Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für ein Sicherheitselement, das auf einem transparenten Substratfilm eine Metallschicht, die in bestimm- tem Muster angeordnete Lücken aufweist, auf der Metallschicht eine lichtab- sorbierende Schicht, die Öffnungen hat, welche zu den Lücken der Metall schicht deckungsgleich sind, und darüber eine vollflächige, auch die Öff- nungen und Lücken überdeckende Farbeffektschicht aufweist.

Ein solches Sicherheitselement ist beispielsweise in der WO 2003/061980 Al geschildert. Die Lücken in der Metallschicht, die im Stand der Technik auch als Demetallisierungen bezeichnet werden, bieten einem Betrachter ein Posi- tiv- oder Negativbild dar, und die über der lichtabsorbierenden Schicht an geordnete Flüssigkristallschicht erzeugt einen sehr prägnanten Colour-Shift- Effekt. Zur Herstellung des Sicherheitselementes sieht diese Veröffentlichung vor, auf dem Substratfilm vollflächig die Metallschicht aufzubringen und darüber die lichtabsorbierende Schicht. Diese wird strukturiert und dient dann für einen Ätzprozess auch zum Ätzen der darunterliegenden Metall schicht. Auf diese Weise werden zuerst die Öffnungen in der lichtabsorbie- renden Schicht und dann die dazu passenden Lücken in der Metallschicht erzeugt. Anschließend wird vollflächig mit der Flüssigkristallschicht abge deckt.

Die WO 2016/177391 Al befasst sich ebenfalls mit der Herstellung eines Si cherheitselementes der geschilderten Art. Allerdings liegt hier der transpa rente Substratfilm zwischen der mit Lücken versehenen Metallschicht und der mit den Öffnungen versehenen lichtabsorbierenden Schicht, über wel- eher wiederum die vollflächige Flüssigkristallschicht angeordnet ist. Dieser Aufbau erfordert zweiseitig angreifende Prozesse, zum Schaffen der Lücken auf der einen Seite des Substratfilms und der Öffnungen auf der anderen Seite. Naturgemäß ist dies aufwendig und ist zudem schwierig dahingehend, dass die Deckungsgleichheit zwischen den Lücken in der Metallschicht auf der einen Seite des Substratfilms und den Öffnungen in der lichtabsorbie- renden Schicht auf der anderen Seite des Substratfilms nur schwierig herzu- stellen ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement, das auf einem transparenten Substratfilm eine Metallschicht, die im bestimmten Muster angeordnete Lücken aufweist, auf der Metallschicht eine lichtabsor bierende Schicht, die Öffnungen hat, welche zu den Lücken der Metall schicht deckungsgleich sind, und darüber eine vollflächige, auch die Öff nungen und Lücken überdeckende Farbeffektschicht aufweist, anzugeben, mit dem eine einfache Herstellung möglich ist.

Die Erfindung ist in den unabhängigen Ansprüchen definiert. Die abhängi gen Ansprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen.

Die Erfindung sieht ein Verfahren zum Herstellen des genannten Sicherheits elementes vor, das auf einem transparenten Substratfilm eine Metallschicht aufweist, die in bestimmtem Muster Lücken hat. Auf der Metallschicht be findet sich eine lichtabsorbierende Schicht. Diese hat Öffnungen, welche zu den Lücken der Metallschicht deckungsgleich sind. Über der lichtabsorbie renden Schicht ist vollflächig eine Farbeffektschicht vorgesehen, die auch die Öffnungen und Lücken überdeckt. Zur Herstellung wird in einem Metallisie- rungs-/Demetallisierungsschritt auf dem Substratfilm an den Stellen, an denen die Metallschicht die Lücken aufweisen soll, eine Waschfarbe aufge bracht. Auf den mit der Waschfarbe versehenen Substratfilm wird vollflächig die Metallschicht aufgebracht. Durch Entfernen der Waschfarbe wird die Me- tallschicht in den Lücken demetallisiert und damit bemustert. Anschließend wird über der Metallschicht die lichtabsorbierende Schicht aufgebracht. Sie wird so aufgebracht, dass sie auch die Lücken in der Metallschicht über- deckt.

Daraufhin wird die lichtabsorbierende Schicht so bearbeitet, dass die Öff- nungen erzeugt werden. Dabei wird die mit den Lücken versehene Metall schicht als Maske verwendet.

Hierfür gibt es mehrere Möglichkeiten. In einer Version wird die lichtabsor- bierende Schicht als Fotolack ausgebildet, und die Metallschicht dient in ei nem Lithographieschritt als Maske. Der Fotolack ist dazu ein Positiv- Fotolack, damit bei der Entwicklung die Öffnungen an den Stellen entstehen, die durch die Lücken in der Metallschicht hindurch belichtet wurden. In ei ner Alternative hierzu werden die Öffnungen durch Ablation mittels Strah lung, insbesondere hochintensiver Laserstrahlung, erzeugt, die durch die Lücken in der Metallschicht eingestrahlt wird. Auch hier dienen die Lücken und damit das Muster in der Metallschicht als Maske, so dass die Anforde rungen an die Präzision der Bestrahlung deutlich reduziert sind. Es muss nicht, wie in anderen Laserablationsverfahren üblich, der Laserstrahl hoch präzise geführt werden, weil sich Ungenauigkeit in der Laserbestrahlung auf die Ablationsgenauigkeit auswirken würde. Vielmehr sorgt die Maske in der Metallschicht automatisch dafür, dass die Öffnungen nur dort durch Ablati on entstehen, an denen die Metallschicht Lücken hat.

In beiden Versionen erfolgt also ein Belichten durch den Substratfilm und durch die Metallschicht hindurch. Auf diese Weise ist automatisch eine per fekte Passerung und Deckungsgleichheit zwischen den Lücken in der Metall- schicht, welche als Maske dienen, und den Öffnungen in der lichtabsorbie- renden Schicht erreicht.

Auf die derart mit den Öffnungen versehenen Schicht wird die Farbeffekt- schicht, z. B. eine Flüssigkristallschicht, aufgebracht.

In einer Weiterbildung des Verfahrens wird ein Sicherheitsfaden ausgebildet, beispielsweise indem ein transparenter Substratfilm entsprechend geschnit ten wird. Die Erfindung umfasst gleichermaßen ein Sicherheitselement, das nach dem genannten Verfahren hergestellt wird sowie ein Wertdokument mit einem solchen Sicherheitselement. In dieser Ausgestaltung ist ein Wertdokument, beispielsweise eine Banknote, ein Ausweisdokument, ein Scheck, eine elekt- ronisch auslesbare Karte etc. als Wertdokument mit einem Sicherheitsele- ment der genannten Art ausgestaltet.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen, die ebenfalls erfindungswe sentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Diese Ausführungsbei- spiele dienen lediglich der Veranschaulichung und sind nicht als einschrän kend auszulegen. Beispielsweise ist eine Beschreibung eines Ausführungs beispiels mit einer Vielzahl von Elementen oder Komponenten nicht dahin gehend auszulegen, dass alle diese Elemente oder Komponenten zur Imple mentierung notwendig sind. Vielmehr können andere Ausführungsbeispiele auch alternative Elemente und Komponenten, weniger Elemente oder Kom ponenten oder zusätzliche Elemente oder Komponenten enthalten. Elemente oder Komponenten verschiedener Ausführungsbespiele können miteinander kombiniert werden, sofern nichts anderes angegeben ist. Modifikationen und Abwandlungen, welche für eines der Ausführungsbeispiele beschrieben werden, können auch auf andere Ausführungsbeispiele anwendbar sein. Zur Vermeidung von Wiederholungen werden gleiche oder einander entspre- chende Elemente in verschiedenen Figuren mit gleichen Bezugszeichen be zeichnet und nicht mehrmals erläutert. In den Figuren zeigen:

Fig. 1 eine Draufsicht auf eine Banknote mit einem Sicherheitsele- ment,

Fig. 2 eine schematische Schnittdarstellung durch das Sicherheitsele- ment der Fig. 1 und

Fig. 3A-F verschiedene Stufen der Fierstellung des Sicherheitselements der Figuren 1 und 2.

Fig. 1 zeigt schematisch eine Banknote B mit einem Sicherheitselement S. Die Banknote B ist auf einem Banknotenpapier gedruckt, und das Sicherheit- selement S ist als Sicherheitsfaden ausgestaltet, welcher in das Banknotenpa pier eingearbeitet wurde. Es kann auch als Folienelement ausgestaltet und aufgebracht werden.

Fig. 2 zeigt schematisch eine Schnittdarstellung durch das Sicherheitselement S der Fig. 1. Das Sicherheitselement S ist auf einem Substratfilm 1, beispiels weise einem Polymerfilm, aufgebaut und umfasst eine Metallschicht 2 mit darüber liegender lichtabsorbierender Schicht 4. In der Metallschicht 2 sind Lücken 3 gebildet, die in einem Muster angeordnet sind, welches Informati on, beispielsweise einen Text etc. kodiert. Damit diese Lücken 3 ihre Wir kung entfalten können, sind deckungsgleich dazu in der lichtabsorbierenden Schicht 4 Öffnungen 5 ausgebildet. Auf diese Weise kann Licht durch die Öffnungen 5 und die Lücken 3 fallen, so dass bei einer Betrachtung des Si- cherheitselementes S, z. B. von der Seite des Substrates 1 her, die durch das Muster der Lücken 3 und Öffnungen 5 kodierte Information erkennbar ist. Über der lichtabsorbierenden Schicht befindet sich eine Farbeffektschicht, hier in Form einer Flüssigkristallschicht 6. Sie erzeugt bei geeigneter Betrach- tung einen Farbeffekt.

Zur Herstellung des Sicherheitselementes S werden die in den Figuren 3A bis 3F gezeigten Verfahrensschritte ausgeführt.

In einem ersten Schritt wird ein polymerer Substratfilm 1 bereitgestellt und mit einer Waschfarbe 7 an denjenigen Stellen versehen, an denen später das Muster Lücken in der Metallschicht 2 auf weisen soll. Den dann vorliegenden Zustand zeigt Fig. 3A.

Anschließend wird, wie Fig. 3B zeigt, die Metallschicht 2 auf den Substrat film 1 und über die Waschfarbe 7 auf getragen.

Nach Entfernen der Waschfarbe 7 mit der darüber liegenden Metallschicht 2 erhält man den Zustand, der in Fig. 3C gezeigt ist. Auf dem Substratfilm 1 befindet sich die Metallschicht 2 mit den Lücken 3 an den gewünschten Stel- len, die durch die Ortsverteilung der Waschfarbe 7 vorgegeben waren.

Anschließend wird in einer Ausführungsform vollflächig, d. h. auch über den Lücken 3 auf die Metallschicht 2 ein Fotolack 4 aufgebracht. Es handelt sich dabei um einen Positiv-Fotolack, der an belichteten Stellen in einem Entwicklungsprozess entfernt wird. Mit diesem Zustand, der in Fig. 3D ge- zeigt ist, wird am Fotolack 4 ein Lithographieschritt ausgeführt. Dabei wird der Fotolack 4 durch die Metallschicht 2, welche das Muster mit den Lücken 3 hat, belichtet. Nach dem anschließenden Entwicklungsschritt hat der Foto- lack 4 deckungsgleich zu den Lücken 3 Öffnungen 5, wie Fig. 3E zeigt.

Dadurch, dass die bemusterte Metallschicht 2 als Maske für den Lithogra- phieschritt am Fotolack 4 diente, sind die Lücken 3 in der Metallschicht 2 in perfekter Passerung zu den Öffnungen 5 im Fotolack.

In einer alternativen Ausführungsform wird eine (nicht notwendigerweise als Fotolack ausgebildete) lichtabsorbierende Schicht 4 mittels Strahlung, die durch die Lücken 3 in der Metallschicht 2 eingestrahlt wird, ablatiert. Abschließend wird, wie Fig. 3F zeigt, über der lichtabsorbierenden Schicht die Flüssigkristallschicht 6 als Farbeffektschicht aufgetragen. Andere Farbef- fektschichten sind dem Fachmann als Alternativen bekannt. Auf diese Weise ist das Sicherheitselement S fertiggestellt. Als Materialien für Substratfilm 1, Metallschicht 2, Fotolack 4 und Flüssig- kristallschicht 6 kommen diejenigen Materialien in Frage, die im Zusam menhang mit einem anderen Herstellverfahren, d. h. einer anderen Abfolge von Schritten in der WO 2003/ 061980 Al oder der WO 2016/177391 Al ge- nannt sind. Der Offenbarungsgehalt dieser Veröffentlichungen wird diesbe- züglich hier vollumfänglich durch Inbezugnahme eingebunden.

Bezugszeichenliste

S Sicherheitselement

B Banknote

1 Substrat

2 Metallschicht

3 Lücke

4 Fotolack

5 Öffnung

6 Flüssigkristallschicht

7 Waschfarbe