Title:
位置検出方法、露光方法、位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2005045364
Kind Code:
A1
Abstract:
パラメータの自由度が小さいモデルＭ’のＡＩＣ（Ｍ’）と、パラメータの自由度が大きいモデルＭのＡＩＣ（Ｍ）との小さい方をＥＧＡのモデルとして選択する（ステップ５０２）。モデルＭが選択され、その残差が所定値以上である場合には、モデルＭよりもパラメータ自由度が大きいすべての係数がパラメータであるモデルが選択される。有効サンプル数が、このモデルでのパラメータ自由度よりも小さい場合には、有効サンプル数を増やし、さらにサンプルショットを追加計測する。今回選択されたモデルの係数を、次回のウエハアライメントの際の事前知識に反映する（ステップ５２４）とともに、今回のモデルのパラメータの自由度に応じて、有効サンプル数を増減させる（ステップ５０８又はステップ５１８）。
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Inventors:
中島 伸一
Application Number:
JP2005515316A
Publication Date:
May 17, 2007
Filing Date:
November 05, 2004
Export Citation:
Assignee:
株式会社ニコン
International Classes:
H01L21/027; G01B11/00; G03F9/00
Domestic Patent References:
| JPH05114545A | 1993-05-07 | |||
| JP2002324756A | 2002-11-08 | |||
| JPS6284516A | 1987-04-18 |