カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

Japanese Patent JP2024015995

A

【課題】良好なＣＤ均一性を有するレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。TIFF2024015995000196.tif46166［式中、ＸはＳ又はＩ；ｍ１０は０又は１；Ｒ１－Ｒ３及びＲ1１は其々－Ｌ３－ＣＲｆ１Ｒｆ２－Ｏ－Ｒ１０；Ｌ３は単結合等；Ｒｆ１及びＲｆ２はＦ、フッ素化アルキル基等；Ｒ１０はＨ又は酸不安定基；Ｒ４－Ｒ９及びＲ1４は其々ハロゲン原子、ハロアルキル基等；Ａ１－Ａ３は其々炭化水素基；Ａｒ１－Ａｒ３及びＡｒ1１は其々芳香族炭化水素基等を表す。］【選択図】なし

Katsuhiro Komuro
Saki Kato
Koji Ichikawa

JP2023118262A

February 06, 2024

July 20, 2023

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Sumitomo Chemical Co., Ltd.

G03F7/004; C07C69/82; C09K3/00; G03F7/038; G03F7/039; G03F7/20

Patent Attorney Corporation Shinju Global IP

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