Title:
ＩＴＯスパッタリングターゲット
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2012066810
Kind Code:
A1
Abstract:
複数のＩＴＯ分割ターゲットをバッキングプレート上に配列し、該バッキングプレートに接合して構成されるＩＴＯスパッタリングターゲットであって、配列したＩＴＯ分割ターゲット間のクリアランス側の側面にのみ、インジウム、インジウム合金又は錫合金から選択された１の物質の被覆層を有するＩＴＯスパッタリングターゲット。分割ＩＴＯターゲットの連続スパッタ時においても、ノジュールの発生や異常放電を抑制することができるとともに、クリアランス部分に対向した基板上に形成される膜の特性が他の部分の膜の特性と差異がない、すなわち膜特性の均一性の高い膜が得られるＩＴＯスパッタリングターゲット、特にＦＰＤ用スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。【選択図】図１
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Inventors:
Takashi Kakeno
Suzuki Ryo
Toshiya Kurihara
Yuichiro Nakamura
Kazuhiro Seki
Shuji Makino
Kumabara Yoshikazu
Suzuki Ryo
Toshiya Kurihara
Yuichiro Nakamura
Kazuhiro Seki
Shuji Makino
Kumabara Yoshikazu
Application Number:
JP2011541417A
Publication Date:
May 12, 2014
Filing Date:
June 09, 2011
Export Citation:
Assignee:
jx Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
International Classes:
C23C14/34
Attorney, Agent or Firm:
Isamu Ogoshi