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Patent Searching and Data


Title:
高密度用ローカルインターコネクト構造
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016507909
Kind Code:
A
Abstract:
拡散方向のローカルインターコネクトを介して隣接するゲート層に結合されたゲート方向のローカルインターコネクトを含むローカルインターコネクト構造が提供される。

Inventors:
John Jiang Hongs
Giridar Narapatty
Pull Chidam Balam
Application Number:
JP2015559322A
Publication Date:
March 10, 2016
Filing Date:
March 11, 2014
Export Citation:
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Assignee:
Qualcomm, Inc.
International Classes:
H01L21/8234; H01L21/768; H01L21/8238; H01L27/08; H01L27/088; H01L27/092
Domestic Patent References:
JP2010074158A2010-04-02
JP2003243531A2003-08-29
JP2001127169A2001-05-11
JP2010212531A2010-09-24
JP2011228645A2011-11-10
JP2008118004A2008-05-22
JP2009267094A2009-11-12
JP2010074158A2010-04-02
JP2003243531A2003-08-29
JP2001127169A2001-05-11
JP2010212531A2010-09-24
JP2011228645A2011-11-10
JP2008118004A2008-05-22
JP2009267094A2009-11-12
Foreign References:
US4570176A1986-02-11
US4570176A1986-02-11
Attorney, Agent or Firm:
Yasuhiko Murayama
Kuroda Shinpei