Title:
投射装置、投射システム、及び、投射システム付き建造物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020013335
Kind Code:
A1
Abstract:
投射装置（１０）は、建造物（ＳＴ）または自然（ＮＴ）に光を投射して被投射領域（ＬＰ）を照明する。投射装置は、コヒーレント光源（２０）と、コヒーレント光源から射出した光を回折する回折光学素子（４０）と、を有する。
Inventors:
Nakatsugawa Naori
Kurashige Makio
Shunpei Nishio
Toshiyuki Nakai
Hatori Shigeki
Mikiko Hojo
Kazutoshi Ishida
Kurashige Makio
Shunpei Nishio
Toshiyuki Nakai
Hatori Shigeki
Mikiko Hojo
Kazutoshi Ishida
Application Number:
JP2020530287A
Publication Date:
August 12, 2021
Filing Date:
July 12, 2019
Export Citation:
Assignee:
Dai Nippon Printing Co.,Ltd.
International Classes:
F21S2/00; F21V9/00; G02B5/18; G02B5/22; G02B26/10; H01S5/02255; H01S5/0239
Domestic Patent References:
| JP2016075857A | 2016-05-12 | |||
| JP2008145669A | 2008-06-26 | |||
| JP2016110808A | 2016-06-20 | |||
| JP3141819U | 2008-05-22 | |||
| JP2012243393A | 2012-12-10 |
Foreign References:
| WO2018092834A1 | 2018-05-24 | |||
| WO2016072505A1 | 2016-05-12 |
Attorney, Agent or Firm:
Yukitaka Nakamura
Satoru Asakura
Yukihiro Hotta
Satoru Asakura
Yukihiro Hotta