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Title:
インドロカルバゾールノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017094780
Kind Code:
A1
Abstract:
下記式（１）：（式（１）中、Ａは少なくとも２個のアミノ基を有する２価の基であって、該基は縮合環構造を有し且つ該縮合環上の水素原子を置換する芳香族基を有する化合物から誘導される基であり、Ｂ１、Ｂ２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、ベンゼン環基、縮合環基又はそれらの組み合わせを示すかまたは、Ｂ１とＢ２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって環を形成しても良い。）で表される単位構造を含むポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物。

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Inventors:
virtue eiko
Daigo Saito
Keisuke Hashimoto
Rikimaru Sakamoto
Application Number:
JP2017554146A
Publication Date:
October 18, 2018
Filing Date:
November 30, 2016
Export Citation:
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Assignee:
Nissan Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/11; C08G12/26; G03F7/20; H01L21/027
Domestic Patent References:
JP2014029435A2014-02-13
JP2008501985A2008-01-24
Foreign References:
WO2008126804A12008-10-23
WO2006132088A12006-12-14
Other References:
NAIR, VIJAY: "An efficient synthesis of indolo[3,2-a]carbazoles via the novel acid catalyzed reaction of indoles a", ORGANIC & BIOMOLECULAR CHEMISTRY, vol. 6, JPN6020035383, 2008, pages 1738 - 1742, ISSN: 0004347533
Attorney, Agent or Firm:
Hanabusa Patent and Trademark Office



 
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