Title:
光配向処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5734494
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】装置の設置面積を縮小しつつ、タクトタイムをさらに短縮させることにより、スループットを向上させた光配向処理装置を提供する。【解決手段】本発明は、基板Ｓに形成されている配向膜に紫外線を照射することにより、配向膜を配向処理する光配向処理装置１に関する。光配向処理装置は、基板を支持する複数の基板支持体７と、それぞれの基板支持体を同一の走行経路ＲＲに沿って走行させる走行機構５と、走行経路に沿って走行する基板支持体によって支持されている基板に対して紫外線を照射する紫外線照射装置９と、走行している基板支持体同士が衝突しないように、基板支持体を前記走行経路から退避させる退避機構１１と、を備える。【選択図】図１
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Inventors:
Kiyoshi Mizunotani
Shinichiro Uno
Takahiro Fukunaga
Shinichiro Uno
Takahiro Fukunaga
Application Number:
JP2014111714A
Publication Date:
June 17, 2015
Filing Date:
May 29, 2014
Export Citation:
Assignee:
Iinuma Gauge Manufacturing Co., Ltd.
International Classes:
G02F1/1337; B65G49/06; G02F1/13; H01L21/677
Domestic Patent References:
| JP5344105B1 | 2013-11-20 | |||
| JP2012173693A | 2012-09-10 | |||
| JP2013088600A | 2013-05-13 |
Attorney, Agent or Firm:
Atsushi Aoki
Tetsuro Shimada
Shinji Mitsuhashi
Takuya Shinoda
Yoryo Mihashi
Koichi Ito
Tetsuro Shimada
Shinji Mitsuhashi
Takuya Shinoda
Yoryo Mihashi
Koichi Ito