Title:
マイクロ波加熱照射装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016017218
Kind Code:
A1
Abstract:
マイクロ波が照射されることで内部に収められた試料（５０）を加熱させる反応炉（１）と、反応炉（１）に設けられた偏波グリッド（２）と、反応炉（１）の外側に配置され、直線偏波のマイクロ波を照射する１つのマイクロ波放射源（３）と、反応炉（１）の上方に配置され、マイクロ波放射源（３）により照射されたマイクロ波を、偏波グリッド（２）を介して反応炉（１）に反射する反射鏡（４）とを備え、マイクロ波放射源（３）は、偏波グリッド（２）の向きに対して入射されるマイクロ波の偏波方向が直交するよう配置された。
Inventors:
Yuki Takatani
Takigawa Michio
Yoshio Inazawa
Takuro Sasaki
Yukihiro Homma
Takigawa Michio
Yoshio Inazawa
Takuro Sasaki
Yukihiro Homma
Application Number:
JP2016538172A
Publication Date:
April 27, 2017
Filing Date:
April 16, 2015
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Electric Corporation
International Classes:
F27D11/12; B01J19/12; H05B6/64
Domestic Patent References:
| JPS56109490A | 1981-08-29 | |||
| JP2008276986A | 2008-11-13 | |||
| JP2014015381A | 2014-01-30 | |||
| JP2013011384A | 2013-01-17 |
Foreign References:
| WO2014054276A1 | 2014-04-10 | |||
| WO1994026408A1 | 1994-11-24 | |||
| WO2014115704A1 | 2014-07-31 |
Attorney, Agent or Firm:
Hideaki Tazawa
Hamada Hatsune
Nakashima Shigeru
Tatsuya Sakamoto
Tsujioka Masaaki
Kazuma Inoue
Hamada Hatsune
Nakashima Shigeru
Tatsuya Sakamoto
Tsujioka Masaaki
Kazuma Inoue