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Patent Searching and Data


Title:
ALIGNED ULTRAVIOLET CURING APPARATUS
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2015/089862
Kind Code:
A1
Abstract:
An aligned ultraviolet curing apparatus comprising multiple ultraviolet light sources (300) and a reflective plate (100). The reflective plate (100) comprises a reflective surface directly facing the ultraviolet light sources, a rear surface opposite the reflective surface, and lateral surfaces perpendicular to the reflective surface. The reflective plate also comprises a first optical part provided on the reflective surface and formed by means of providing grooves relative to the rear surface. Also provided is an aligned ultraviolet curing apparatus. Lights emitted by the ultraviolet light sources (300) but not irradiated onto a substrate (400) are reflected onto the substrate (400) by the first optical part provided on the reflective surface of the reflective plate (100) and by second optical parts provided on the lateral surfaces of the reflective plate, thus increasing the utilization rate of ultraviolet light, and increasing the luminance of the ultraviolet light and the evenness of irradiation, thereby reducing irradiation time and improving work efficiency.

Inventors:
LIU XIAOCHENG (CN)
Application Number:
PCT/CN2013/090354
Publication Date:
June 25, 2015
Filing Date:
December 24, 2013
Export Citation:
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Assignee:
SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECT (CN)
International Classes:
G02F1/13; G02F1/1337
Foreign References:
CN2588411Y2003-11-26
CN202794778U2013-03-13
CN1512232A2004-07-14
JP2011145381A2011-07-28
JP2008086890A2008-04-17
Attorney, Agent or Firm:
MING & YUE INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM (CN)
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 (CN)
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Claims:
权利要求书

1、 一种配向紫外线烘烤装置, 包括多个紫外光源和反射板, 所述反射板 包括正对紫外光源的反射面, 其中, 所述反射板还包括设于所述反射面具有凹 槽的方式形成的第一光学部。

2、 根据权利要求 1所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第一光学部 由多个沿所述反射板长度或宽度方向延伸的第一凹槽组成, 多个所述第一凹槽 沿所述反射板的宽度或长度方向平行排列。

3、 根据权利要求 2所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 每个所述紫外光 源平行且对应于一个所述第一凹槽。

4、 根据权利要求 3所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第一凹槽的 曲率半径以使所述紫外光源发出的光经由第一凹槽反射后聚集在两相邻的紫 外光源中间位置对应的基板上为准。

5、 根据权利要求 2所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第一凹槽为 圆弧形凹槽。

6、 根据权利要求 1所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第一光学部 由多个呈蜂窝状排列的第二凹槽组成。

7、 根据权利要求 6所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第二凹槽均 匀分布在所述反射板的反射面上。

8、 根据权利要求 6所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第二凹槽的 曲率半径以使所述紫外光源发出的光经由第二凹槽反射后聚集在两相邻的紫 外光源中间位置对应的基板上为准。

9、 根据权利要求 6所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第二凹槽为 圆形。

10、 根据权利要求 1所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述反射板还包 括设于所述反射板的至少两个侧面上的以凹槽的方式形成的第二光学部。

11、 一种配向紫外线烘烤装置, 包括多个紫外光源和反射板, 所述反射板 包括正对紫外光源的反射面, 其中, 所述反射板还包括设于所述反射面具有凹 槽的方式形成的第一光学部,所述第一光学部由多个沿所述反射板长度或宽度 方向延伸的第一凹槽组成, 多个所述第一凹槽沿所述反射板的宽度或长度方向 平行排列。

12、 根据权利要求 11 所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述反射板还 包括设于所述反射板的至少两个侧面上的以凹槽的方式形成的第二光学部。

13、 根据权利要求 11 所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 每个所述紫外 光源平行且对应于一个所述第一凹槽。

14、 根据权利要求 13所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第一凹槽 的曲率半径以使所述紫外光源发出的光经由第一凹槽反射后聚集在两相邻的 紫外光源中间位置对应的基板上为准。

15、 根据权利要求 11 所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第一凹槽 为圆弧形凹槽。

16、 一种配向紫外线烘烤装置, 包括多个紫外光源和反射板, 所述反射板 包括正对紫外光源的反射面, 其中, 所述反射板还包括设于所述反射面具有凹 槽的方式形成的第一光学部,所述第一光学部由多个呈蜂窝状排列的第二凹槽 组成。

17、 根据权利要求 16所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述反射板还 包括设于所述反射板的至少两个侧面上的以凹槽的方式形成的第二光学部。

18、 根据权利要求 16所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第二凹槽 均匀分布在所述反射板的反射面上。

19、 根据权利要求 16所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第二凹槽 的曲率半径以使所述紫外光源发出的光经由第二凹槽反射后聚集在两相邻的 紫外光源中间位置对应的基板上为准。

20、 根据权利要求 16所述的配向紫外线烘烤装置, 其中, 所述第二凹槽 为圆形。

Description:
说 明 书 配向紫外线烘烤装置 技术领域

本发明涉及显示面板生产技术领域, 尤其涉及一种配向紫外线烘烤装置。 背景技术

液晶显示装置 (LCD, Liquid Crystal Display)具有机身薄、 省电、 无辐射等 众多优点, 从而得到了广泛的应用。 现有市场上的液晶显示装置大部分为背光 型液晶显示装置, 其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显 示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当 中放置液晶分子, 通过玻璃基板 通电电压来控制液晶分子改变方向, 将背光模组的光线折射出来产生画面。 液晶分子的配向控制技术是制造液晶显示器 (liquid crystal display)最重要 的基本技术之一。 液晶显示器所显示的画面质量与液晶配向的优 劣有关, 只有 使面板内的液晶材料呈稳定且均匀地排列, 才能呈现高质量的画面。一般用来 使液晶分子定向排列的薄层, 称为液晶配向层 (alignment layers)。 目前, 由聚 合物稳定配向 (polymer— stabilized alignment, PSA)制程所制造而成的聚合物稳 定垂直配向型 (Polymer Stabilized Vertical Alignment, PSVA)液晶显示器,其可具 有广视角、 高开口率、 高对比及制程简单等优点, 因此得到广泛应用。

在 PSVA液晶显示器中, 首先需要在两基板之间的液晶内掺入反应型单 体 (reactive monomer), 使其与液晶分子充分混合, 同时, 每一透明基板的表面均 涂布有聚酰亚胺 (polyimide, PI) , 其作为配向基材。 然后, 在两基板上施加电 压并利用紫外 (UV) 光照射基板, 此时, 反应型单体与液晶分子发生相分离 (phase separation),而在基板的配向基材上形成聚合物。 由于聚合物跟液晶分子 之间的相互作用, 液晶分子会沿着聚合分子的方向来排列, 因此, 基板之间的 液晶分子可具有预倾角 (pre-til e a ngle)。 为了使反应型单体聚合完全, 最后还需 要利用紫外光对基板进行烘烤。 在对基板进行紫外光烘烤时, 由于配向紫外线烘烤装置中的紫外光的照度 通常较低, 因此, 如果想将反应型单体反应完全就需要较长的时 间。 为了缩短 反应时间, 提升工作效率, 就需要提高紫外光的照度以及均匀性。 然而由配向 紫外线烘烤装置高度的限制, 目前常采用的方法是利用反射板来增加紫外光 的 照度以及均匀度。参阅图 1,为现有技术提供的配向紫外线烘烤装置的 意图, 包括多个紫外光源 300和置于紫外光远上方的反射板 200, 反射板 200的上方 还设有冷却槽 500, 在工作的过程中, 可以将冷却水或者冷风通入冷却槽内以 降低反射板 200的工作温度。 其中, 反射板 200的正对紫外光源的反射面 210 为一平面。 在工作时, 将需要烘烤的基板 400置于紫外光源 300的正下方, 紫 外光源 300射出来的光线一部分直接照射到基板 400上,另一部分经反射板 200 反射后照射到基板 400上,从而使得紫外光源 300向上发出的光也可以被利用。 然而, 这种平面式的反射板 200也存在一定的不足: 紫外光源 300向上发出的 紫外光经反射板 200反射后的反射光较为发散, 其光路较长, 从而造成能量的 损失,导致反射到基板 400上的照度相应的不足,同时也会造成照射到 基板 400 上的光的均匀性变差。 发明内容

为解决上述现有技术所存在的问题, 本发明的目的在于提供一种配向紫外 线烘烤装置, 该装置不仅可以提高紫外线的照度, 同时还可以保证紫外线照射 的均匀性, 从而可以减少照射时间, 提高工作效率。

为了实现上述目的, 本发明提供的一种配向紫外线烘烤装置, 包括多个紫 外光源和反射板, 所述反射板包括正对紫外光源的反射面, 其中, 所述反射板 还包括设于所述反射面具有凹槽的方式形成的 第一光学部。

其中, 所述第一光学部由多个沿所述反射板长度或宽 度方向延伸的第一凹 槽组成, 多个所述第一凹槽沿所述反射板的宽度或长度 方向平行排列。

其中, 每个所述紫外光源平行且对应于一个所述第一 凹槽。

其中, 所述第一凹槽的曲率半径以使所述紫外光源发 出的光经由第一凹槽 反射后聚集在两相邻的紫外光源中间位置对应 的基板上为准。

其中, 所述第一凹槽为圆弧形凹槽。

其中, 所述第一光学部由多个呈蜂窝状排列的第二凹 槽组成。

其中, 所述第二凹槽均匀分布在所述反射板的反射面 上。

其中, 所述第二凹槽的曲率半径以使所述紫外光源发 出的光经由第二凹槽 反射后聚集在两相邻的紫外光源中间位置对应 的基板上为准。

其中, 所述第二凹槽为圆形。

其中, 所述反射板还包括设于所述反射板的至少两个 侧面上的以凹槽的方 式形成的第二光学部。

本发明的另一目的在于提供一种配向紫外线烘 烤装置, 包括多个紫外光源 和反射板, 所述反射板包括正对紫外光源的反射面, 其中, 所述反射板还包括 设于所述反射面具有凹槽的方式形成的第一光 学部, 所述第一光学部由多个沿 所述反射板长度或宽度方向延伸的第一凹槽组 成, 多个所述第一凹槽沿所述反 射板的宽度或长度方向平行排列。

其中, 所述反射板还包括设于所述反射板的至少两个 侧面上的以凹槽的方 式形成的第二光学部。

其中, 每个所述紫外光源平行且对应于一个所述第一 凹槽。

其中, 所述第一凹槽的曲率半径以使所述紫外光源发 出的光经由第一凹槽 反射后聚集在两相邻的紫外光源中间位置对应 的基板上为准。

其中, 所述第一凹槽为圆弧形凹槽。

本发明的第三目的在于提供一种配向紫外线烘 烤装置, 包括多个紫外光源 和反射板, 所述反射板包括正对紫外光源的反射面, 其中, 所述反射板还包括 设于所述反射面具有凹槽的方式形成的第一光 学部, 所述第一光学部由多个呈 蜂窝状排列的第二凹槽组成。

其中, 所述反射板还包括设于所述反射板的至少两个 侧面上的以凹槽的方 式形成的第二光学部。

其中, 所述第二凹槽均匀分布在所述反射板的反射面 上。

其中, 所述第二凹槽的曲率半径以使所述紫外光源发 出的光经由第二凹槽 反射后聚集在两相邻的紫外光源中间位置对应 的基板上为准。

其中, 所述第二凹槽为圆形。 本发明提供的配向紫外线烘烤装置, 通过在反射板的反射面上设有的第一 光学部来增加紫外光的利用率, 使紫外光源发出的紫外光经反射板反射后的反 射光聚集在两相邻的紫外光源中间位置对应的 基板上, 避免反射光过于发散而 导致反射光的损失, 从而提高紫外光的利用率, 增加紫外光的照度及照射的均 匀性, 进而缩短照射时间, 提高工作效率。 同时, 该紫外线烘烤装置还可以利 用设于反射板侧面的第二光学部进一步增加紫 外光的照度及照射的均匀性。 附图说明

图 1为现有技术提供的配向紫外线烘烤装置结构 意图; 图 2为本发明实施例 1 提供的配向紫外线烘烤装置中反射板的结构示 意 图, 其中, 图 2a为反射板反射面的结构示意图, 图 2b为沿图 2a的 A-A方向 的剖视图;

图 3为本发明实施例 1提供的配向紫外线烘烤装置的结构示意图; 图 4为本发明实施例 2提供的配向紫外线烘烤装置中反射板的结构 意 图, 其中, 图 4a为反射板反射面的结构示意图, 图 4b为沿图 4a的 B-B方向 的剖视图; 图 5为本发明实施例 2提供的配向紫外线烘烤装置的结构示意图。 具体实施方式

现在对本发明实施例进行详细的描述, 其示例表示在附图中, 其中, 相同 的标号始终表示相同部件。 下面通过参照附图对实施例进行描述以解释本 发 明。

实施例 1

参阅图 2和图 3, 本实施例提供的配向紫外线烘烤装置包括多个 紫外光源 300和反射板 100, 其中, 反射板 100包括正对紫外光源 300的反射面, 在反 射板 100的反射面上设有凹槽方式形成的第一光学部 。 在本实施例中, 第一光 学部由多个沿反射板 100长度方向延伸的第一凹槽 110组成, 其中, 该多个第 一凹槽 110沿反射板 100的宽度方向平行排列。 当然, 在其他实施例中, 第一 光学部也可以由多个沿反射板 100宽度方向延伸的第一凹槽 110组成, 其中, 该多个第一凹槽 110沿反射板 100的长度方向平行排列。第一凹槽 110沿垂直 于反射面的剖面为一圆弧形, 当然, 在其他实施例中也可以为椭圆弧形或者三 角形。 紫外光源 300设于反射板 100的下方, 其中, 每个紫外光源 300平行且 对应于一个第一凹槽 110。 紫外光源 300与反射板 100之间的距离与配向紫外 线烘烤装置的高度有关, 同时也决定了第一凹槽 110的曲率半径, 具体地, 第 一凹槽 110的曲率半径以使紫外光源 300发出的光经由第一凹槽 110反射后聚 集在两相邻的紫外光源 300中间位置对应的基板 400上为准。反射板 100的上 方设有冷却槽 500, 在工作时, 可以将冷却水或者冷风通入冷却槽内以降低反 射板 100的工作温度。

在工作时, 将需要烘烤的基板 400置于紫外光源 300的正下方, 紫外光源 300射出来的光线一部分直接照射到基板 400上, 另一部分经第一凹槽 110反 射后照射到基板 400上, 从而使得紫外光源 300向上发出的光也可以被利用。 第一凹槽 110具有的曲率半径使得紫外光源 300向上发出的光经第一凹槽 110 反射后聚集在两相邻的紫外光源 300中间位置对应的基板 400上, 因此可以减 少反射光由于路径较长而造成的损失, 从而提高紫外光的利用率, 增加紫外光 的照度及照射的均匀性, 进而缩短照射时间, 提高工作效率。

进一步地, 在反射板 100的至少两个侧面上还设有第二光学部, 在本实施 例中, 第二光学部为设于侧面上的蜂窝状排列的第三 凹槽 130, 第三凹槽 130 均匀地分布在反射板的侧面上。该第三凹槽 130沿垂直于侧面的剖面为圆弧形, 用于将紫外光源 300发出的未照射到基板 400和反射板 100的光反射回基板 400上, 从而进一步提高紫外光的利用率, 增加紫外光的照度。 当然, 在其他 实施例中,第二光学部也可以由沿反射板 100宽度或长度方向延伸的凹槽组成, 凹槽的形状也可以为椭圆形、 三角形等。

实施例 2

参阅图 4和图 5, 本实施例提供的配向紫外线烘烤装置包括多个 紫外光源 300和反射板 200, 其中, 反射板 200包括正对紫外光源 300的反射面、 相对 于反射面的背面以及垂直于反射面的侧面, 在反射板 200的反射面上设有以相 对于背面具有凹槽的方式形成的第一光学部。 在本实施例中, 第一光学部由多 个呈蜂窝状排列的均匀地分布在反射板 200的反射面上第二凹槽 120组成, 其 中, 第二凹槽 120沿平行于反射面的剖面为圆形, 当然, 在其他实施例中也可 以为椭圆形或者其他形状。紫外光源 300设于反射板 200的下方。紫外光源 300 与反射板 200之间的距离与配向紫外线烘烤装置的高度有 关, 同时也决定了第 二凹槽 120的曲率半径, 具体地, 第二凹槽 120的曲率半径以使紫外光源 300 发出的光经由第二凹槽 120反射后聚集在两相邻的紫外光源 300中间位置对应 的基板 400上为准。 反射板 100的上方设有冷却槽 500, 在工作时, 可以将冷 却水或者冷风通入冷却槽内以降低反射板 100的工作温度。

在工作时, 将需要烘烤的基板 400置于紫外光源 300的正下方, 紫外光源 300射出来的光线一部分直接照射到基板 400上, 另一部分经第二凹槽 120反 射后照射到基板 400上, 从而使得紫外光源 300向上发出的光也可以被利用。 优选地, 第二凹槽 120具有的曲率半径使得紫外光源 300向上发出的光经第二 凹槽 120反射后聚集在两相邻的紫外光源 300中间位置对应的基板 400上, 因 此可以减少反射光由于路径较长而造成的损失 , 从而提高紫外光的利用率, 增 加紫外光的照度及照射的均匀性, 进而缩短照射时间, 提高工作效率。 同时, 由于第二凹槽 120的深度较小时即可达到要求, 因此本实施例提供的配向紫外 线烘烤装置需要较小的空间占用率及设备成本 。

进一步地, 在反射板 100的至少两个侧面上还设有第二光学部, 在本实施 例中, 第二光学部为设于侧面上的蜂窝状排列的第三 凹槽 130, 第三凹槽 130 均匀地分布在反射板的侧面上。该第三凹槽 130沿垂直于侧面的剖面为圆弧形, 用于将紫外光源 300发出的未照射到基板 400和反射板 100的光反射回基板 400上, 从而进一步提高紫外光的利用率, 增加紫外光的照度。 当然, 在其他 实施例中,第二光学部也可以由沿反射板 100宽度或长度方向延伸的凹槽组成, 凹槽的形状也可以为椭圆形、 三角形等。 综上所述, 本发明提供的配向紫外线烘烤装置, 通过在反射板的反射面上 设有的第一光学部来增加紫外光的利用率, 使紫外光源发出的紫外光经反射板 反射后的反射光聚集在两相邻的紫外光源中间 位置对应的基板上, 避免反射光 过于发散而导致反射光的损失, 从而提高紫外光的利用率, 增加紫外光的照度 及照射的均匀性, 进而缩短照射时间, 提高工作效率。 同时, 该紫外线烘烤装 置还可以利用设于反射板侧面的第二光学部进 一步增加紫外光的照度及照射 的均匀性。 需要说明的是, 在本文中, 诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将 一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开 来, 而不一定要求或者暗示这些 实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者 顺序。 而且, 术语"包括"、 "包 含"或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的 含, 从而使得包括一系列要素 的过程、 方法、 物品或者设备不仅包括那些要素, 而且还包括没有明确列出的 其他要素, 或者是还包括为这种过程、 方法、 物品或者设备所固有的要素。 在 没有更多限制的情况下, 由语句 "包括一个 ...... "限定的要素, 并不排除在包括 所述要素的过程、 方法、 物品或者设备中还存在另外的相同要素。 虽然本发明是参照其示例性的实施例被具体描 述和显示的,但是本领域的 普通技术人员应该理解, 在不脱离由权利要求限定的本发明的精神和范 围的情 况下, 可以对其进行形式和细节的各种改变。