Title:
ポリシリコンライナー
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022523171
Kind Code:
A
Abstract:
本開示の態様は、酸化ケイ素を含む下層を基板の上方に堆積させることと、ポリシリコンライナーを下層上に堆積させることと、アモルファスシリコン層をポリシリコンライナー上に堆積させることと、を含む方法を提供する。本開示の態様は、基板と、基板の上方に形成された酸化ケイ素を含む下層と、下層上に配置されたポリシリコンライナーと、ポリシリコンライナー上に配置されたアモルファスシリコン層と、を含むデバイス中間体を提供する。【選択図】図１
Inventors:
Nittara, Krishna
Chen, Louis
Jana Kiraman, Curtic
Ja, Plaquet Prakash
Kuo, Chinrui
Liang, Chinmei
Chen, Louis
Jana Kiraman, Curtic
Ja, Plaquet Prakash
Kuo, Chinrui
Liang, Chinmei
Application Number:
JP2021547411A
Publication Date:
April 21, 2022
Filing Date:
February 19, 2020
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
H01L21/205; C23C16/24; H01L21/20
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda/Kobayashi Patent Business Corporation