Title:
有機被膜剥離剤、該剥離剤を用いた有機被膜の除去方法および除去装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2006132008
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、（１）フォトレジスト被膜の除去に有用な、γ−ブチロラクトンを２０重量％以上含有する有機被膜の剥離剤、（２）前記剥離剤を用いてフォトレジスト被膜を除去するのに有用な、表面に有機被膜を有する基体に、有機被膜剥離剤を接触させて、前記有機被膜を除去する有機被膜の除去方法、及び、（３）Ａ．剥離剤の新液を貯蔵する貯槽と、Ｂ．剥離剤の新液を導入しかつ処理後の剥離剤を導入する混合剥離剤貯槽と、Ｃ．混合剥離剤貯槽手段から剥離剤を接触槽に供給する手段と、Ｄ．有機被膜を有する基体を収容する基体ホルダーと、Ｅ．基体ホルダーから有機被膜を有する基体を取り出して接触槽に導入し、接触槽内において、基体の有機被膜を有する表面に剥離剤を接触させて、有機被膜を剥離剤に溶解させて、有機被膜を基体表面から除去し、有機被膜が除去された基体を接触槽から引き上げる手段と、Ｆ．有機被膜を溶解する剥離剤を接触槽から排出する手段と、Ｇ．接触槽から排出された剥離剤を循環させて混合剥離剤貯槽に戻す手段と、を有する、有機被膜を有する基体表面の有機被膜の除去装置、を開示する。
Inventors:
Harada Katsuka
Tomohisa Iinuma
Hiroshi Nizuma
Tomohisa Iinuma
Hiroshi Nizuma
Application Number:
JP2007520027A
Publication Date:
January 08, 2009
Filing Date:
February 21, 2006
Export Citation:
Assignee:
Toagosei Co., Ltd.
International Classes:
C09D9/00; C11D3/43; C11D7/50; G03F7/42; H01L21/027; H01L21/304