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Title:
ドリフトおよび減速モードにおけるビーム角度制御を有するイオン注入システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020525973
Kind Code:
A
Abstract:
イオン注入システムは、イオンビームを形成するイオン源を有する。質量分析器はビーム経路に沿って質量分析されたビームを画定し、変化させる。可動質量分解開口アセンブリは、質量分析器によるビーム経路の変化に応じて位置が選択的に変化する分解開口を有する。配置された偏向減速部材は、ビーム経路を選択的に偏向させ、質量分析されたビームを選択的に減速させる。コントローラは、ドリフトモードと減速モードの両方でイオン注入システムを選択的に動作させる。コントローラは、ドリフトモードにおいて偏向または減速することなく、質量分析されたビームを第1の経路に沿って分解開口を通って通過させ、減速モードにおいてビームを第2の経路に沿って偏向および減速させる。分解開口の位置は、質量分析器および偏向減速部材によるビーム経路の変化に基づいて選択的に変更される。

Inventors:
Vanderberg, Bo
Edward Eisner
Application Number:
JP2019569290A
Publication Date:
August 27, 2020
Filing Date:
June 13, 2018
Export Citation:
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Assignee:
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
International Classes:
H01J37/317; H01L21/265
Attorney, Agent or Firm:
Harakenzo world patent & trademark