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Title:
ナノチューブを堆積するための装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017520675
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は例えばナノチューブ又はグラフェン形態の層である炭素質構造を、プロセスチャンバハウジング19内に配置された基板キャリア1により支持された基板6上に堆積するための装置に関し、プロセスチャンバハウジング19に配置されたガス入口部材24,25のガス送出孔39を通してプロセスガスを少なくとも1つの基板6の方向に供給可能である。機能的に有利な変更として本発明では、プロセスチャンバハウジング19が保持凹部34,35,36,37,38を具備する2つの対向する壁48,48'を有する。少なくとも1つの板状部材24,25,26,30,31がプロセスチャンバハウジング19内に配置され、それらの板状部材は2つの互いに反対側の縁部を具備し、各々が2つの壁48,48'の保持凹部34〜38に挿入される。【選択図】図1

Inventors:
Joe Bray, Alexandre
Rippton, David Eric
Theo, Kenneth Bee Kay
Loupe Singhe, Narin El
Application Number:
JP2016558373A
Publication Date:
July 27, 2017
Filing Date:
March 19, 2015
Export Citation:
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Assignee:
Ixtron, S.E.
International Classes:
C23C16/44; C01B32/152; C01B32/158; C23C16/26
Domestic Patent References:
JP2012036022A2012-02-23
JP2005126257A2005-05-19
JP2014011178A2014-01-20
JP2013100205A2013-05-23
JPH09326366A1997-12-16
Foreign References:
KR20130098664A2013-09-05
WO2013161819A12013-10-31
Attorney, Agent or Firm:
Takashiro Kojima
Noriko Kawai