Title:
原子層堆積に依る薄膜形成設備
Document Type and Number:
Japanese Patent JP3222682
Kind Code:
U
Abstract:
【課題】基板特性を確実に維持して変質せず、基板伝送の安定性と正確性を向上させ、更に反応エリアを区切って加熱作業を行う原子層堆積に依る薄膜形成設備を提供する。【解決手段】固定フレーム１１、少なくとも一気体供給モジュール１２、移載モジュール１３、複数の加熱チャンバ１４及び制御モジュール１５を有する。気体供給モジュールは、複数の支持枠、支持枠に対応設置する複数のネジ杆１２２及びネジ杆上に対応設置する薄膜コーティング部品１２３を有する。薄膜コーティング部品は、複数本の第一給気管、複数本の第二給気管及び排気管を有する。移載モジュールは固定フレームと気体供給モジュールの間に設置し、複数の穿孔を備えるベルトコンベア１３１及びベルトコンベアに連結する駆動部品１３２を有する。複数の加熱チャンバはベルトコンベアの該気体供給モジュールに相対する別側に設置し、各加熱チャンバは内部に納置空間を備えるチャンバ１４１、納置空間に納置する複数の加熱管部品を有する。【選択図】図１
Inventors:
Literary life
Application Number:
JP2019002056U
Publication Date:
August 15, 2019
Filing Date:
June 07, 2019
Export Citation:
Assignee:
Position Speed Science and Technology Co., Ltd.
International Classes:
C23C14/00; C23C14/56
Attorney, Agent or Firm:
Murai Koji
Yasuhiro Kawabun
Yasuhiro Kawabun