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Title:
リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びアテニュエータの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015513224
Kind Code:
A
Abstract:
露光装置、デバイス製造方法およびアテニュエータの製造方法が開示される。実施の形態によれば、露光装置は、個別に制御可能な複数の放射ビームを提供するように構成されるプログラマブルパターニングデバイスと、各放射ビームをターゲット上の個々の場所に投影するように構成される投影系と、放射ビームがターゲットに与えることのできる最大放射束または背景露光レベルについてのターゲット上の位置の関数としての標準偏差を低減するように構成されるアテニュエータと、を備える。【選択図】図１

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Inventors:
Hooks, Martinus
Breekel, Arno
Application Number:
JP2015502152A
Publication Date:
April 30, 2015
Filing Date:
February 05, 2013
Export Citation:
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Assignee:
AS M Netherlands B.V.
International Classes:
H01L21/027; G02B13/00; G03F7/20
Domestic Patent References:
JP2007156111A2007-06-21
JP2005236292A2005-09-02
JP2011529641A2011-12-08
Foreign References:
US20050008280A12005-01-13
WO2011104176A12011-09-01
US20050008280A12005-01-13
Attorney, Agent or Firm:
Sakaki Morishita
Takeshi Aoki



 
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