Title:
マスクブランクス用基板及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024002066
Kind Code:
A
Abstract:
【解決手段】１５２ｍｍ×１５２ｍｍ角の第一及び第二主表面の２つの主表面を有し、厚さが６．３５ｍｍであり、第一及び第二主表面の各々において、対角線の交点を中心とする１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角の範囲を算出領域としたとき、第一及び第二主表面の少なくとも一方の算出領域の基板表面において、算出領域の基板表面の最小二乗平面を基準とした平坦度が１００ｎｍ以下であり、かつガウシアンフィルタ（１０ｍｍ×１０ｍｍ）による平滑化処理の前の基板表面の形状と、平滑化処理の後の形状との差分で表される算出面の、最小二乗平面を基準とした、高さの最高値と最低値との差（ＰＶ）が２０ｎｍ以下であるマスクブランクス用基板。【効果】露光用マスクを用いた露光、特に、ＥＵＶＬによる露光において、露光用マスクを露光装置で波面補正したとき、基板の主表面が、高平坦な形状となる露光用マスクを与えることができる。【選択図】なし
Inventors:
Tomoharu Sugiyama
Daimi Harada
Harunobu Matsui
Naoki Yarida
Masaki Takeuchi
Daimi Harada
Harunobu Matsui
Naoki Yarida
Masaki Takeuchi
Application Number:
JP2022101038A
Publication Date:
January 11, 2024
Filing Date:
June 23, 2022
Export Citation:
Assignee:
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F1/60
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Eimei International Patent Office
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