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Title:
フェノールからのシクロヘキサノンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018501301
Kind Code:
A
Abstract:
フェノール水素化反応器中でフェノールを水素化させること;少なくとも4つの蒸留セクションを含んでなる分離および精製セクション[II]において、水素化された生成物ストリームからシクロヘキサノンを分離することを含んでなる、フェノールおよび水素からのシクロヘキサノンの製造および回収のための工業規模の連続方法であって、フェノール水素化反応セクション[I]において生じた反応熱の少なくともいくらかが、蒸気の製造のために適用され;かつ上記フェノール水素化反応器に装填される(フェノールに対する)シクロヘキサノンのモル比が、0.02〜0.10であり;かつ/または上記フェノール水素化反応器に装填される(フェノールに対する)シクロヘキサノールのモル比が、0.001〜0.10である、方法。

Inventors:
ブランズ,ルーラント ヴィルヘルムス テオドルス マリア
ダゲネット,コリンヌ
デ コルテ,ロベルト ヤン
ティンヘ,ヨハン トーマス
マルテンス,ヴィルヘルムス ルドルフ マリア
フェルスフーレン,イーリス
Application Number:
JP2017543886A
Publication Date:
January 18, 2018
Filing Date:
November 06, 2015
Export Citation:
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Assignee:
セーアーペー ドリー ベスローテン ヴェンノーツハップ
CAP III B.V.
International Classes:
C07C45/82; B01J27/25; C07C45/29; C07C49/403
Foreign References:
US20110028763A12011-02-03
WO2014163080A12014-10-09
Other References:
DIMIAN, ALEXANDRE C., ET AL., CHEMICAL PROCESS DESIGN: COMPUTER-AIDED CASE STUDIES, JPN6017038808, 2008, pages 129-172
Attorney, Agent or Firm:
山口 健次郎
長山 弘典
尾崎 祐朗
森田 憲一