ポリオキシメチレン及びその製造方法

Title:

ポリオキシメチレン及びその製造方法

Document Type and Number:

Japanese Patent JPWO2020054730

Kind Code:

A1

Abstract:

ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を標準物質としてゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定して得られた分子量分布における分子量１０，０００以下の低分子量成分の比率が、全体の７．０％以下であることを特徴とする、ポリオキシメチレン。

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Inventors:

Chitoyo Suemitsu
Mizomoto Won Gyun
Kenji Ehara
Tatsuya Suzuki

Application Number:

JP2020546040A

Publication Date:

May 13, 2021

Filing Date:

September 10, 2019

Export Citation:

Assignee:

ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA

International Classes:

C08G2/10

Domestic Patent References:

Foreign References:

Attorney, Agent or Firm:

Kenji Sugimura
Mitsutsugu Sugimura
Koichiro God

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