Title:
処理チャンバの圧力制御方法及び処理チャンバの圧力制御装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6375486
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】処理チャンバ内のガスの圧力を目標値に調整する。【解決手段】必要な必要流入量（Ｑｉ）をＱｉ＝Ｑｏ＋（ΔＰ／Δｔ）Ｖに基き算出し処理チャンバ２内に流入させる。処理チャンバ２からの現在の予測流出量（Ｑｏ（ｎ））を、吸引ポンプ３内の現在の圧力（Ｐ2）と吸引ポンプ３の固有の吸引量（Ｓｐ＝ｆ1（Ｐ2））からＱｏ（ｎ）＝Ｐ2＊ｆ1（Ｐ2）に基き算出する際に、吸引ポンプ３内の現在の圧力（Ｐ2）を、開閉プレートの現開閉度（θ）におけるバルブ４の固有のコンダクタンス（Ｃｖ＝ｆ2（θ））に、測定された処理チャンバ２内の現在の圧力（Ｐ1）と開閉プレートの現開閉度（θ）における固有のコンダクタンス（Ｃｖ＝ｆ2（θ））における規定上の処理チャンバ２内の圧力（Ｐ）との誤差を加味して算出された正確なコンダクタンス（Ｃｖ（θ，Ｐ）＝ｆ2（θ，Ｐ））からＰ2＝Ｐ1−（Ｑｏ（ｎ−１）／ｆ2（θ，Ｐ））により算出する。【選択図】図２
Inventors:
Buyers emmanuel
Kimura Mie
Kimura Mie
Application Number:
JP2017186319A
Publication Date:
August 22, 2018
Filing Date:
September 27, 2017
Export Citation:
Assignee:
Inovita Pte Ltd
International Classes:
G05D16/20
Domestic Patent References:
| JP5854335B2 | ||||
| JP2010282243A | ||||
| JP2002510083A |
Foreign References:
| US6022483 |
Attorney, Agent or Firm:
Shinichi Kikuchi
Toru Kikuchi
Hidetoshi Matsumoto
Toru Kikuchi
Hidetoshi Matsumoto