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Title:
METHOD FOR TREATING A MIRRORED OPTICAL ITEM
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2021/198507
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a method for treating a mirrored optical item, comprising: - a substrate (10), - a mirroring stack (21) of at least two interference layers (M1 to M6) carried by the substrate (10), thus increasing the reflection and having: * an interference layer (M1) distant from the substrate (10), with a first initial thickness and a first refractive index and * at least one near interference layer (M2) arranged between the substrate (10) and the distant interference layer (M1), with a second thickness and a second refractive index different from the first refractive index, the mirroring stack (21) giving the mirrored optical item (1) a first colouring according to the CIELAB space, by means of an interferometry phenomenon, the method comprising a step (103) of removing, by ion bombardment, at least in one first predetermined zone (Z1), a thickness of the mirrored stack that is less than the sum of the initial thicknesses concerned by the removal step, the mirrored optical item having, by means of an interferometry phenomenon, a second colouring according to the CIELAB space different from the first colouring.

Inventors:
ESTEVEZ RODRIGUEZ VICENTE (FR)
LE BIHAN LAURE (FR)
Application Number:
PCT/EP2021/058793
Publication Date:
October 07, 2021
Filing Date:
April 02, 2021
Export Citation:
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Assignee:
BNL EUROLENS (FR)
International Classes:
G02B1/12; C23C14/02; C23C14/58; G02B5/08; G02B5/28; G02C7/06; G02C7/10
Domestic Patent References:
WO2018015650A12018-01-25
WO2018015650A12018-01-25
Foreign References:
DE102011119598A12013-05-29
US20030129417A12003-07-10
EP3293565A12018-03-14
US20050084626A12005-04-21
EP2374032B12020-02-26
US20190250309A12019-08-15
DE102011119598A12013-05-29
Attorney, Agent or Firm:
CROONENBROEK, Thomas et al. (FR)
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Claims:
Revendications

[Revendication 1] Procédé de traitement d’un article optique miroité comprenant :

- un substrat (10),

- un empilement (21) de miroitage d’au moins deux couches interférentielles (Ml à M6) porté par le substrat (10) augmentant ainsi la réflexion et présentant :

* une couche interférentielle éloignée (Ml) du substrat (10), avec une première épaisseur initiale et un premier indice de réfraction et

* au moins une couche interférentielle (M2) rapprochée disposée entre le substrat (10) et la couche interférentielle éloignée (Ml), avec une seconde épaisseur et un second indice de réfraction différent du premier indice de réfraction, l’empilement de miroitage (21) donnant par un phénomène d’interférométrie une première coloration selon l’espace CIELAB à l’article optique miroité (1), le procédé comportant une étape (103) d’enlèvement par bombardement ionique au moins dans une première zone (Zl) prédéterminée d’une épaisseur de l’empilement miroité qui est inférieure à la somme des épaisseurs initiales concernées par l’étape d’enlèvement, l’article optique miroité présentant par un phénomène d’interférométrie une deuxième coloration selon l’espace CIELAB différente de la première coloration.

[Revendication 2] Procédé selon la revendication 1, dans lequel lors de l’étape (103) d’enlèvement par bombardement ionique, l’épaisseur initiale de la couche interférentielle éloignée est réduite d’une valeur inférieure à son épaisseur initiale.

[Revendication 3] Procédé selon la revendication 2, dans lequel l’empilement de miroitage (21) comporte deux (Ml, M2) ou au moins trois couches interférentielles (Ml à M6), et dans lequel la réduction d’épaisseur de la couche interférentielle éloignée est déterminée de façon à ce qu’entre la première et la seconde coloration, la différence de l’angle de teinte est inférieure à 2% et la différence de la chromacité est supérieure à 10%.

[Revendication 4] Procédé selon la revendication 2 ou 3, dans lequel la différence de brillance entre la première et la seconde coloration est inférieure à 10%, notamment inférieur à 5%.

[Revendication 5] Procédé selon l’une quelconque des revendications 2, 3 ou 4, dans lequel le rapport b*/a* de l’espace CIELAB est constant dans la limite d’une tolérance de 10%, notamment 5%.

[Revendication 6] Procédé selon l’une des revendications précédentes dans lequel la réduction d’épaisseur est uniforme dans chacune des zones prédéterminées.

[Revendication 7] Procédé selon l’une des revendications précédentes dans lequel l’étape d’enlèvement par bombardement ionique est précédée d’une étape (101) de détermination d’une durée de bombardement ionique pour obtenir la seconde coloration dans la première zone prédéterminée. [Revendication 8] Procédé selon l’une des revendications précédentes, dans lequel l’étape d’enlèvement par bombardement ionique est tel que l’article optique miroité présente par un phénomène d’interférométrie un miroitage ayant une intensité de réflexion dans la première zone prédéterminée différente d’une zone non traitée par le bombardement ionique.

[Revendication 9] Procédé selon l’une des revendications précédentes, dans lequel l’article miroité comprend ladite première zone prédéterminée et une zone non traitée par le bombardement ionique, l’une des deux zones correspondant à une zone de vision de près (Zl) avec un miroitage ayant une intensité de réflexion plus faible que dans l’autre zone correspondant à une vision de loin.

[Revendication 10] Procédé selon la revendication l’une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel la surface de la première zone prédéterminée est plus petite que la surface de l’article optique miroité et dans lequel le procédé comporte en outre une deuxième étape d’enlèvement par bombardement ionique au moins dans une deuxième zone prédéterminée (Z2) de l’article optique miroité (1) qui est différente de la première zone prédéterminée, lors de la deuxième étape d’enlèvement une deuxième épaisseur prédéfinie de la couche interférentielle éloigné est enlevée qui est inférieure à la première épaisseur initiale de cette couche interférentielle éloignée et différente de l’épaisseur enlevée lors de la première étape d’enlèvement, dans la deuxième zone prédéterminée, l’article optique miroité (1) présentant par un phénomène d’interférométrie une troisième coloration selon l’espace CIELAB différente de la première et de la deuxième coloration selon l’espace CIELAB.

[Revendication 11] Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel on dispose un masque entre l’article optique miroité et un canon à ions empêchant les ions à parvenir aux couches interférentielles en dehors de la zone prédéterminée.

[Revendication 12] Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 11, dans lequel on réalise le bombardement ionique sous vide, ou dans une atmosphère contenant un gaz inerte ayant une pression inférieure ou égale à la pression atmosphérique.

[Revendication 13] Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 12, dans lequel après l’étape d’enlèvement par bombardement ionique, on applique un traitement antisalissure sur l’ensemble de l’article optique miroité.

[Revendication 14] Article optique miroitée (1) obtenue avec un procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 13 et présentant au moins deux colorations différentes selon l’espace CIELAB.

[Revendication 15] Article optique miroitée selon la revendication 14, dans lequel l’article miroité comprend ladite première zone prédéterminée (Zl) et une zone non traitée par le bombardement ionique, l’une des deux zones correspondant à une zone de vision de près avec un miroitage ayant une intensité de réflexion plus faible que dans l’autre zone correspondant à une vision de loin.

Description:
Description

Titre de l’invention : Procédé de traitement d’un article optique miroité

L’invention se situe dans le domaine de traitement des articles optiques, en particulier des verres ophtalmiques miroités notamment revêtus d’un revêtement interférentiel multi- couche.

Par article optique, on entend en particulier une lentille, correctrice ou non, qui peut être utilisée comme un verre de lunette, par exemple pour des lunettes, en particulier des lu nettes de soleil ou des masques ou analogues.

De nos jours, les articles optiques, notamment des verres ophtalmiques et plus spécifiques des verres solaires n’ont pas seulement des effets de protection de l’œil du soleil, mais pré sentent aussi un aspect esthétique important pour le porteur de ces articles optiques.

Ainsi, le porteur de lunettes souhaite par exemple des articles optiques personnalisés qui permettent de se distinguer par leurs aspects extérieurs, notamment l’apparence en termes de coloration et de réflexion.

Or, comme cela est souvent le cas en industrie, la personnalisation augmente fortement le coût de revient des articles produits et s’oppose généralement à une production standardi sée à moindre coût de revient.

Dans le présent cas, un article optique miroité, c’est-à-dire présentant un revêtement inter férentiel multicouche, présente un aspect externe uniforme.

Pour personnaliser un tel article optique, on pourrait par exemple penser à modifier dans certaines zones l’épaisseur d’une ou de plusieurs couches du revêtement interférentiel mul ticouche en utilisant un masque par tampographie en silicone. Toutefois, un tel procédé manque de précision au niveau des contours (problème de bavures) et au niveau de la répé tabilité. De plus, on constate des problèmes d’adhésion des couches ultérieurement dépo sées sur des zones tamponnées et donc une augmentation du taux de rebuts.

La gravure par laser de certaines couches du revêtement interférentiel multicouche paraît par la suite comme une alternative séduisante. Toutefois, cette gravure laser peut générer des microfissures au niveau de l’article optique qui altèrent la durée de vie de l’article op tique. De plus, une telle gravure n’est pas réalisée sous une atmosphère contrôlée et des particules peuvent se déposer sur l’article optique ainsi traité conduisant par la suite à des défauts d’aspect et l’adhésion par exemple d’un traitement antisalissure peut ne plus être réalisée avec succès.

Le document W02018015650 décrit un procédé de marquage d’article optique dans lequel on utilise une ablation par laser. DE102011 119598 décrit un procédé de dépôt multi couche.

La présente invention a donc pour objet de palier au moins partiellement aux inconvénients précités en proposant un procédé de traitement d’un article optique miroité comprenant :

- un substrat,

- un empilement de miroitage d’au moins deux couches interférentielles porté par le subs trat augmentant ainsi la réflexion et présentant : * une couche interférentielle éloignée du substrat, avec une première épaisseur initiale et un premier indice de réfraction et

* au moins une couche interférentielle rapprochée disposée entre le substrat et la couche interférentielle éloignée, avec une seconde épaisseur et un second indice de réfraction dif férent du premier indice de réfraction, l’empilement de miroitage donnant par un phéno mène d’interférométrie une première coloration selon l’espace CIELAB à l’article optique miroité, le procédé comportant une étape d’enlèvement par bombardement ionique au moins dans une première zone prédéterminée d’une épaisseur de l’empilement miroité qui est infé rieure à la somme des épaisseurs initiales concernées par l’étape d’enlèvement, l’article op tique miroité présentant par un phénomène d’interférométrie une deuxième coloration se lon l’espace CIELAB différente de la première coloration.

Ainsi, à partir d’une production standardisée, il est possible de personnaliser un article op tique miroité de façon très précis et répétable.

Le procédé selon l’invention peut présenter un ou plusieurs des aspects suivants pris seuls ou en combinaison :

Lors de l’étape d’enlèvement par bombardement ionique, l’épaisseur initiale de la couche interférentielle éloignée peut être réduite d’une valeur inférieure à son épaisseur initiale. L’empilement de miroitage comporte par exemple deux (exactement deux) ou au moins trois couches interférentielles, et la réduction d’épaisseur de la couche interférentielle éloi gnée est par exemple déterminée de façon à ce qu’entre la première et la seconde colora tion, la différence de l’angle de teinte est inférieure à 2% et la différence de la chromacité est supérieure à 10%.

La différence de brillance entre la première et la seconde coloration est notamment infé rieure à 10%, et plus particulièrement inférieure à 5%.

Le rapport b*/a* de l’espace CIELAB peut être constant dans la limite d’une tolérance de 10%, notamment 5%.

La réduction d’épaisseur peut être uniforme dans chacune des zones prédéterminées.

On peut prévoir que l’étape d’enlèvement par bombardement ionique est précédée d’une étape de détermination d’une durée de bombardement ionique pour obtenir la seconde co loration dans la première zone prédéterminée.

L’étape d’enlèvement par bombardement ionique est notamment telle que l’article optique miroité présente par un phénomène d’interférométrie un miroitage ayant une intensité de réflexion dans la première zone prédéterminée différente d’une zone non traitée par le bombardement ionique.

L’article miroité peut comprendre ladite première zone prédéterminée et une zone non trai tée par le bombardement ionique, l’une des deux zones correspondant à une zone de vision de près avec un miroitage ayant une intensité de réflexion plus faible que dans l’autre zone correspondant à une vision de loin.

La surface de la première zone prédéterminée est par exemple plus petite que la surface de l’article optique miroité et le procédé peut comporter en outre une deuxième étape d’enlèvement (étape d’enlèvement supplémentaire) par bombardement ionique au moins dans une deuxième zone prédéterminée de l’article optique miroité qui est différente de la première zone prédéterminée, lors de la deuxième étape d’enlèvement une deuxième épais seur prédéfinie de la couche interférentielle éloigné est enlevée qui est inférieure à la pre mière épaisseur initiale de cette couche interférentielle éloignée et différente de l’épaisseur enlevée lors de la première étape d’enlèvement, dans la deuxième zone prédéterminée, l’article optique miroité présentant par un phénomène d’interférométrie une troisième colo ration selon l’espace CIELAB différente de la première et de la deuxième coloration selon l’espace CIELAB.

On peut réaliser l’étape d’enlèvement par bombardement ionique dans un box-coater équi pé d’un canon à ions.

On dispose en particulier un masque entre l’article optique miroité et le canon à ions em pêchant les ions à parvenir aux couches interférentielles en dehors de la zone prédétermi née.

Le masque comprend notamment un adhésif apposé sur l’article optique miroité.

Le masque peut comprendre un cache, notamment métallique disposé entre le canon à ions et l’article optique miroité.

On peut réaliser le bombardement ionique sous vide, ou dans une atmosphère contenant un gaz inerte ayant une pression inférieure ou égale à la pression atmosphérique.

Après l’étape d’enlèvement par bombardement ionique, on applique notamment un traite ment antisalissure sur l’ensemble de l’article optique miroité.

L’invention concerne également un article optique miroitée obtenue avec un procédé pré senté ci-dessus et présentant au moins deux colorations différentes selon l’espace CIELAB. L’article miroité comprend en particulier ladite première zone prédéterminée et une zone non traitée par le bombardement ionique, l’une des deux zones correspondant à une zone de vision de près avec un miroitage ayant une intensité de réflexion plus faible que dans l’autre zone correspondant à une vision de loin.

D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront plus clairement à la lec ture de la description suivante, donnée à titre d'exemple illustratif et non limitatif, et des dessins annexés parmi lesquels :

[Fig 1 A] la figure IA montre de façon schématique un article optique miroité,

[Fig IB] la figure IB montre un éclaté selon l’axe de l’article miroité de la figure IA, sépa rant artificiellement les différentes couches formant l’article miroité,

[Fig 2] la figure 2 montre schématiquement un empilement de couches d’un article optique miroité des figures 1 A et 1B selon un premier mode de réalisation,

[Fig 3] la figure 3 montre schématiquement un empilement de couches d’un article miroité selon un deuxième mode de réalisation,

[Fig 4] la figure 4 montre l’article optique miroité de face selon les exemples des modes de réalisation des figures 1A, 1B, 2 et 3,

[Fig 5] la figure 5 est un schéma simplifié de côté, partiellement en coupe transversale d’une enceinte de traitement qui est susceptible d’être mise en œuvre pour le traitement d’articles optiques miroités,

[Fig 6] la figure 6 montre un organigramme d’un exemple de réalisation du procédé de trai- tement des articles optiques miroités,

[Fig 7] la figure 7 est une première variante de la figure 4,

[Fig 8] la figure 8 est une deuxième variante de la figure 4,

[Fig 9] la figure 9 est une troisième variante de la figure 4, et

[Fig 10] la figure 10 montre selon un exemple la réflectivité d’une zone d’un article op tique miroité avant et après la réalisation du procédé de traitement.

On va maintenant décrire un exemple d'un mode de réalisation en référence aux figures. Sur toutes les figures, les mêmes références se rapportent aux mêmes éléments.

Ainsi, à partir des exemples de schémas d’empilements de couches des figures 2 ou 3, on peut facilement déduire des figures similaires aux figures lAet IB en y ajoutant ou enle vant différentes couches.

Les réalisations suivantes sont des exemples. Bien que la description se réfère à un ou plu sieurs modes de réalisation, ceci ne signifie pas nécessairement que chaque référence con cerne le même mode de réalisation, ou que les caractéristiques s'appliquent seulement à un seul mode de réalisation. De simples caractéristiques de différents modes de réalisation peuvent également être combinées pour fournir d'autres réalisations.

Par face « avant » ou face « arrière » d’une couche, on se réfère à la propagation des rayons de lumière vers l’œil. Ainsi une face « avant » est toujours celle qui est la plus proche du champ de vision de l’utilisateur et une face « arrière » est toujours celle qui est la plus proche de l’oeil de l’utilisateur.

Par « amont » ou « aval » de deux éléments ou couches, on se réfère à la propagation des rayons de lumière vers l’œil. Ainsi un premier élément est disposé en « amont » d’un se cond élément lorsque la lumière traverse sur son chemin vers l’œil de l’utilisateur d’abord le premier élément, puis le second élément. A contrario, un premier élément est disposé en « aval » d’un second élément lorsque la lumière traverse sur son chemin vers l’œil de l’utilisateur d’abord le second élément, puis le premier élément.

Dans le présent exposé, le domaine UV des ultraviolets comprend les longueurs d’onde in férieures à 380nm.

Dans le présent exposé, le domaine visible comprend les longueurs d’onde comprises entre environ 380nm et environ 800nm, et notamment les longueurs d’ondes comprises entre en viron 400nm et 750nm.

La réflectivité est définie par le facteur moyen de réflexion lumineuse pv dans le domaine visible tel que défini dans la norme ISO 12311:2013 point 7.7 :

L’angle de teinte et la chromacité sont définis par la norme NF ISO 11664-4 :2011-07 point 4.2

Soit a* et b* les coordonnées colorimétriques CIELAB.

La chromacité est défini par C* ab = [(a*) 2 +(b*) 2 ]l/2 L’angle de teinte h ab = arctan (b*/a*)

L’angle de teinte doit être compris entre 0° et 90° si a* et b* sont tous deux positifs, entre 90° et 180° si b* est positif et a* négatif, entre 180° et 270° si b* et a* sont tous deux né gatifs et entre 270° et 360° si b* est négatif et a* positif.

La brillance est définie par le calcul BYK .

On utilise aussi le terme « l’intensité de réflexion » est définie par ou équivalent du facteur moyen de réflexion lumineuse tel que défini ci-dessus.

L’article optique miroité 1 des figures 1 A et IB est par exemple destiné à être utilisé, no tamment comme lentille ophtalmique, pour des lunettes, en particulier des lunettes de so leil, ou des masques. Pour ce faire il est seulement nécessaire de façonner le bord externe 3 selon la forme voulue du cadre d’une monture ou d’un masque.

Sur les figures lAet IB, on a représenté par la flèche 5 la lumière incidente sur l’article miroité 1 et un œil 7 pour représenter un utilisateur. Le champ de vision 13 se situe donc du côté de la flèche 7 et l’utilisateur regarde au travers l’article optique miroité 1 par son œil 7.

Par article miroité 1, on entend notamment une lentille ophtalmique, correctrice ou non, fi nie ou semi-finie, apte à être montée dans une monture, par exemple une monture de lu nettes, un masque ou une visière destinée à être placée devant les yeux et formant un écran de protection visuel. L’article optique miroité 1 est le produit de départ qui sera soumis au procédé qui sera décrit par la suite.

L’article optique miroité 1 peut être en verre minéral ou en verre organique ou une combi naison des deux.

L’article optique miroité 1 peut être teinté ou non, ou présenter un gradient de teinte, et il peut comprendre d’autre fonctions solaires comme une fonction polarisante, photochro- mique seule ou en combinaison comme on le verra plus loin. L’article miroité est par exemple de classe 2, 3 ou 4 selon la norme ISO 12312.

Il peut également comprendre d’autres fonctions supplémentaires, seules ou en combinai son parmi la liste non exhaustive suivante : antichoc, anti-rayures, anti-abrasion, anti-reflet, anti-salissures, anti-buée, anti-statique. Ces fonctions supplémentaires peuvent être réali sées selon des méthodes classiques (trempage, dépôt sous vide, dépôt à la toumette (« spin coating »), dépôt par pulvérisation (« spray coating »)...).

En référence aux figures lAet IB, l’article optique miroité 1 comprend un substrat 10 transparent.

Ce substrat 10 transparent présente une face arrière 10AR destinée à être orientée vers l’œil 7 de l'utilisateur, destinée à former la surface externe arrière d’article miroité 1 orientée vers l’œil de l'utilisateur, et une face avant 10AV orientée vers le champ de vision 13 de l'utilisateur.

Par transparent, on entend une couche laissant passer la lumière incidente en totalité ou au moins partiellement. Le substrat 10 transparent peut être teinté, c’est-à-dire par exemple inclure des colorants et/ou des pigments, ou non.

Plus généralement, le ou les matériaux de certaines couches de l’article optique miroité 1 peuvent être en n’importe quel matériau couramment utilisé dans le domaine de l’optique et en particulier dans le domaine ophtalmique.

Comme matériau thermoplastique, on peut par exemple choisir dans le groupe non exhaus tif suivant : polymethyl(meth)acrylate, polycarbonate, polycarbonate/polyester mélangés, polyamide, polyester, cyclic olefin copolymers, polyuréthane, polysulfone, du TAC (triacé- tate de cellulose) , polyimide , polyuréthanes ; poly (téréphtalate d’éthylène) et le polymé- thacrylate de méthyle (PMMA). et copolymères et leur combinaison.

Comme matériau thermodurcissable, on peut par exemple choisir dans le groupe non ex haustif suivant du CAB (cellulose acétate butyrate), les copolymères éthylène/norbornène ou éthylène/cyclopentadiène ; (homo et copolymères de carbonates allylique de polyols aliphatiques ou aromatiques linéaires ou ramifiés, comme les homopolymères de diéthy- lène glycol bis(carbonate d’ allyl) (CR 39®) ; (homo et copolymères d’acide methacrylique et les esters, qui peuvent être dérivés de bisphénol A ; (polymères et copolymères de l’acide thiomethacrylique et esters, (polymères et copolymères d’uréthane et de thiouré- thane), ( polymères et copolymères d’epoxy), (polymères et copolymères de sulfures et d’épisulfures) et leurs combinaisons.

Pour colorer le matériau thermoplastique, il est possible d’ajouter des pigments ou des co lorants. Concernant les pigments, ceux-ci peuvent être des pigments organiques ou miné raux.

Le matériau du substrat 10 est par exemple choisi parmi le groupe des matériaux suivants : polymethyl(meth)acrylate, polycarbonate, polycarbonate/polyester mélangés, polyamide, polyester, cyclic olefin copolymers, polyuréthane, polysulfone, du TAC (triacétate de cellu lose) ou de la cellulose acétate butyrate et leur combinaison.

Le fait que la face arrière 10AR forme une face externe n’empêche pas qu’elle soit traitée par exemple par un traitement anti-rayure et/ou antisalissure et/ou anti-reflet en face ar rière. En amont du substrat 10 est disposé un empilement de miroitage 21.

Selon le mode de réalisation des figures IA, IB et 2, un ensemble polarisant 31 compre nant par exemple un film polariseur notamment de polyvinyle alcool (PVA) dopé d’iode et étiré axialement connu pour ses propriétés polarisantes, peut être disposé entre l’empilement de miroitage 21 d’une part et le substrat 10 d’autre part et fixé à ceux-ci par l’intermédiaire de couches de colle 33 et 35. Dans l’ensemble polarisant 31, le film polari seur peut être pris en sandwich par deux couches minces, notamment en matériau thermo plastique notamment pour protéger le film polariseur. L’ensemble polarisant 31 peut aussi être formé par un film polariseur uniquement.

L’ensemble polarisant 31 est collé à la face arrière 21AR de l’empilement de miroitage 21 et à la face avant 10 AV du substrat 10.

Selon une première variante non représentée, une couche d’adhésion est disposée entre l’ensemble polarisant 31 et le substrat 10.

Selon une deuxième variante non représentée, une couche de traitement anti-rayure est dis posée entre l’ensemble polarisant 31 et l’empilement de miroitage 21.

Par ailleurs, un vernis peut être disposé sur l’ensemble polarisant 31, de sorte que le vernis se trouve entre l’ensemble polarisant 31 et l’empilement de miroitage 21.

Si dans l’ensemble polarisant 31, le film polariseur est pris en sandwich par deux couches minces, notamment en matériau thermoplastique, la couche la plus en aval peut également servir de couche d’adhésion tel que décrit ci-dessus.

L’empilement de miroitage 21 est plus détaillé sur la figure 2. Il comporte par exemple une succession de couches minces M1, M2, M3, M4, M5 et M6. Les couches minces adja centes ont un indice de réfraction différent l’une par rapport à l’autre. Cependant deux couches minces non adjacentes peuvent avoir des indices de réfraction identiques entre eux.

La couche Ml est la couche interférentielle qui est éloignée du substrat 10 avec une pre mière épaisseur initiale e 1-init et un premier indice de réfraction n 1 .

Les couches M2 à M6 sont des couches interférentielles rapprochées, disposées entre le substrat 10 et la couche interférentielle éloignée Ml, chacune avec une épaisseur initiale e j. init et un indice de réfraction n, (j étant un nombre entier de 2 à 6 dans le présent exemple). En particulier la couche M2 présente une seconde épaisseur initiale e 2-init et un indice de ré fraction n 2 qui est différent du premier indice de réfraction ni.

L’empilement de miroitage 21 donne par un phénomène d’interférométrie une première co loration selon l’espace CIELAB à l’article optique miroité 1, bien entendu en coopération avec les couches se trouvant plus en aval en direction de l’œil de l’utilisateur 7. Le nombre, les indices et épaisseurs des couches de l’empilement sont prédéterminées expérimentale ment, par calcul ou au moyen d’un calculateur ou simulateur de façon à obtenir ladite pre mière coloration avec un taux de réflexion prédéterminé.

Bien entendu le nombre de couches minces Mj peut varier et comporter par exemple que deux, quatre ou huit couches.

Les premières couches minces M1, M3 et M5 sont par exemple réalisées en silice (Si02) et les deuxièmes couches minces M2, M4 et M6 sont par exemple réalisées en oxyde de ti- tane (Ti 3 O 5 ).

D’autres matériaux peuvent être choisis, par exemple de manière que dans le domaine vi sible, les premières couches minces Ml, M3 et M5 ont un premier indice de réfraction ni inférieur ou égal à 1.5, et les deuxièmes couches minces M2, M4 et M6 ont un deuxième indice de réfraction n 2 supérieur à 2 notamment égal ou supérieur à 2.3.

De façon générale les premières couches minces Ml, M3 et M5 possèdent une épaisseur comprise entre 70nm et 250nm, et les deuxièmes couches minces M2, M4 et M6 ont une épaisseur comprise entre 40nm et 80nm.

Selon un exemple très concret l’empilement de miroitage 21 est formé de la façon sui vante :

Comme on peut le voir sur la figure 2, les premières couches minces Ml, M3 et M5 et les deuxièmes couches minces M2, M4 et M6 sont donc disposés en alternance.

L’empilement miroitage 21 est typiquement réalisé par dépôt sous vide de couches minces dans un « box-coater » (installation de déposition d’un revêtement par couches en fran çais).

Il en résulte qu’un ensemble polarisant 31 comprenant par exemple un film polariseur est collé à la deuxième couche mince M6 et à la face avant 10AV de du substrat 10.

Le mode de réalisation de la figure 3 se distingue seulement de celui de la figure 2 par le fait que ce mode de réalisation ne prévoit pas d’ensemble polariseur 31. Le substrat 10 est alors fixé en aval de la face arrière 21AR de l’empilement de miroitage 21.

On peut prévoir la fixation du substrat 10 sur la face arrière 21 AR de l’empilement de mi roitage 21 par une colle 35.

Selon une variante non représentée, une couche d’adhésion notamment en matériau ther moplastique, peut être disposée entre l’empilement de miroitage 21 et le substrat 10.

Selon encore un autre mode de réalisation non représenté, on peut prévoir que l’ensemble polarisant 31 est remplacé par une couche photochromique activable dans le domaine UV et/ou dans le domaine visible.

Cette couche photochromique peut être un matériau thermoplastique comprenant un colo rant photochrome connu. On citera simplement à titre d'exemples les familles suivantes uti lisées couramment dans des lentilles ophtalmiques : les spiro-oxazines, les spiro- indoline[2,3']benzoxazines, les chromènes, les spiroxazine homo-aza-adamantanes, les spi- rofluorène-(2H)-benzopyranes, les naphto[2,l-b]pyranes et les naphto[l,2-b]pyranes.

La figure 4 montre l’article optique miroité 1 de face selon les exemples des modes de réa lisation des figures précédentes, c’est-à-dire selon la flèche 5.

Sur cette figure est dessinée en traits pointillés une première zone Z1 sur laquelle le traite- ment du procédé selon l’invention va être appliqué. Dans le présent exemple, la zone Z1 est plus petite que la superficie de l’article optique miroité 1. Son extension est donc plus petite que le diamètre de l’article optique miroité 1.

Les zones / la zone non traitée(s) qui se situent en dehors de la première zone Zl, sont pro tégée^) par exemple au moins un film adhésif Fp de protection appliqué sur la couche mince Ml avant la réalisation du procédé de traitement. Ainsi, on voit sur cette figure 4 le film de protection Fp et la couche Ml de l’empilement de miroitage 21 dans la zone Zl. Selon un autre exemple, la zone Zl couvre l’ensemble de l’article miroité 1 qui va donc, suite au procédé de traitement changer d’aspect extérieur et notamment de coloration.

Selon encore un autre exemple, on peut prévoir plusieurs zones par exemple Zl, Z2 etc. comme on le verra plus loin.

Pour cela l’article optique miroité 1 est placé par exemple dans une installation 220 de trai tement par bombardement ionique d’articles optiques miroités 1.

Cette installation 220 comprend une enceinte de traitement 221 et une source 222 émettrice d’ions pour bombarder les articles optiques miroités 1 selon un cône d’évaporation 224 par exemple.

L’enceinte de traitement 221 peut être fermée hermétiquement et être reliée à une unité de vide (non représentée), par exemple une pompe à vide, pour baisser la pression à l’intérieur de l’enceinte de traitement 221 à une pression adaptée pour le traitement à appliquer, typi quement par exemple de l’ordre de 3*10 -5 mbar.

De façon alternative, le bombardement ionique peut être réalisé dans une atmosphère con tenant un gaz inerte ayant une pression inférieure ou égale à la pression atmosphérique.

La source émettrice 222 est par exemple constituée par un canon à ions ou un support sur lequel est disposé un matériau à évaporer, source d’ions ou un générateur de plasma, par exemple un creuset ou une platine, et, pour son évaporation, le matériau est par exemple soumis à un échauffement par effet Joule, à un bombardement électronique, ou à un effet de pulvérisation cathodique. La source d’ions peut être un filament en tungstène formant cathode. Le diffuseur de gaz ou générateur de plasma peut être formé par une anode en graphite. Dans ce cas, un creuset ou une platine ne sont pas nécessaire pour une telle source émettrice 222.

Au-dessus de la source émettrice 222 est disposé un support rotatif 226 des articles op tiques miroités 1.

A cet effet, le support rotatif 226 comporte des logements individuels 228 des articles op tiques miroités 10.

Les logements individuels 228 sont disposés par exemple sur des pistes concentriques.

On comprend qu’en rotation du support 226, chacun des logements individuels 228 réalise des tours de révolution.

Le support rotatif 226 possède par exemple une forme concave ou plus spécifiquement en forme de calotte sphérique de sorte que les logements individuels 228 des articles optiques miroités 1 sont disposés à égale distance de la source émettrice d’ions 222.

Le support rotatif 226 peut tourner autour d’un axe A qui correspond à l’axe de symétrie du support rotatif et passe par le centre de celui-ci ce qui permet d’uniformiser l’exposition des articles optiques miroités au bombardement ionique.

L’installation 220 est par exemple un « box-coater » (installation de déposition d’un revê tement par couches en français) équipé entre autre d’un canon à ions et qui permet aussi appliquer d’autres traitements, notamment des traitements de finition de l’article optique miroité 1, comme un traitement antisalissure. Comme évoqué ci-dessus, le box-coater peut aussi être utilisé pour la réalisation de l’empilement de miroitage 21.

L’installation 220 permet donc dans une même machine la réalisation de diverses étapes dans la fabrication d’un article optique en particulier même certaines qui sont antérieures à celles concernées par le procédé de l’invention.

Avant être introduit dans l’installation 220, la /les zone(s) de l’article optique miroité 1 qui ne doivent pas être traitée(s), sont donc protégée(s) par un cache, par exemple le film adhé sif Fp.

De façon alternative, à la place du film de protection Fp, on peut prévoir dans l’installation 220 un masque, en particulier un cache, notamment métallique, entre l’article optique mi roité 1 et le canon à ions empêchant les ions à parvenir aux couches interférentielle en de hors de la zone prédéterminée Z1.

Le procédé comporte une première étape 103 (voir figure 6) consistant à enlever par bom bardement ionique au moins dans une première zone prédéterminée Z 1 une épaisseur et de l’empilement miroité 21 qui est inférieure à la somme des épaisseurs initiales concernées par l’étape d’enlèvement.

Plus spécifiquement, le procédé de traitement vise à enlever une couche mince M j que par tiellement et le cas échéant complètement la ou les couches minces Mi à M j-l les plus éloi gnés du substrat 10. Dans le référentiel de la présente demande pour i<j, la couche M i est plus éloignée du substrat 10 que la couche M j .

Par exemple selon un premier mode de réalisation, l’installation 220 est configurée pour enlever de la couche mince Ml une épaisseur et < e 1-init , c’est-à-dire l’épaisseur initiale ei_ init de la couche interférentielle éloignée Ml est réduite d’une valeur et inférieure à son épaisseur initiale e 1-init· On aboutit donc à une épaisseur résiduelle de la couche Ml e r = ei_ init - e t . Cet exemple sera généralement le plus pertinent dans le cas où l’empilement de mi roitage 21 possède deux ou plus que trois couches minces interférentielles Mj.

Plus généralement si une partie de la couche M k (k étant un entier, dans le présent exemple k=l à 6, de préférence k=l ou 2) est enlevée, on enlève par bombardement ionique dans la zone prédéterminée Z1 une épaisseur :

La couche Mk possédera donc une épaisseur résiduelle

Par exemple, on peut prévoir que l’épaisseur résiduelle e r de la couche Mk est comprise dans la plage

Ainsi, l’article optique miroité 1, présente dans cette zone prédéterminée Z 1 par un phé nomène d’interférométrie une deuxième coloration selon l’espace CIEL A B différente de la première coloration de l’article optique miroité 1 non traité ou des zones non traitées de l’article miroité 1.

L’avantage de procéder ainsi consiste dans la précision du procédé pour enlever une cer taine épaisseur et la répétabilité à l’échelle industrielle, ce qui permet donc d’obtenir un ré sultat en termes de deuxième coloration prévisible et de bonne qualité.

Selon un exemple, dans le cas où l’empilement de miroitage 21 comporte au moins trois couches interférentielles (comme par exemple selon l’exemple des figures 2 et 3), et le bombardement ionique enlève seulement une partie de la couche mince M1, la réduction d’épaisseur et de la couche interférentielle éloignée Ml est déterminée de façon à ce qu’entre la première et la seconde coloration, la différence de l’angle de teinte est infé rieure à 2% et la différence de la chromacité est supérieure à 10%.

Selon un autre exemple la réduction d’épaisseur et de la couche interférentielle éloignée Ml est déterminée de façon à ce que la différence de brillance entre la première et la se conde coloration est inférieure à 10%, notamment inférieur à 5%.

Selon encore un autre exemple, la réduction d’épaisseur et de la couche interférentielle éloignée Ml est déterminée de façon à ce que le rapport b*/a* de l’espace CIELAB est constant dans la limite d’une tolérance de 10%, notamment 5% entre la première et la deu xième coloration.

Après cette première étape 103, on constate que la réduction d’épaisseur est uniforme dans la ou dans chacune des zones Zi prédéterminées.

Selon une variante, l’étape 103 est précédée d’une étape 101 optionnelle de détermination d’une durée T de bombardement ionique pour obtenir la seconde coloration dans la pre mière zone prédéterminée Z 1.

Selon encore un autre exemple la réduction d’épaisseur et de la couche interférentielle éloignée Ml est déterminée tel que l’article optique miroité 1 présente par un phénomène d’interférométrie un miroitage ayant une intensité de réflexion dans la première zone pré déterminée Z1 différente d’une zone non traitée par le bombardement ionique.

Selon la figure 7 qui est une variante de la figure 4, l’article optique miroité comprend la dite première zone prédéterminée Z1 et une zone non traitée par le bombardement ionique, protégée par le film de protection Fp, et l’une des deux zones, ici la zone Zl, correspond à une zone de vision de près avec un miroitage ayant une intensité de réflexion plus faible que dans l’autre zone (la zone non traitée) correspondant à une vision de loin.

Selon une autre variante montrée en figure 8 dans lequel la surface de la première zone prédéterminée Z 1 est plus petite que la surface de l’article optique miroité 1, le procédé peut comporter en outre une deuxième étape d’enlèvement 105 par bombardement ionique au moins dans une deuxième zone prédéterminée Z2 de l’article optique miroité 1 qui est différente de la première zone prédéterminée Zl. Lors de cette deuxième étape d’enlèvement 105, la zone Zl peut être protégée, par exemple par un film adhésif Fp sup plémentaire, et une deuxième épaisseur prédéfinie de la couche interférentielle éloignée Ml est enlevée qui est inférieure à la première épaisseur initiale de cette couche interféren tielle éloignée et différente de l’épaisseur enlevée lors de la première étape d’enlèvement 103. Il en résulte que dans la deuxième zone prédéterminée Z2, l’article optique miroité 1 présente par un phénomène d’interférométrie une troisième coloration selon l’espace CIE- LAB différente de la première et de la deuxième coloration selon l’espace CIELAB. On obtient donc un article optique miroité tricolore.

Selon encore une autre variante montrée en figure 9, dans lequel la surface de la première zone prédéterminée Z1 est plus petite que la surface de l’article optique miroité 1, le pro cédé peut comporter en outre une deuxième étape 105 d’enlèvement par bombardement io nique au moins dans une deuxième zone prédéterminée Z2 de l’article optique miroité 1 qui est incluse dans la première zone prédéterminée Z1 et plus petite que cette dernière. Lors de la deuxième étape d’enlèvement 105, un film de protection adhésif Fp protège tout l’article optique miroité sauf la zone prédéterminée Z2 et une deuxième épaisseur prédéfi nie de la couche interférentielle éloignée Ml est enlevée qui est inférieure à la différence entre la première épaisseur initiale de cette couche interférentielle éloignée et l’épaisseur enlevée lors de la première étape d’enlèvement. Dans la deuxième zone prédéterminée, l’article optique miroité 1 présente en conséquence par un phénomène d’interférométrie une troisième coloration selon l’espace CIELAB différente de la première et de la deu xième coloration selon l’espace CIELAB.

On comprend donc que le procédé de traitement de l’article optique miroité 1 permet de changer de façon précise et répétable certains paramètres, notamment la coloration pour obtenir un produit personnalisé avec un coût de revient contenu.

La figure 10 montre par exemple la réflectivité en fonction de la longueur d’onde d’un ar ticle optique miroité 1 dans la zone prédéterminé Z1 avant, courbe Cl, et après, courbe C2, l’étape 103 du procédé de traitement. Avant le traitement selon l’étape 103, l’article op tique miroité 1 présente dans son ensemble et plus spécifiquement dans la zone prédéter minée Z1 un aspect « bleu », tandis qu’après traitement, la zone prédéterminée Z 1 présente un aspect « bronze » comme le montrent les spectres de la figure 10. A partir d’un article optique miroité 1 d’une couleur prédéterminée, on aboutit à un article optique miroité d’une autre couleur ou présentant deux, voire trois couleurs différentes. Selon des exemples, le changement de coloration peut être moins prononcé et se traduire par exemple par un effet « pastel ».

Par ailleurs, par inspection d’un article optique miroité traité selon le procédé décrit ci- dessus notamment à l’aide d’un microscope électronique, on peut observer que l’enlèvement dans une zone prédéterminée d’une épaisseur de l’empilement miroité est ré alisé par bombardement ionique. En particulier, dans une zone prédéterminée Z 1 par exemple, on peut observer localement une densification des couches ayant subi le bombar dement ionique par rapport à une zone où les couches n’ont pas subi de bombardement io nique.