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Title:
リソグラフィ装置の光学素子の位置測定
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2019517034
Kind Code:
A
Abstract:
本発明の一実施形態によれば、複数の光学素子（５０５〜５３５；６０５〜６４０）を含む投影系（ＰＳ）を備え、複数の光学素子（５０５〜５３５；６０５〜６４０）は、放射線ビーム（Ｂ、２６）を放射線感光基板（Ｗ）に投影するよう構成されるリソグラフィ装置が提供される。リソグラフィ装置は、光学素子（５０５〜５３５；６０５〜６４０）のうち少なくとも１つの位置及び／又は姿勢を測定する１つ又は複数の光学素子測定システムの一部（５４０〜５７０；６６０〜６９５）を含むメトロロジフレーム構造体（５００；６００）も備える。複数の光学素子（５０５〜５３５；６０５〜６４０）、パターニングデバイスステージ（ＭＴ）、及び基板ステージ（ＷＴ）が、投影系（ＰＳ）の２次元図で複数の光学素子（５０５〜５３５；６０５〜６４０）、パターニングデバイスステージ（ＭＴ）、及び基板ステージ（ＷＴ）を囲むような矩形（ＯＲＥ）が規定されるように配置される。矩形（ＯＲＥ）はさらに、できる限り小さく規定され、メトロロジフレーム構造体（５００；６００）は、矩形（ＯＲＥ）内に位置決めされる。

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Inventors:
Eric Rope Stra
Engelbertas Antonius Franciscus Van der Patch
The Shabridistel
Susanne Cosidine
Application Number:
JP2018561664A
Publication Date:
June 20, 2019
Filing Date:
May 24, 2017
Export Citation:
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Assignee:
Carl Zeiss SGM Gaehha
International Classes:
G03F7/20; G02B7/00
Domestic Patent References:
JP2011530820A2011-12-22
JP2014526792A2014-10-06
JP2012504328A2012-02-16
JP2015519753A2015-07-09
JP2005101593A2005-04-14
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Sugimura
Mitsutsugu Sugimura
Miyata Kousuke



 
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