Title:
シクロヘキサンの酸化方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015522610
Kind Code:
A
Abstract:
一連の酸素浄化帯および一連の酸化帯を含む反応帯が提供される。一次流が、液体シクロヘキサンを含む酸化浄化帯に導入される。次に、一次流は、下方に、酸素浄化帯から酸化帯に通され、一方、酸素含有ガスは、上方に、酸化帯から酸素浄化帯に逆流的に通される。反応中、酸化帯は約１４５℃〜約１７０℃の温度範囲で保持される。生成混合物は、シクロヘキシルヒドロペルオキシド（ＣＨＨＰ）、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含む酸化帯から引き出される。３．０容量％未満の非反応酸素を含む酸化オフガスは、酸素浄化帯から引き出される。【選択図】図２
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Inventors:
Valdes, david, lee
Application Number:
JP2015523056A
Publication Date:
August 06, 2015
Filing Date:
July 19, 2012
Export Citation:
Assignee:
INVISTA TECHNOLOGIES S.a.r.l.
International Classes:
C07C29/50; C07C35/08; C07C45/33; C07C49/403; C07C407/00; C07C409/14
Domestic Patent References:
| JPS5529059B1 | 1980-07-31 | |||
| JPS50137953A | 1975-11-01 |
Attorney, Agent or Firm:
Seiji Ohno
Takeshi Katata
Ken Kitano
Hiroshi Otani
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