プラズマ耐食性に優れた石英ガラス及びその製造方法

Japanese Patent JPWO2006038349

A1

半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料として、プラズマ耐食性、特にＦ系プラズマガスに対する耐食性に優れ、シリコンウエーファにも異常を与えないで使用可能な石英ガラス及び石英ガラス治具並びにそれらの製造方法を提供する。２種類以上の金属元素を併せて０．１〜２０ｗｔ％含有する石英ガラスであって、該金属元素が周期律表第３Ｂ族から選ばれた少なくとも１種類である第１の金属元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選ばれた少なくとも１種類である第２の金属元素からなり、第２の金属元素の個々の最大濃度が、２．０ｗｔ％以下であるようにした。

JPS5852933	[Title of the Invention] A manufacturing process of an optical transmission way
JPS62256739	GLASS
JP2016069679	VAPOR DEPOSITION MATERIAL FOR THIN FILM FORMATION AND OPTICAL THIN FILM

Tatsuhiro Sato
Yoshimasa Yoshimasa
Endo Mamoru

JP2006539156A

May 15, 2008

June 09, 2005

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Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd.

C03C3/06; C03B19/01; C03B19/06; C03B19/09; C03B19/14; C03B20/00; C03C3/076; C03C3/078; C03C3/083; C03C3/085; C03C3/087; C03C3/089; C03C3/091; C03C3/093; C03C3/095

Shoji Ishihara

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