Title:
イソキサゾール誘導体及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2003076419
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、下記一般式（１）（式中、Ｒ１は水素原子、Ｃ１〜Ｃ２０炭化水素基又は−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ１ａ（式中、Ｒ１ａはＣ１〜Ｃ１０アルキル基など）；Ｒ２及びＲ３は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基又はＣ６〜Ｃ２０アリール基など；Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、Ｃ１〜Ｃ２０炭化水素基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アシル基又は５〜７員環の複素環基など；Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ２０炭化水素基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基又は５〜７員環の複素環基など；そして、ｎは０，１，２，３又は４を示す）で示されるイソキサゾール誘導体及びその製造方法を提供する。この化合物は、イソキサゾール骨格を有する医薬化合物、農薬化合物、染料化合物等を合成するための中間体として有用である。
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Inventors:
鈴木 啓介
ボデ ジェフリー ダブリュ．
ボデ ジェフリー ダブリュ．
Application Number:
JP2003574638A
Publication Date:
July 07, 2005
Filing Date:
December 26, 2002
Export Citation:
Assignee:
独立行政法人科学技術振興機構
International Classes:
C07D261/20; C07D413/10
Domestic Patent References:
| JPH04230673A | 1992-08-19 | |||
| JPH04312578A | 1992-11-04 | |||
| JPH0324085A | 1991-02-01 |
Foreign References:
| GB2284600A | 1995-06-14 |
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