Title:
ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、ガス分離方法及びポリイミド化合物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018043149
Kind Code:
A1
Abstract:
高圧条件下の使用においてもガス透過性とガス分離選択性の両立を十分なレベルで実現し、可塑化耐性にも優れたガス分離膜、このガス分離膜を用いたガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法を提供する。上記ガス分離膜のガス分離層の原料として好適なポリイミド化合物を提供する。ガス分離膜は、ポリイミド化合物を含むガス分離層を有し、ポリイミド化合物が式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含む。ガス分離モジュール、ガス分離装置及びガス分離方法は上記ガス分離膜を用いる。Ｒａは特定の４価の基を示し、Ｒｂは特定の環を有する３価の基を示す。Ｘａは特定の置換基を示し、Ｘｂは水素原子又は置換基を示す。式（１−ｂ）又は（１−ｃ）で表されるポリイミド化合物。Ｒａは特定の４価の基を示し、Ｒｃは特定の２価の基を示す。Ａａ、Ａｂ、Ａｃ及びＸｂは水素原子又は置換基を示し、Ｘｃ及びＸｄは特定の置換基を示す。
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Inventors:
Mao Senoo
Satoshi Kitamura
Masatoshi Yumoto
Harada Moto
Satoshi Kitamura
Masatoshi Yumoto
Harada Moto
Application Number:
JP2018537123A
Publication Date:
March 28, 2019
Filing Date:
August 17, 2017
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
B01D71/64; B01D53/22; B01D69/02; B01D69/10; B01D69/12; C08G73/10
Attorney, Agent or Firm:
Patent corporation Iida and Partners
Toshizo Iida
Shuichi Akabane
Toshizo Iida
Shuichi Akabane