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Title:
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク、半導体装置の製造方法、およびハーフトーン型位相シフトマスクの修正方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP4325175
Kind Code:
B2
Inventors:
原口 崇
松尾 正
伊井 稔博
佐賀 匡
Application Number:
JP2002323475A
Publication Date:
September 02, 2009
Filing Date:
November 07, 2002
Export Citation:
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Assignee:
凸版印刷株式会社
International Classes:
G03F1/32; G03F1/68; G03F7/20; H01L21/027
Domestic Patent References:
JP2001092106A
JP2000155409A
JP8262688A
JP2000250196A
JP6342205A
JP8076353A
JP2001201842A
JP10186632A
JP9311431A
JP2001005167A
JP7152141A