Title:
低刺激性抗菌清浄組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016508961
Kind Code:
A
Abstract:
清浄組成物であって、(i)アルキルグリシネート、アルキルカルボキシグリシネート、サルコシネート、グルタメートまたはその混合物である非石鹸界面活性剤と、(ii)1つ以上の抗微生物剤とを含み、前記組成物のpHが少なくとも8.5であり、前記組成物のゼイン数が10から65の範囲にあり、前記組成物の石鹸含有率が5重量%以下である、清浄組成物を開示する。前記処方物は高アルカリ性であるが、低刺激性の抗菌清浄作用を与える。
Inventors:
Gupta, Shiashiyanku, Narendra
Kumar, Nitishyu
Ricard, Gagarin, Wamanrao
Raguhabachiyari, Rajyan
Sands Gili, Bib Hab, Ramlao
Kumar, Nitishyu
Ricard, Gagarin, Wamanrao
Raguhabachiyari, Rajyan
Sands Gili, Bib Hab, Ramlao
Application Number:
JP2015544407A
Publication Date:
March 24, 2016
Filing Date:
November 13, 2013
Export Citation:
Assignee:
Unilever Namrose Rose Bennaught Sharp
International Classes:
A61K8/44; A01N31/04; A01N31/08; A01P3/00; A61K8/34; A61K8/41; A61K9/08; A61K31/045; A61K31/05; A61K47/18; A61P31/04; A61Q19/10; C11D1/10; C11D1/88; C11D3/20; C11D3/48
Domestic Patent References:
JP2008063499A | 2008-03-21 | |||
JPH10500962A | 1998-01-27 | |||
JP2012505851A | 2012-03-08 | |||
JP2005193972A | 2005-07-21 | |||
JP2000096096A | 2000-04-04 | |||
JPH04130199A | 1992-05-01 | |||
JP2007332355A | 2007-12-27 | |||
JP2000096091A | 2000-04-04 |
Foreign References:
WO2011138179A2 | 2011-11-10 | |||
US5529723A | 1996-06-25 | |||
WO2012022614A2 | 2012-02-23 |
Attorney, Agent or Firm:
Makoto Ono
Kenkyo Kanayama
Mitsuaki Tsubokura
Kazuki Shigemori
Kenji Ando
Takahiro Aoki
Yoshikazu Iwase
Yasufumi Shiroyama
Kenkyo Kanayama
Mitsuaki Tsubokura
Kazuki Shigemori
Kenji Ando
Takahiro Aoki
Yoshikazu Iwase
Yasufumi Shiroyama