers.

Selon une première variante de ce premier mode, le composé de formule (I) est tel que le coefficient m est différent de 0 et va plus particulièrement de 2 à 50. On rappelle que m est une valeur moyenne, entière ou décimale.

Selon une seconde variante de ce premier mode, le-coefficient m égal à 0. Dans ce cas, au moins l'un des radicaux R'représente le groupement X défini auparavant.

Seion un mode de réalisation tout particulièrement avantageux de la présente invention, le composé de formule (I) correspond à la formule suivante : dans laquelle : R identiques ou différents, représentent le radical méthyle R'identiques ou différents, représentent un radical méthyle ou un groupement X, au moins un des symboles R'représentant X lorsque m est égal à 0 X représente un groupement de formule (a) suivante : -R1- (O-R2) r-OR3 formule dans laquelle : RI représente un radical alkyle linéaire en C3-C9, de préférence en C3, ou un <BR> <BR> radical alkyle ramifié en C4-C9, de préférence en C4,<BR> <BR> - (O-R2) représente :- (O-CH2CH2) rl- (O-CH (CH3)-CH2) r2-dans laquelle r1 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 2 à 100, plus particulièrement de 10 à 30, et de préférence de 20 à 30, r2 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 0 à 100, plus particulièrement de

10 à 30, et de préférence de 20 à 30, la répartition entre les groupements étant de type bloc, R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-C6, et de préférence R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical-CO-CH3. m est égal à 0 ou différent de 0 et va de préférence de 2 à 50 n est supérieur à 50 et va jusqu'à 1000, de préférence va de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150.

Le nombre de motifs Q et T éventuellement présents peut aller de préférence jusqu'à 5 pour 100 atomes de silicium.

Des composés de ce type ont notamment été décrits dans la demande de brevet EP 633018.

Selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention, on emploie dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, des composés de formule (t) dans lesquels le coefficient p est différent de 0, le coefficient t étant égal à 0. Dans ce cas, de tels composés comprennent au moins des motifs portant des fonctions amines encombrées. Et de manière tout à fait avantageuse, les composés de formule (I) correspondant à ce second mode de-réalisation, présentent en outre un coefficient m différent lui aussi de 0. En d'autres termes, les composés présentent à la fois des motifs portant des fonctions polyéthers et des motifs portant des fonctions amines encombrées.

Conformément à ce deuxième mode de réalisation de l'invention, le composé de formule (I) est tel que le coefficient p varie de 0,2 à 20.

Selon ce mode de réalisation particulier, le groupement Y porte un radical (U) comprenant un cycle à 5, ou de préférence à 6 atomes, dont l'un est un azote ; ce dernier étant substitué en positions a et a'par quatre radicaux alkyles et/ou phényles (amine encombrée type Hals).

En outre, une variante particulière de ce deuxième mode consiste à mettre en oeuvre des composés de formule (I) pour lesquels le coefficient n présente une valeur allant de 100 à 1000.

Une caractéristique préférentielle des composés de formule (I) est que le coefficient m varie de 2 à 150, et de préférence de 2 à 20.

De plus, la somme des motifs siloxanes totaux (T et Q inclus) peut aller de 10 à 2000.

Le groupement X de formule-R1- (O-R2) r-OR3, est de préférence tel que : R1 représente un radical alkyle linéaire en C3-C9, de préférence en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4-Cg, de préférence en C4 ;

- (O-R2) représente :- (O-CH2CH2) ri- (0-CH (CH3)-CH2) r2-dans laquelle r1 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 2 à 100, plus particulièrement de 5 à 50, et de préférence de 8 à 25, r2 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 0 à 100, plus particulièrement allant de 0 à 50, et de préférence de 0 à 7, R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, et de préférence R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical-CO-CH3.

Le composé de formule (I) correspondant à ce deuxième mode de réalisation peut en outre, présenter, pour 100 atomes de silicium, au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement X. De plus, pour 100 atomes de silicium, le composé de formule (I) comprend au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement Y.

Ces composés sont bien connus et ont notamment été décrits dans la demande de brevet WO 97/33034.

Selon un troisième mode de réalisation de l'invention, le composé de formule (I) est tel que le coefficient t va de 1 à 20, si au moins p est égal à 0. Dans un tel cas, le composé de formule (I) ne comprend que des motifs aminés non encombrés.

Ce troisième mode comprend une première variante, dans laquelle le coefficient m est différent de 0, et de préférence va de 2 à 50. Les groupements polyoxyéthylénés et polyoxypropylénés présentent de préférence une répartition bloc et des coefficients r1 et r2, comme décrits dans le premier mode de réalisation de l'invention.

La seconde variante de ce troisième mode de réalisation consiste en des composés de formule (I) dans lesquels le coefficient m est égal à 0.

Conformément à ce troisième mode de réalisation, le groupement Z correspond de préférence aux formules (cl) ou (c2) suivantes : -R1-N(R13)2-R1-N(R13)-R'1-N(R14)2 c1 c2 formules dans lesquelles : R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical divalent alkyle linéaire en C3, ou un radica ! afkyte ramifié en C4, <BR> <BR> <BR> R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C4, un radical cylcoalkyle en Cs-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-C4.

Bien évidemment, les formulations destinées au nettoyage de surfaces dures peuvent comprendre un ou plusieurs composés de formule (I), correspondant à l'une et/ou I'autre des trois modes de réalisation précités.

La teneur totale en composé de formule (I) varie de 0,1 à 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, cette teneur va de 0,1 à 2 % en poids par rapport à la même référence.

Les formulations selon l'invention, comprennent de t'eau.

Plus particulièrement, la teneur en eau est telle qu'elle représente le complément à 100 % de la formulation.

A titre indicatif, elle va généralement de 50 à 99 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, la teneur en eau va de 70 à 95 % en poids par rapport à la même référence. De manière encore plus préférée, la teneur en eau va de 90 à 95% en poids par rapport à la même référence.

Les formulations peuvent comprendre éventuellement au moins un solvant. Ce solvant est plus particulièrement soluble dans t'eau. De façon avantageuse, on choisit un solvant considéré non toxique.

Parmi les solvants de ce type, on peut citer des solvants comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100°C.

Conviennent particulièrement à la réalisation de l'invention les solvants tels que les monoalcools, comme notamment I'éthanol, le propanol, 1'isopropanol, seuls ou en mélange.

La teneur en solvant, si celui-ci est présent dans la formulation selon l'invention, va plus particulièrement de 0,1 à 20 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence la teneur en solvant va de 5 à 15 % en poids par rapport à la même référence.

La formulation selon l'invention peut de plus comprendre au moins un tensioactif.

Ce dernier peut être de type non ionique ou ionique, dans la mesure où il est compatible avec le reste de la formulation.

Parmi les tensioactifs ioniques, et plus particulièrement anioniques, susceptibles d'entrer dans la composition des formulations selon l'invention, on peut citer sans intention de s'y limiter : . les alkylesters sulfonates de formule R-CH (S03M)-COOR', où R représente un radical alkyle en C8-20, de préférence en C1o-Cl6, R'un radical alkyle en Ci-Ce, de préférence en Ci-C3 et M un cation alcalin (sodium, potassium, lithium), ammonium substitué ou non substitué (méthyl-, diméthyl-, triméthyl-, tetraméthylammonium, diméthylpiperidinium ...) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine ...). On peut citer tout particulièrement les méthyl ester sulfonates dont les radical R est en C14-Ci6 ;

les alkylsulfates de formule ROSO3M, où R représente un radical alkyle ou hydroxyalkyle en C1o-C24, de préférence en C12-C20 et tout particulièrement en C12- C18, M représentant un atome d'hydrogène ou un cation de même définition que ci- dessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) et/ou propoxylénés (OP), présentant en moyenne de 0,5 à 6 motifs, de préférence de 0,5 à 3 motifs OE et/ou OP ; . les alkylamides sulfates de formule RCONHR'OSO3M où R représente un radical alkyle en C2-C22, de préférence en Ce-C20. R'un radical alkyle en C2-C3, M représentant un atome d'hydrogène ou un cation de même définition que ci-dessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) et/ou propoxylénés (OP), présentant en 0,5à60motifsOEet/ouOP;moyennede . les sels d'acides gras saturés ou insaturés en C8-C24, de préférence en C14-C20, les alkylbenzènesulfonates en C9-C20, les alkylsulfonates primaires ou secondaires en C8- C22, les alkylglycérol sulfonates, les acides polycarboxyliques sulfonés décrits dans GB-A-1 082 179, les sulfonates de paraffine, les N-acyl N-alkyltaurates, les <BR> <BR> <BR> alkylphosphates, les alkyliséthionates, les alkylsuccinamates les alkylsulfosuccinates, les monoesters ou diesters de sulfosuccinates, les N-acyl sarcosinates, les sulfates d'alkylglycosides, les polyéthoxycarboxylates le cation étant un métal alcalin (sodium, potassium, lithium), un reste ammonium substitué ou non substitué (méthyl-, diméthyl-, triméthyl-, tetraméthylammonium, diméthylpiperidinium...) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine...) ; Parmi les tensioactifs cationiques susceptibles d'être mis en oeuvre dans les formulations selon l'invention, on peut citer plus spécialement les halogénures d'alkyldiméthylammonium, les halogénures d'alkyldihydroxydiméthylammonium, les diesters de trialcanoalime quaternisée avec du diméthylsulfate, les dialkylamidoamines quaternisées.

Pour ce qui a trait aux tensioactifs de type amphotère et zwitterionique, alkylamphoacétates, les alkyldiméthylbétaïnes,lesles alkylamidopropyldiméthylbétaïnes, les alkyltriméthylsulfobétaines, les produits de condensation d'acides gras et d'hydrolysats de protéines, peuvent convenir à la mise en oeuvre de invention.

Parmi les tensioactifs non ioniques, on peut mentionner les alkylphénols polyoxypropylénés,polyoxybutylénés)dontlepolyoxyalkylén és(polyéthoxyéthylénés, substituant alkyle est en C6-C12 et contenant de 5 à 25 motifs oxyalkylènes. A titre d'exemple, on peut citer les TRITON X-45, X-114, X-100 ou X-102 commercialisés par Rohm & Haas Cy.

Les glucosamide, glucamide, les alkylpolyglycosides décrits dans US-A-4 565 647, les glycérolamides dérivés de N-alkylamines (US-A-5,223,179 et FR-A-1,585,966) peuvent de même convenir.

On peut aussi mentionner les alcools aliphatiques en C8-C22 polyoxyalkylénés contenant de 1 à 25 motifs oxyalkylènes (oxyéthylène, oxypropylène), avec à titre d'exemple, les TERGITOL 15-S-9, TERGITOL 24-L-6 NMW commercialisés par Union Carbide Corp., NEODOL 45-9, NEODOL 23-65, NEODOL 45-7, NEODOL 45-4 <BR> <BR> <BR> commercialisés par Shell Chemical Cy., KYRO EOB commercialisé par Procter & Gamble Cy.

Les formulations selon l'invention peuvent de même comprendre en tant que tensioactifs non ioniques des composés issus de la condensation de l'oxyde d'éthylène avec un composé hydrophobe résultant de la condensation de l'oxyde de propylène avec le propylène glycol, tels les PLURONIC commercialisés par BASF, les composés issus de la condensation de l'oxyde d'éthylène ou de l'oxyde de propylène avec I'éthylènediamine, tels les TETRONIC commercialisés par BASF.

Les tensioactifs du type des oxydes d'amines tels que les oxydes d'alkyl C1o-C18 diméthylamines, les oxydes d'alkoxy C8-C22 éthyl dihydroxy éthylamines, des amides d'acides gras en C8-C20, des acides gras éthoxylés, des amides gras éthoxylés, des amines éthoxylées peuvent aussi être employés.

La teneur en tensioactif totale dans les formulations selon l'invention est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, cette teneur est comprise entre 0,1 et 3 % en poids par rapport à la même référence.

Les formulations peuvent comprendre, si nécessaire, au moins un solvant supplémentaire qui soit compatible avec le reste de la formulation. De plus, le solvant présente, de manière avantageuse, des propriétés de dégraissage.

Plus particulièrement, de tels solvants sont choisis parmi les dérivés du glycol tels que le monoéthylène glycol, le diéthylène glycol, le monopropylène glycol, le dipropylène glycol, le butyidiglycol, et leurs dérivés mono-ou poiy-éthérifiés. La partie hydrocarbonée de l'éther étant un alkyle linéaire ou ramifié en Ci-Ce.

II est à noter que le solvant supplémentaire peut être un mélange de plusieurs solvants.

La teneur en solvant supplémentaire dans la formulation selon l'invention, si elle en contient, est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation.

Les formulations selon l'invention, destinées au nettoyage de surfaces dures peuvent comprendre des additifs classiques dans le domaine.

Ainsi, ces dernières peuvent comprendre des agents suppresseurs de mousse, en quantités pouvant aller jusqu'à 5% en poids. Parmi les agents convenables, on peut

mentionner à titre d'illustration, les acides gras monocarboxyliques en C10-C24 ou leurs sels alcalins, d'ammonium ou alcanolamines, les triglycérides d'acides gras, les hydrocarbures saturés ou insaturés aliphatiques, alicycliques, aromatiques ou hétérocycliques, tels que les paraffines, les cires, les N-alkylaminotriazines, les monostéarytphosphates, tes monostéary) atcoot phosphates.

Les formulations selon l'invention peuvent aussi comprendre des agents tampons, des parfums, des pigments, et/ou des colorants.

Un autre objet de la présente invention est constituée par des formulations comprenant : (a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) suivante : formule dans laquelle : R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les radicaux alkyles en Ci-Ce, les radicaux alcoxy en Ci-C6, le radical phényle, le radical hydroxyle, au moins 60% en nombre desdits symboles R représentant un radical alkyle en C1-C6, méthyle de préférence ; R'identiques ou différents, représentent un radical R ou un groupement X, au moins un des symboles R'représentant X lorsque m+p+t = 0 X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante : -RI- (0-R2) r-OR3 formule dans laquelle R1 représente un radical alkyle linéaire en Cl-Cl5, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15 ; R2, identiques ou différents, représentent-CH2CH2-ou-CH (CH3)-CH2-, ou leurs combinaisons ; ces dernières pouvant présenter des répartitions statistiques ou blocs ; R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Ce ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié en Ci-Ce ; r, représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie de 2 à 200.

Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules (b1) et/ou (b2) suivantes :

dans lesquelles : a vaut 0 ou de préférence 1 R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi : -les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C18 les radicaux alkylène- carbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C20, -les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en Ci-C4, -les radicaux de formule-R7- (CO) b 0-R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en Cl-Cl2, I'un etlou I'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements-OH, b étant égal à 0 ou 1, -les radicaux de formule-R8-O-R9-OCO-R8 dans laquelle les radicaux R8 et R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylène en C2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle ; U représente -O-ou-NR10-, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, et un radical divalent de formule : dans laquelle R4 a la signification indiquée précédemment, R5 et R6 ont les significations indiquées ci-après et R11 représente un radical divalent alkylène, linéaire ou ramifié, en Ci-Ci2,1'un des liens valentiels (celui de R11) étant relié à t'atome de-NR'»-, I'autre (celui de R4) étant relié à un atome de silicium ; R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en Cl-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle ; R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O ; R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule : où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule : où p représente un nombre de 2 à 20.

U'représente-O-ou-NR12-, R12 étant un radical représentant un atome d'hydrogène ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6 ; Z correspond à un groupement de formule (c1) ou (c2) : -R1-N (R13) 2 R1-N (R13)-R'1-N (R14) 2 c1 c2 formules dans lesquelles : RI, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en Cl-Cl5, ou un radical alkyle ramifié en c4-cl5, R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20, un radical cylcoalkyle en Cs-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C20, n représente : * un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 5 à 1000, de préférence de 5 à 500, lorsque p et/ou t sont (est) différent (s) de 0 * un nombre moyen, entier ou décimal, supérieur à 50 et allant jusqu'à 1000, de préférence allant de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150 lorsque p et t sont égaux à 0 m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, et plus particulièrement de 0 à 200, de préférence de 2 à 50 p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450 ; selon un mode plus particulier de réalisation de l'invention, p varie de 0 à 100, et de préférence de 0 à 50 t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 1 à 20, si au moins p est égal à 0 ; dans le cas où au moins p est différent de 0, alors t est égal à 0.

(b) 0,1 à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 1 00°C, (c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, d'au moins un tensioactif, (d) 0 à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol, (e) complément à 100 % en poids d'eau. Plus particulièrement, la teneur en eau va de 50 à 99 % en poids par rapport au poids total de la formulation, de préférence, de 70 à 95 % en poids. Selon un mode plus particulier, la teneur en eau va de 90 à 95% en poids par rapport à la même référence.

Tout ce qui vient d'être décrit à propos de la nature et des variantes préférées du composé de formule (I), de même que les divers éléments constitutifs de la formulation et leur proportions respectives, reste valable et ne sera par conséquent pas repris dans cette partie.

Les formulations selon l'invention sont obtenues par simple mélange de chacun des éléments constitutifs énoncés auparavant.

Des exemples concrets mais non limitatifs de l'invention vont maintenant être présentés.

EXEMPLES Dans ce qui va suivre, les formulations ont été testées selon le protocole suivant : -laver des miroirs d'environ 15 cm x 1 5 cm à l'aide d'un liquide vaisselle, -traiter les miroirs à I'aide de 0,3 g de la formulation à tester, en répartissant la formulation à I'aide de papier absorbant ("type Sopalin#"), -placer les miroirs dans un réfrigérateur pendant 30 minutes, -observer l'apparition de buée, après les avoir retiré du réfrigérateur, -après disparition de la buée, observer la présence de traces, taches et points sur les miroirs.

On prépare trois formulations : A comparatif B selon l'invention, avec un polysiloxane comprenant des motifs polyéthers (R1 =- (CH2) 3-, rl, r2 compris entre 20 et 25, R3 = H, 65 s 6 s m 5 9, p=t=0).

C selon l'invention avec un polysiloxane comprenant des motifs polyéthers et <BR> <BR> <BR> amines encombrées (90 s n s 120 ; motifs polyéthers : R1 = -(CH2) 3-, 8 # r1 # 12,<BR> <BR> <BR> <BR> <BR> 1 # r2 # 3, R3 = H, 2 s m s 5 ; motifs amines encombrées : Y = b1, a = 1, R4 =- (CH2) 3-, U = O, R5 = CH3, R6 = H, 2 s p s 5 ; t = 0 ; la somme des motifs totaux étant comprise entre 100-200).

Les compositions sont rassemblées dans le tableau ci-dessous : formulation A B C composants (% pds) (% pds) (% pds) 777alcoolisopropylique dodécyIbenzènesulfonate de sodium (37%) 0,5 0,5 0,5 monométhytéther de dipropylèneglycol 0, 25 0,25 0,25 polysiloxane motifs 0,5-- polysiloxane motifs amines--0,5et encombrées eau qsp t 00 qsp 100 qsp 100 Les résultats sont les suivants : ABC buée importante. absence de buée. buée moins importante avec une disparition plus rapide que pour la formulation A.

Aucune des trois formulations ne laisse de traces apparentes sur les miroirs traités.