基板の特定の場所に蒸着するための転写マスク及び当該転写マスクを製造するための方法 - フオン・アルデンネ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング

Title:

基板の特定の場所に蒸着するための転写マスク及び当該転写マスクを製造するための方法

Document Type and Number:

Japanese Patent JP5685350

Kind Code:

B2

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Inventors:

ブルクハルト・マルクス
グロス・ヘラルド

Application Number:

JP2014530145A

Publication Date:

March 18, 2015

Filing Date:

August 29, 2012

Export Citation:

Assignee:

フオン・アルデンネ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング

International Classes:

C23C14/04; C23C14/24; H01L51/50; H05B33/10

Attorney, Agent or Firm:

Mitsufumi Ezaki
Minoru Kajisawa
Junji Shinohara
Kiyota 栄章

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