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Patent Searching and Data


Title:
金属化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2005063685
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明の金属化合物は、下記一般式(I)で表されるもので、融点が低く液体の状態で輸送が可能であり且つ蒸気圧が大きく気化させやすく、しかも他の金属化合物と混合しても配位子交換や化学反応により変質せず、金属化合物を気化させて薄膜を形成するCVD法等の薄膜製造方法に用いられる原料に適している。

Inventors:
桜井 淳
山田 直樹
Application Number:
JP2005516552A
Publication Date:
July 19, 2007
Filing Date:
November 09, 2004
Export Citation:
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Assignee:
株式会社ADEKA
International Classes:
C07C215/08; C07F7/00; C23C16/18; C23C16/40; H01L21/316
Domestic Patent References:
JP2000351784A2000-12-19
Foreign References:
WO2003040150A12003-05-15
Other References:
JPN6010058358, Z.ANORG.ALLG.CHEM., 1974, 403(3), p.337−346
Attorney, Agent or Firm:
羽鳥 修