Title:
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024015994
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】良好なパターン倒れ耐性を有するレジストパターンを製造することができる塩、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。TIFF2024015994000170.tif29162［式中、Ｑ１及びＱ２は其々水素原子、フッ素原子等を表す。Ｒ１及びＲ２は其々水素原子、フッ素原子、ペルフルオロアルキル基等を表す。ｚは０～６の整数を表す。Ｘ１及びＸ２は其々＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－等を表す。Ｌ１及びＬ２は其々単結合又は脂肪族炭化水素基を表す。Ｌ３は飽和炭化水素基を表す。Ａ１は、置換基を有してもよい環状炭化水素基を表す。ｍ１１及びｍ２は其々１～３の整数を表す。Ｒ３は水素原子又は酸不安定基を表す。Ｒｆ１はフッ素原子又はフッ素化アルキル基を表す。Ｒｆ２は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基を表す。Ｚ＋は有機カチオンを表す。］【選択図】なし
More Like This:
Inventors:
Katsuhiro Komuro
Ryoken Aono
Koji Ichikawa
Ryoken Aono
Koji Ichikawa
Application Number:
JP2023118243A
Publication Date:
February 06, 2024
Filing Date:
July 20, 2023
Export Citation:
Assignee:
Sumitomo Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/004; C09K3/00; G03F7/038; G03F7/039; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Shinju Global IP