Sicherheitselemente der eingangsgenannten Art werden üblicherweise verwendet, um die Fäl schungssicherheit von Wertpapieren oder Sicherheitspapieren, wie Banknoten, Ausweise, Kreditkarten, Bankomatkarten, Tickets etc. zu erhöhen.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Sicherheitselement mit erhöhter Fälschungssi cherheit zu schaffen.

Diese Aufgabe wird durch ein Sicherheitselement der eingangs genannten Art erfindungsge mäß dadurch gelöst, dass das Sicherheitselement zumindest einen ersten Bereich mit Struktu ren aufweist, und die Strukturen ein Bildmotiv in unterschiedliche Raumbereiche reflektieren, sodass für den Betrachter bei entsprechender Bewegung einer Lichtquelle und/oder bei Ver änderung eines Beobachtungswinkels ein Bewegungsbild entsteht, wobei bei Bewegung der Lichtquelle und/oder Veränderung des Beobachtungswinkels gleichzeitig eine Bewegung des Bildmotivs entsteht, und dabei weiters vorgesehen ist dass eine optische Effektschicht vorgesehen ist, welche optische Effektschicht zumin dest einen zweiten Bereich definiert, dass die optische Effektschicht als Dünnschichtelement ausgebildet ist, und dass die Strukturen vollflächig oder partiell von der optischen Effektschicht abgedeckt sind.

Der dadurch erzielte Vorteil liegt darin, dass so eine einander überdeckende Lage des ersten Bereichs zur Bildung des als Bewegungsbild ausgebildeten Bildmotivs und des zweiten Be reichs zur Bildung von zumindest einem optischen Erscheinungsbild oder einem optischen Effekt eine hohe Kombinations- und Gestaltungsvielfalt geschaffen wird. Damit wird die Fäl schungssicherheit des so ausgebildeten Sicherheitselements noch weiter erhöht. So wird das von den Strukturen gebildete Bewegungsbild direkt mit dem von der optischen Effektschicht erzeugten oder hervorgerufenen optischen Effekt zu einem Gesamtbild kombiniert. Ein Be- trachter des Sicherheitselements kann damit ohne Zuhilfenahme von Hilfsmitteln rasch und sicher die Echtheit durch eine rein visuelle Inaugenscheinnahme feststellen.

Weiters kann es vorteilhaft sein, wenn die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Ef fektschicht zumindest eine Absorber Schicht und zumindest eine Distanzschicht umfasst.

Eine weitere mögliche Ausführungsform hat die Merkmale, dass die zumindest eine Distanz schicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist. An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass unter dem Begriff eine Schicht ist auf etwas aufgebracht so zu verstehen ist, dass die Schicht direkt aufgebracht sein kann, oder dass sich zwischen der aufgebrachten Schicht und dem, worauf die Schicht aufgebracht ist, noch eine oder mehrere Zwischenschichten befinden können.

Darüber hinaus kann die Absorberschicht auf die Strukturen aufgebracht sein, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft sein.

Gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung können die Distanzschicht und die Absorber Schicht in der Reihenfolge Absorberschicht - Distanzschicht oder Distanzschicht- Absorber Schicht auf die Strukturen aufgebracht sein.

Eine weitere Ausbildung sieht vor, dass beidseits der zumindest einen Distanzschicht jeweils zumindest eine Absorberschicht angeordnet ist und dass die zumindest eine Absorberschicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist.

Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht weiters noch zumindest eine Reflexions Schicht umfasst, wobei die zumindest eine Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absorberschicht und der zumindest einen Reflexionsschicht angeordnet ist.

Eine weitere bevorzugte Ausführungsform ist dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexions schicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist. Weiters kann es vorteilhaft sein, wenn die zumindest eine Absorberschicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist.

Eine weitere Ausbildung sieht vor, dass bei der Bewegung der Lichtquelle und/oder der Ver änderung des Beobachtungswinkels in der als farbkippenden Schicht ausgebildeten optischen Effektschicht oder in der farbkippenden Lage ein Farbkippeffekt entsteht.

Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass das Sicherheitselement zusätz lich zu dem Dünnschichtelement metallische Pigmente und/oder magnetische Pigmente und/oder fluoreszierende Pigmente und/oder fluoreszierenden Stoffe und/oder Farbpigmente und/oder Farbstoffe enthält.

Eine weitere bevorzugte Ausführungsform ist dadurch gekennzeichnet, dass dieses eine Trä gerschicht aus einem Kunststoff umfasst, wobei insbesondere der Kunststoff aus einem licht durchlässigen und/oder thermoplastischen Kunststoff gebildet ist, und dass die Trägerschicht bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylen- naphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT), Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopo- lymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Poly vinylfluorid (PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen- Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien um fasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

Weiters kann es vorteilhaft sein, wenn die Trägerschicht eine Dicke mit einem Dickenwert aufweist, der aus einem Dicken-Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 5 pm, bevorzugt von 10 pm, und dessen obere Grenze 1000 pm, bevorzugt von 50 pm, beträgt.

Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die zumindest eine Absorber schicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe von Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Alu minium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die zumindest eine Distanz schicht aus einem dielektrischen Material gebildet ist.

Eine weitere mögliche Ausführungsform hat die Merkmale, dass die zumindest eine Distanz schicht zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminiumoxid (AI2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AIF3), Silizi umoxid (SIO _x ), Siliziumdioxid (S1O2), Cerfluorid (CeF3), Natrium- Aluminium-Fluoride (z.B. NasAlFö oder NasAEFu), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbeson dere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Koh lenstoff (C), Indiumoxid (I Os), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta ₂ 0s), Ceroxid (Ce0 ₂ ), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Ei- sen(II,III)oxid (FesOO und Eisen(III)oxid (Fe ₂ 0 ₃ ), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf0 ₂ ), Lanthanoxid (La ₂ 0 ₃ ), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd ₂ 0 ₃ ), Praseodymoxid (Rig,Oi i ), Samariumoxid (Sm ₂ 0 ₃ ), Antimontrioxid (Sb ₂ 0 ₃ ), Silizi- umcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se ₂ 0 ₃ ), Zinno xid (Sn0 ₂ ), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbre chende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

Eine weitere Ausbildung sieht vor, dass die zumindest eine Reflexions Schicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder zumin dest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (I CE), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (TaiOs), Ceroxid (CeC ), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (FesCC) and Eisen(III)oxid (Fe ₂ 0 ₃ ), Hafniumnitrid (HfN), Hafni- umcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfC ), Lanthanoxid (La ₂ 0 ₃ ), Magnesiumoxid (MgO), Neo dymoxid (Nd ₂ 0 ₃ ), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samariumoxid (Sm ₂ 0 ₃ ), Antimontrioxid (Sb ₂ 0 ₃ ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se ₂ 0 ₃ ), Zinnoxid (Sn0 ₂ ), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die Strukturen als diffraktive Strukturen, als Mikrospiegel, als strahlenoptisch wirksame Facetten oder als achromatische, reflektierende Strukturen ausgebildet sind.

Eine weitere bevorzugte Ausführungsform ist dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen in die Trägerschicht mittels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht sind oder dass die Strukturen in einer direkt oder unter Zwischenschaltung zu mindest einer Zwischenschicht auf die Trägerschicht aufgebrachten Schicht, insbesondere einer Prägelackschicht, ausgeformt sind, insbesondere mittels einer Abformvorrichtung ein geprägt sind.

Schließlich kann es vorteilhaft sein, wenn die weitere Schicht mit den darin ausgeformten Strukturen eine Schichtdicke mit einem Schichtdickenwert aufweist, der aus einem Schichtdi cken- Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 0,5 pm, insbesondere 0,8 pm, bevorzugt 1 pm, und dessen obere Grenze 300 pm, insbesondere 50 pm, bevorzugt 10 pm, beträgt.

Gemäß einer Weiterbildung ist es möglich, dass das Sicherheitselement mit weiteren farbkip- penden Schichten, insbesondere Schichten mit farbkippenden Pigmenten oder Flüssigkristal len, und/oder maschinenlesbaren Merkmalen, ausgestattet ist, wobei es sich bei den maschi nenlesbaren Merkmalen insbesondere um Magnetcodierungen, elektrisch leitfähige Schichten, elektromagnetische Wellen absorbierende und/oder reemittierende Stoffe handelt. Femer kann es zweckmäßig sein, wenn das Sicherheitselement zusätzliche Schichten auf weist, welche zusätzlichen Schichten insbesondere Farblacke, Schutzlacke, Kleber, Primer und/oder Folien umfassen.

Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese anhand der nachfolgenden Figuren näher erläutert.

Es zeigen jeweils in stark vereinfachter, schematischer Darstellung:

Fig. 1 einen Schnitt durch ein mögliches Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Sicherheitselements ;

Fig. 2 einen Schnitt durch ein anderes Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Si- cherheitselements ;

Fig. 3 einen ersten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;

Fig. 4 einen zweiten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;

Fig. 5 einen dritten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;

Fig. 6 einen vierten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;

Fig. 7 einen weiteren möglichen Schichtaufbau der optischen Effektschicht, in Ansicht und stilisierter Darstellung.

Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungsformen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen versehen wer den, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf glei- che Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragen wer den können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben, un ten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sind bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen.

Der Begriff „insbesondere“ wird nachfolgend so verstanden, dass es sich dabei um eine mög liche speziellere Ausbildung oder nähere Spezifizierung eines Gegenstands oder eines Verfah rensschritts handeln kann, aber nicht unbedingt eine zwingende, bevorzugte Ausführungsform desselben oder eine zwingende Vorgehensweise darstellen muss.

Die Figuren werden übergreifend beschrieben und stets gleiche Bauteile oder gleiche Kompo nenten mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Weiters wird der Begriff der „Schicht“ grundsätzlich für einen mehrlagigen, zusammengehörigen Bauteilverbund verwendet. Damit kann jede der nachfolgend beschriebenen Schichten auch mehrere, bevorzugt miteinander verbundene oder aneinander anhaftende Lagen umfassen.

Die Fig. 1 zeigt ein Sicherheitselement 1, insbesondere für Wertpapiere, Banknoten, Karten anwendungen oder Sicherheitspapiere, in einer stark stilisiert und unmaßstäblichen Darstel lung.

Das Sicherheitselement 1 weist zumindest einen ersten Bereich 2 und zumindest einen diesen zumindest bereichsweise abdeckenden zweiten Bereich 3 auf. Der zumindest eine erste Be reich 2 ist in der dargestellten Lage bzw. Position des Sicherheitselements 1 unterhalb des zweiten Bereichs 3 angeordnet. Die beiden Bereiche 2, 3 bzw. jene diese bildenden Schichten oder Lagen, sind zueinander unterschiedlich ausgebildet und werden nachfolgend noch detail lierter beschrieben.

Der zumindest eine erste Bereich 2 umfasst Strukturen 4 oder ist durch diese gebildet. Von den Strukturen 4 des ersten Bereichs 2 wird ein Bildmotiv 5 in unterschiedliche Raumberei che reflektiert, sodass für den Betrachter bei entsprechender Bewegung einer Lichtquelle 6 und/oder bei Veränderung eines Beobachtungswinkels ein sogenanntes Bewegungsbild ent steht. Der den ersten Bereich 2 zumindest abschnittsweise überdeckende oder überlagernde zweite Bereich 3 ist bei diesem Ausführungsbeispiel von einer optischen Effektschicht 7 gebildet. Die optische Effektschicht 7 kann auch als optisch variable Schicht ausgebildet sein oder als diese bezeichnet werden.

Die optische Effektschicht 7 kann einen vom Betrachtungswinkel und/oder vom Beleuch tungswinkel und/oder von der Art der Beleuchtung abhängigen optisch variablen Effekt auf weisen oder diesen ausbilden. Der optisch variable Effekt kann z.B. ein Aufsicht- / Durch sichtseffekt und/oder ein farbkippender Effekt und/oder ein Fluoreszenz-Effekt oder derglei chen sein.

Dabei sei erwähnt, dass die Strukturen 4 partiell oder vollflächig vorgesehen sein können. Dies gilt auch für die optische Effektschicht 7, welche ebenfalls partiell oder vollflächig vor gesehen sein kann. Es kann die optische Effektschicht 7 auch aus mehreren Lagen gebildet sein oder diese umfassen.

Das Sicherheitselement 1 kann auch noch eine Trägerschicht 8 umfassen. Die Trägerschicht 8 kann aus einem Kunststoffwerkstoff gebildet sein. Weiters können auch mehrere Lagen die Trägerschicht 8 bilden. Der Kunststoff kann aus einem lichtdurchlässigen und/oder thermo plastischen Kunststoffmaterial gebildet sein. Als Werkstoff für die Trägerschicht 8 kann zu mindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Po- lyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT), Po- lyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Polyvinylfluorid (PVF), Po- lyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen- Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien um fassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein. Die Trägerschicht 8 kann ihrerseits eine Dicke mit einem Dickenwert aufweisen, der aus ei nem Dicken- Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 5 mhi, bevorzugt von 10 mhi, und dessen obere Grenze 1000 mhi, bevorzugt von 50 mhi, beträgt.

Die zuvor beschriebenen Strukturen 4 können z.B. als diffraktive Strukturen, als Mikrospie gel, als strahlenoptisch wirksame Facetten oder als achromatische, reflektierende Strukturen ausgebildet sein. Die Ausbildung der Strukturen 4 als diffraktive Strukturen ist beispielsweise aus der EP2782765B1 und der EP2885135B1 sowie der WO2015107347A1 bekannt gewor den. Während eine Ausgestaltung der Strukturen 4 als Mikrospiegel beispielsweise aus der US10189294A1 sowie der EP3362827A1 dem Fachmann geläufig ist. Eine facettenartige Ausformung der Strukturen 4 geht beispielsweise aus der EP2632739A1 hervor. Weiters kön nen die Strukturen 4 in die Trägerschicht 8 mittels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht sein oder werden.

Eine weitere alternative Möglichkeit bestünde darin, zur Ausbildung der Strukturen 4 eine eigene weitere Schicht 9 vorzusehen. Die weitere Schicht 9 kann direkt auf die Trägerschicht 8 aufgebracht sein. Die weitere Schicht 9 ist mit einer strichlierten Linie angedeutet. So kann z.B. die weitere Schicht 9 von einem Prägelack gebildet sein, welcher entsprechend zur Bil dung der Strukturen 4 umgeformt ist. Dies kann wiederum mittels der Abformvorrichtung oder eines Abformelements in einem Prägeverfahren erfolgen. Damit können wiederum die Strukturen 4 ausgeformt werden. Die weitere Schicht 9 mit den darin ausgeformten Strukturen 4 kann eine Schichtdicke mit einem Schichtdickenwert aufweisen, der aus einem Schichtdi cken- Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 0,5 pm, insbesondere 0,8 m m, bevorzugt 1 pm, und dessen obere Grenze 300 pm, insbesondere 50 pm, bevorzugt 20 pm, beträgt.

In der Fig. 2 ist noch dargestellt, dass die Strukturen 4 zwar durch die weitere Schicht 9 aus gebildet sind, jedoch die weitere Schicht 9 nicht direkt auf die Trägerschicht 8 aufgebracht ist. Es kann dazu eine Zwischenschicht 10 vorgesehen sein, welche z.B. durch einen Haftvermitt ler, einen Primer, einen Kleber oder dergleichen ausgebildet ist.

Die Strukturen 4 können z.B. als diffraktive Strukturen, als Mikrospiegel, als strahlenoptisch wirksame Facetten oder als achromatische, reflektierende Strukturen ausgebildet sein. Die Ausbildung bzw. das Einbringen der Strukturen 4 direkt in der Trägerschicht 8 kann z.B. mit tels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, erfolgen.

Ist die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 zur Ausbildung der Strukturen 4 vorgesehen, können diese in der auf die Trägerschicht 8 aufgebrachten weiteren Schicht 9 ausgeformt sein. Die weitere Schicht 9 kann insbesondere von einer Prägelackschicht gebildet sein. Das Ein formen oder Ausformen der Strukturen 4 kann wiederum z.B. mittels einer Abformvorrich tung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, erfolgen.

Bei den gezeigten Ausführungsbeispielen bilden die Strukturen 4 den zumindest einen ersten Bereich 2 des Sicherheitselements 1, wobei der zumindest eine erste Bereich 2 zumindest abschnittsweise von dem zumindest einen zweiten Bereich 3 abgedeckt oder überlagert ist. Der zumindest eine zweite Bereich 3 ist von der optischen Effektschicht 7 gebildet, welche bei allen Ausführungsbeispielen als sogenanntes Dünnschichtelement ausgebildet ist, welches einen Dünnschichtaufbau aufweist oder selbst als Dünnschichtaufbau bezeichnet werden kann. Die Schichtstärke der einzelnen das Dünnschichtelement bildenden Schichten oder La gen ist stark übertrieben und unmaßstäblich dargestellt. So können die Strukturen 4 vollflä chig oder partiell von der optischen Effektschicht 7 abgedeckt sein.

Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 umfasst zumindest eine Absorber Schicht 11 und zumindest eine Distanzschicht 12. Weitere mögliche zusätzliche Schichten oder Lagen der optischen Effektschicht 7 werden in den nachfolgenden Fig. noch beschrieben.

Die zumindest eine Absorberschicht 11 kann zumindest ein metallisches Material, insbeson dere ausgewählt aus der Gruppe von Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.

Die zumindest eine Distanzschicht 12 kann z.B. aus einem dielektrischen Material gebildet sein. Weiters kann die zumindest eine Distanzschicht 12 zumindest ein niederbrechendes die lektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausge wählt aus der Gruppe Aluminiumoxid (AI2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumflu- orid (MgF2), Aluminiumfluorid (AIF3), Siliziumoxid (SIO _x ), Siliziumdioxid (S1O2), Cerfluo rid (CeF3), Natrium- Aluminium-Fluoride (z.B. NasAlF _f , oder NasAbFw), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluo rid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbre chende organische Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (I CL), Indium- Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta ₂ 0s), Ceroxid (CeC ), Yttriumoxid (Y2O3), Europi umoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (FesCri) und Eisen(III)oxid (Fe ₂ 0 ₃ ), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfC ), Lanthanoxid (La ₂ 0 ₃ ), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd ₂ 0 ₃ ), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samari umoxid (Sm ₂ 0 ₃ ), Antimontrioxid (Sb ₂ 0 ₃ ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Sili- ziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se ₂ 0 ₃ ), Zinnoxid (Sn0 ₂ ), Wolframtrioxid (WO3), hochbre chende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.

Es ist stets die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 auf den Struktu ren 4 angeordnet oder aufgebracht. Es ist möglich, das gesamte Dünnschichtelement als opti sche Effektschicht 7 auf die Strukturen 4 aufzubringen. Es wäre aber auch möglich, nur ein zelne Schichten oder Lagen der optischen Effektschicht 7 nacheinander oder auch gruppen weise aufzubringen. Das Aufbringen der optischen Effektschicht 7 oder einzelner Lagen oder Schichten derselben kann je nach gewähltem Werkstoff unterschiedlichst erfolgen. Als mögli che Beispiele sei das Aufdrucken und/oder Aufdampfen und/oder Lackieren angeführt.

Es wäre auch noch zusätzlich möglich, eine eigene Zwischenschicht 10, wie z.B. eine Haft vermittlerschicht oder Haftvermittlerlage, eine Primerschicht oder Primerlage oder derglei chen, zwischen den den ersten Bereich 2 bildenden Strukturen 4 und der optischen Effekt schicht 7 mit ihrem zweiten Bereich 3 vorzusehen. Damit kann das Anordnen oder Aufbrin gen der optischen Effektschicht 7 auf die Strukturen 4 entweder direkt und/oder unter Zwi schenschaltung der eigenen, zusätzlichen Zwischenschicht 10 erfolgen.

Zusätzlich zu der als Dünnschichtelement ausgebildeten optischen Effektschicht 7 können weitere Schichten vorgesehen sein, beispielsweise eine optisch nicht lineare Schicht sein oder eine optisch nicht lineare Lage. Eine derartige Schicht oder solche diese Schicht bildenden Materialien oder Lagen werden auch als IR-Upconverter oder UV-Downconverter bezeich net. Dabei kann es sich um Materialien handeln, welche unter dem Einfluss von elektromag netischer Strahlung außerhalb des sichtbaren Wellenlängenbereiches des Lichtes eine sichtba re Farbe aufweisen. Solche Materialien können unter diesen Bedingungen, beispielsweise bei Einstrahlung von Infrarot(IR)- (l > 780 nm) und/oder Ultraviolet(UV)-Licht (l < 380), so zur Emission von sichtbarem Licht angeregt werden.

Weiters kann die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 auch als farb- kippende Schicht ausgebildet sein oder eine farbkippende Lage umfassen. Es sind auch belie bige Variationen der optischen Effekte durch entsprechende Kombinationen von unterschied lichsten Lagen oder Schichten möglich. Damit wird es z.B. möglich, dass bei der Bewegung der Lichtquelle 6 und/oder der Veränderung des Beobachtungswinkels in der als farbkippen- den Schicht ausgebildeten optischen Effektschicht 7 oder in der farbkippenden Lage ein Farb- kippeffekt entsteht.

Weiters können zusätzlich zur optischen Effektschicht 7 metallische Pigmente und/oder mag netische Pigmente und/oder fluoreszierende Pigmente und/oder fluoreszierenden Stoffe und/oder Farbpigmente und/oder Farbstoffe vorgesehen sein.

Bei dem in der Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ist die zumindest eine Distanzschicht 12 auf den Strukturen 4 aufgebracht, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft. Wie zuvor beschrieben, kann die zumindest eine Distanzschicht 12 direkt und unmittelbar auf den Struk turen 4 aufgebracht sein oder es kann die Zwischenschaltung der eigenen Zwischenschicht 10 vorgesehen sein.

Als oberste oder äußerste Lage oder Schicht kann auf die optische Effektschicht 7 eine Schutzschicht 13 aufgebracht sein. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Bevorzugt kann mittels der Schutzschicht 13 auch eine ebenflächige Ausbildung des Sicherheitselements 1 erzielt werden, wie dies mit einer strichlierten Linie in der Fig.l angedeutet ist. In der Fig 3 ist die zuvor beschriebene Ausbildung des Sicherheitselements 1 noch vereinfacht dargestellt. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt durch die optische Effektschicht 7 hindurch auf die Strukturen 4.

Die Strukturen 4, welche den ersten Bereich 2 definieren, sind von dem zweiten Bereich 3 der optischen Effektschicht 7 abgedeckt. Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Ef fektschicht 7 umfasst die den Strukturen 4 zugewendete Distanzschicht 12 und die darüber befindliche Absorberschicht 11. Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite der Absorberschicht 11 die Schutzschicht 13 ange deutet. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Trägerschicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Träger schicht 8 ausgebildet sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vor gesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.

Die Fig. 4 zeigt ein mögliches weiters Ausführungsbeispiel des Sicherheitselements 1. Das Sicherheitselement 1 ist in seinem Schichtaufbau ähnlich ausgebildet, wie das zuvor in der Fig. 3 beschriebene Sicherheitselement 1. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist ebenfalls mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt durch die optische Effektschicht 7 hindurch auf die Strukturen 4.

Die Strukturen 4, welche den ersten Bereich 2 definieren, sind von dem zweiten Bereich 3 der optischen Effektschicht 7 abgedeckt. Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Ef fektschicht 7 umfasst die den Strukturen 4 zugewendete Absorberschicht 11, anschließend die Distanzschicht 12 und wiederum die darüber befindliche Absorber Schicht 11. Damit ist beid seits der Distanzschicht 12 jeweils zumindest eine Absorberschicht 11 angeordnet oder vorge sehen. Jene den Strukturen 4 näherliegend befindliche Absorberschicht 11 ist somit auf den Strukturen 4 aufgebracht oder auf diesen angeordnet. Dies kann in direkter Weise oder aber auch unter Zwischenschaltung der eigenen Zwischenschicht 10 erfolgen.

Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewende ten Seite der äußeren Absorberschicht 11 die Schutzschicht 13 angedeutet. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Trägerschicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.

In der Fig. 5 ist ein weiteres mögliches Ausführungsbeispiel des Sicherheitselements 1 mit dessen optischen Effektschicht 7 gezeigt. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist ebenfalls mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt auch hier durch die optische Effektschicht 7 hindurch auf die Strukturen 4.

Der grundsätzliche Aufbau des Sicherheitselements 1 entspricht dabei jenem, wie dieser in den Fig. 1 und 3 gezeigt und beschrieben worden ist. Als zusätzliche Schicht umfasst die opti sche Effektschicht 7 auch noch zumindest eine Reflexionsschicht 14. Die zumindest eine Dis tanzschicht 12 ist dabei zwischen der zumindest einen Absorberschicht 11 und der zumindest einen Reflexionsschicht 14 angeordnet. Die Reflexionsschicht 14 ist hier auf den Strukturen 4 aufgebracht oder angeordnet, und kann insbesondere auf diese aufgedruckt und/oder aufge dampft werden.

Die zumindest eine Reflexions Schicht 14 kann zumindest ein metallisches Material, insbeson dere ausgewählt aus der Gruppe, Silber, Kupfer, Aluminium Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materia lien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder zumindest ein hochbrechendes dielektri sches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indi umoxid (ImOs), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta ₂ 0s), Ceroxid (Ce0 ₂ ), Yttri umoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe ₃ 0 ₄ ) and Eisen(III)oxid (Fe ₂ 0 ₃ ), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafni umoxid (Hf0 ₂ ), Lanthanoxid (La ₂ 0 ₃ ), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd ₂ 0 ₃ ), Prase odymoxid (Rig,Oi i ), Samariumoxid (Sr Os), Antimontrioxid (Sb ₂ 0 ₃ ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se ₂ 0 ₃ ), Zinnoxid (Sn0 ₂ ), Wolf- ramtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein. Dies gilt für alle in den Ausführungsbeispielen beschrieben Reflexionsschichten 14. Die Strukturen 4, welche den ersten Bereich 2 definieren, sind von dem zweiten Bereich 3 der optischen Effektschicht 7 abgedeckt. Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Ef fektschicht 7 umfasst hier die den Strukturen 4 zugewendete Reflexions Schicht 14, anschlie ßend die Distanzschicht 12 und wiederum die darüber befindliche Absorber Schicht 11. Durch das Anordnen oder Aufbringen der Reflexions Schicht 14 auf den Strukturen 4, kann diese die Raumform der Strukturen 4 bei Betrachtung wiedergeben. Die Reflexionsschicht 14 kann in direkter Weise oder aber auch unter Zwischenschaltung der eigenen Zwischenschicht 10 auf die Strukturen 4 aufgebracht und angeordnet werden.

Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewende ten Seite der äußeren Absorberschicht 11 die Schutzschicht 13 angedeutet. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Trägerschicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.

In der Fig. 6 ist ein weiteres mögliches Ausführungsbeispiel des Sicherheitselements 1 mit dessen optischen Effektschicht 7 gezeigt. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist ebenfalls mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt im Gegensatz zu den zuvor beschriebenen Ausführungsbeispielen durch die Strukturen 4 hindurch auf die optische Effektschicht 7.

Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 umfasst ausgehend von der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite hin in Richtung auf die Strukturen 4 zumindest die Reflexions Schicht 14, die Distanzschicht 12 und anschließend die Absorberschicht 11. Die den Strukturen 4 näherliegend befindliche Absorberschicht 11 ist auf den Strukturen 4 aufge bracht oder auf diesen angeordnet. Dies kann in direkter Weise oder aber auch unter Zwi schenschaltung der eigenen, zusätzlichen Zwischenschicht 10 erfolgen.

Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewende ten Seite der hier äußeren Reflexionsschicht 14 die Schutzschicht 13 angedeutet. Die Schutz schicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Träger schicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebil- det sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.

Die Fig. 7 zeigt nur einen möglichen Schichtaufbau der als Dünnschichtelement ausgebildeten optischen Effektschicht 7. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist ein ähnlicher Schichtaufbau der optischen Effektschicht 7 wie in der Fig. 5 gewählt.

Die optische Effektschicht 7 umfasst zumindest die Absorberschicht 11, die Distanzschicht 12, die Reflexionsschicht 14, eine weitere Distanzschicht 12 und schließlich eine weitere Ab sorberschicht 11. Die beiden Absorber schichten 11 sind auf voneinander abgewendeten Seiten der optische Effektschicht 7 angeordnet. Die Reflexions Schicht 14 ist ihrerseits zwischen den beiden Distanzschichten 12 angeordnet. Eine der beiden Absorber schichten 11 ist wiederum auf den Strukturen 4 angeordnet oder aufgebracht. Die Strukturen 4 sowie weitere mögliche Schichten oder Lagen sind der besseren Übersichtlichkeit halber nicht mehr näher dargestellt oder nur angedeutet, jedoch nachfolgend noch beschrieben.

Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage kann noch auf der von den Strukturen 4 abge wendeten Seite der äußeren Absorber Schicht 11 die Schutzschicht 13 angeordnet oder vorge sehen sein. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Die Strukturen 4 können entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.

Zur Verbindung der optischen Effektschicht 7 mit den Strukturen 4 kann auch wiederum die zuvor beschriebene Zwischenschicht 10 vorgesehen sein, welche in strichlierten Linien ange deutet ist. Mittels der hier dargestellten und als Dünnschichtelement ausgebildeten optischen Effektschicht 7 kann wiederum in Kombination mit den Strukturen 4 das Sicherheitselement 1 ausgebildet werden.

Die Ausführungsbeispiele zeigen mögliche Ausführungsvarianten, wobei an dieser Stelle be merkt sei, dass die Erfindung nicht auf die speziell dargestellten Ausführungsvarianten der selben eingeschränkt ist, sondern vielmehr auch diverse Kombinationen der einzelnen Aus- führungsvarianten untereinander möglich sind und diese Variationsmöglichkeit aufgrund der Lehre zum technischen Handeln durch gegenständliche Erfindung im Können des auf diesem technischen Gebiet tätigen Fachmannes liegt.

Der Schutzbereich ist durch die Ansprüche bestimmt. Die Beschreibung und die Zeichnungen sind jedoch zur Auslegung der Ansprüche heranzuziehen. Einzelmerkmale oder Merkmals kombinationen aus den gezeigten und beschriebenen unterschiedlichen Ausführungsbeispie len können für sich eigenständige erfinderische Lösungen darstellen. Die den eigenständigen erfinderischen Lösungen zugrundeliegende Aufgabe kann der Beschreibung entnommen wer den.

Sämtliche Angaben zu Wertebereichen in gegenständlicher Beschreibung sind so zu verste hen, dass diese beliebige und alle Teilbereiche daraus mitumfassen, z.B. ist die Angabe 1 bis 10 so zu verstehen, dass sämtliche Teilbereiche, ausgehend von der unteren Grenze 1 und der oberen Grenze 10 mit umfasst sind, d.h. sämtliche Teilbereiche beginnen mit einer unteren Grenze von 1 oder größer und enden bei einer oberen Grenze von 10 oder weniger, z.B. 1 bis 1,7, oder 3,2 bis 8,1, oder 5,5 bis 10.

Der Ordnung halber sei abschließend darauf hingewiesen, dass zum besseren Verständnis des Aufbaus Elemente teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert darge stellt wurden.

Bezugszeichenaufstellung Sicherheitselement erster Bereich zweiter Bereich Struktur Bildmotiv Lichtquelle optische Effektschicht Trägerschicht weitere Schicht Zwischenschicht Absorberschicht Distanzschicht Schutzschicht Reflexionsschicht