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Title:
圧電薄膜デバイス及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2004088840
Kind Code:
A1
Abstract:
振動用空間(20)を有する基板(12)と、この基板の上面側に形成された圧電積層構造体(14)とを有しており、この圧電積層構造体は圧電体膜(16)とその両面にそれぞれ形成された下部電極(15)及び上部電極(17)とを含み、振動用空間(20)は圧電積層構造体(14)の少なくとも一部及び絶縁体層(13)の一部を含んで構成される振動部(23)の振動を許容するように形成されている圧電薄膜デバイス(10)。振動用空間(20)は、基板内に中間面(25)を形成するように基板(12)の下面から上面に向けて形成された第1のビアホール(21)と、上下方向に見て第1のビアホール(21)の内側に位置するように中間面(23)から基板の上面に向けて形成された第2のビアホール(22)とにより構成されている。

Inventors:
Keigo Nagao
Kosuke Nishimura
Tetsuo Yamada
Otani Osamu
Sakae Matsuzaki
Application Number:
JP2005504238A
Publication Date:
July 06, 2006
Filing Date:
March 30, 2004
Export Citation:
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Assignee:
Ube Industries,Ltd.
International Classes:
H03H9/17; H01L41/08; H01L41/09; H01L41/18; H01L41/22; H01L41/316; H03H3/02; H03H9/10; H03H9/56
Attorney, Agent or Firm:
Jyohei Yamashita