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Title:
光触媒転写フィルム及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2019198484
Kind Code:
A1
Abstract:
様々な転写基材表面に、均一で透明性が高く、かつ暗所での抗菌性を示す光触媒層を転写加工することができる光触媒転写フィルム及びその製造方法の提供。ベースフィルム上に、酸化チタン粒子を含む光触媒、抗菌性金属を含有する合金粒子、ケイ素化合物及び界面活性剤を含有する光触媒層を有する、光触媒転写フィルム。酸化チタン粒子を含む光触媒、抗菌性金属を含有する合金粒子、ケイ素化合物、界面活性剤及び水性分散媒を含む光触媒塗工液を、ベースフィルム上に塗布し、乾燥することを特徴とする光触媒転写フィルムの製造方法。

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Inventors:
Masahiro Yuyama
Furudate study
Tomohiro Inoue
Application Number:
JP2020513169A
Publication Date:
February 12, 2021
Filing Date:
March 26, 2019
Export Citation:
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Assignee:
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
International Classes:
B01J23/66; B01J23/89; B01J35/02; B01J37/02; C08J7/043; C08J7/056
Domestic Patent References:
JP2005060444A2005-03-10
JP2001260597A2001-09-25
JP2005212446A2005-08-11
JP2013099919A2013-05-23
JP2010247450A2010-11-04
JP2004183030A2004-07-02
JP2013032474A2013-02-14
JP2015057491A2015-03-26
JP2009120767A2009-06-04
JP2017061667A2017-03-30
Foreign References:
WO2018012240A12018-01-18
Attorney, Agent or Firm:
Ushiki International Patent Office



 
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