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Title:
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024024684
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】位相シフト膜がＩｒを主成分として含む場合に、位相シフト膜と保護膜のエッチング選択比を向上する、技術を提供すること。【解決手段】反射型マスクブランクは、基板と、ＥＵＶ光を反射する多層反射膜と、前記多層反射膜を保護する保護膜と、前記ＥＵＶ光の位相をシフトさせる位相シフト膜と、をこの順で有する。前記位相シフト膜はＩｒを主成分とするＩｒ系材料からなり、前記保護膜はＲｈを主成分とするＲｈ系材料からなる。【選択図】図１

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Inventors:
Yuya Nagata
Daijiro Akagi
Kenichi Sasaki
Hiroaki Iwaoka
Application Number:
JP2023220380A
Publication Date:
February 22, 2024
Filing Date:
December 27, 2023
Export Citation:
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Assignee:
AGC Inc.
International Classes:
G03F1/24; G03F1/32; G03F1/54; G03F1/80
Attorney, Agent or Firm:
Tadashige Ito
Tadahiko Ito



 
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