Title:
シリコン太陽電池の製造のための高速レーザ走査システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2014529509
Kind Code:
A
Abstract:
太陽電池の製造中に１つまたは複数の層内に孔をレーザドリル加工するために多面鏡およびビームシェーパを使用するレーザ走査装置が提供される。この装置は、裏面電気接点の形成中に太陽電池の裏側パッシベーション層内に孔をレーザドリル加工するために使用することができる。この装置は、太陽電池の裏面電気接点の形成の速度を改善するための多面鏡の使用を含む。この装置はまた、レーザドリル加工動作中に下にある太陽電池基板の損傷を防止するようにビームのプロファイルを調節するためのビームシェーパの使用を含むことができる。基板上に配置された材料層のレーザドリル加工のために基板の直線移動の速度およびタイミングおよびレーザ走査装置の動作を閉ループで制御するレーザ走査モジュールが提供される。
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Inventors:
ジー， ジェームズ エム．
フランクリン， ジェフリーエル．
フランクリン， ジェフリーエル．
Application Number:
JP2014527221A
Publication Date:
November 13, 2014
Filing Date:
August 20, 2012
Export Citation:
Assignee:
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
International Classes:
B23K26/382; B23K26/00; B23K26/02; B23K26/064; B23K26/082; B23K26/57
Domestic Patent References:
| JP2008254029A | 2008-10-23 | |||
| JP2002144055A | 2002-05-21 | |||
| JP2004344928A | 2004-12-09 | |||
| JP2001105164A | 2001-04-17 | |||
| JP2010142834A | 2010-07-01 | |||
| JP2007194636A | 2007-08-02 | |||
| JP2008254029A | 2008-10-23 | |||
| JP2002144055A | 2002-05-21 | |||
| JP2004344928A | 2004-12-09 | |||
| JP2001105164A | 2001-04-17 |
Foreign References:
| US20090239332A1 | 2009-09-24 | |||
| US6720524B1 | 2004-04-13 |
Attorney, Agent or Firm:
Yoshitaka Sonoda
Yoshinori Kobayashi
Yoshinori Kobayashi