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Title:
ANISOTROPIC ELECTROCONDUCTIVE FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING CONNECTION STRUCTURE USING THE SAME
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/028241
Kind Code:
A1
Abstract:
This invention provides an anisotropic electroconductive film, which can realize a high level of connection reliability, and a process for producing a connection structure using the anisotropic electroconductive film. An anisotropic electroconductive film (2) having a lowest melt viscosity of 300 to 1000 Pa•s, comprising electroconductive particles dispersed in an insulating adhesive resin produced by mixing polybutadiene particles, a cation polymerizable resin, and a cation curing agent together is disposed on a terminal electrode in a glass substrate (1). A terminal electrode in a flexible printed board (3) is disposed on the anisotropic electroconductive film (2). The assembly is pressed with a heating tool from the flexible printed board side to electrically connect the terminal electrodes to each other.

Inventors:
SATO DAISUKE (JP)
OZEKI HIROKI (JP)
ISHIMATSU TOMOYUKI (JP)
Application Number:
PCT/JP2008/059187
Publication Date:
March 05, 2009
Filing Date:
May 20, 2008
Export Citation:
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Assignee:
SONY CHEM & INF DEVICE CORP (JP)
SATO DAISUKE (JP)
OZEKI HIROKI (JP)
ISHIMATSU TOMOYUKI (JP)
International Classes:
C09J7/00; H01R11/01; C09J9/02; C09J11/08; C09J163/02; C09J171/08; H01B5/16; H01R43/00
Domestic Patent References:
WO2007125993A12007-11-08
WO2007123003A12007-11-01
Foreign References:
JPH11345517A1999-12-14
JP2007204652A2007-08-16
JP2004241489A2004-08-26
JP2006328359A2006-12-07
JP2001266669A2001-09-28
JP2001267369A2001-09-28
JP2007217503A2007-08-30
JP2005194413A2005-07-21
JP2006127956A2006-05-18
JP2007080522A2007-03-29
JP2005056736A2005-03-03
Attorney, Agent or Firm:
KOIKE, Akira et al. (Yamato Seimei Bldg.1-7, Uchisaiwai-cho 1-chome,Chiyoda-k, Tokyo 11, JP)
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Claims:
1.ポリブタジエン粒子と、カチオン重合性樹脂と、カチオン硬化剤とを配合した絶縁性接着樹脂に導電性粒子が分散されてなり、最低溶融粘度が300~1000Pa・sであることを特徴とする異方性導電フィルム。
2.上記最低溶融粘度が90~110℃で到達することを特徴とする請求の範囲第1項記載の異方性導電フィルム。
3.上記ポリブタジエン粒子が、上記カチオン重合樹脂70重量部に対して5~35重量部配合されていることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項いずれか1項記載の異方性導電フィルム。
4.上記ポリブタジエン粒子の弾性率が、1×10 8 ~1×10 10 dyn/cm 2 であることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項いずれか1項記載の異方性導電フィルム。
5.上記ポリブタジエン粒子の平均粒径が、0.01~0.5μmであることを特徴とする請求の範囲第1項記載の異方性導電フィルム。
6.上記カチオン重合性樹脂が、フェノキシ樹脂とエポキシ重合性樹脂とを混合したものであり、上記フェノキシ樹脂の分子量が、20000~60000であることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第5項いずれか1項記載の異方性導電フィルム。
7.上記エポキシ重合性樹脂が、ビスフェノールF型、ビスフェノールA型のうち少なくとも1種を含有することを特徴とする請求の範囲第6項記載の異方性導電フィルム。
8.示差走査熱量計における発熱ピーク温度が、昇温速度10℃/minにおいて110~120℃であることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第7項いずれか1項記載の異方性導電フィルム。
9.所定間隔で端子電極が形成されたガラス配線板と、当該所定間隔よりも狭い間隔で端子電極が形成されたフレキシブルプリント配線板とを、異方性導電フィルムを用いて接続する接続構造体の製造方法において、
 ポリブタジエン粒子と、カチオン重合性樹脂と、カチオン硬化剤とを配合した絶縁性接着樹脂に導電性粒子が分散されてなり、最低溶融粘度が300~1000Pa・sである異方性導電フィルムをガラス基板の端子電極上に配置する配置工程と、
 上記異方性導電フィルム上に、フレキシブルプリント基板の端子電極を配置し、当該フレキシブルプリント基板側から加熱ツールを用いて押圧し、端子電極間を電気的に接続させる接続工程とを有する接続構造体の製造方法。
10.上記接続工程では、加熱ツールを1~50mm/secの速度で、150~200℃、4~6sec押圧することを特徴とする請求の範囲第9項記載の接続構造体の製造方法。
11.ガラス配線板の端子電極とフレキシブルプリント配線板の端子電極とが異方性導電フィルムを介して接合されてなる接続構造体において、
 上記異方性導電フィルムの最低溶融粘度が300~1000Pa・sであることを特徴とする接続構造体。
Description:
異方性導電フィルム及びそれを いた接続構造体の製造方法

 本発明は、導電性粒子が分散された異方性 電フィルム及びそれを用いた接続構造体の 造方法に関する。
 本出願は、日本国において2007年8月24日に出 願された日本特許出願番号特願2007-218863を基 として優先権を主張するものであり、この 願を参照することにより、本出願に援用さ る。

 従来、ガラス基板とフレキシブルプリント 板(FPC:Flexible Printed Circuits)とを接合するFOG( Film on Glass)接合が実施されている(例えば、 許文献1参照。)。この実装方法は、ガラス 板の接続端子とフレキシブルプリント基板 接続端子とを異方性導電フィルム(ACF:Anisotrop ic Conductive Film)を介して対向させ、加熱ツー ルを用いて異方性導電フィルムを加熱硬化し つつ接続端子を押圧することにより、両接続 端子を電気的に接続するものである。

特許第3477367号公報

 しかしながら、フレキシブルプリント基板 、ガラス基板に比べて線膨張係数が大きい め、高い実装精度で接合させることが困難 あった。例えば、フレキシブルプリント基 に一般的に用いられるポリイミド樹脂の線 張係数(10~40×10 -6 /℃)は、ガラスの線膨張係数(約8.5×10 -6 /℃)よりも大きく、フレキシブルプリント基 の拡張のし易さが、接続信頼性を損ねてい 。
 具体的には、熱圧着の際、フレキシブルプ ント基板に加熱ヘッドを速い速度で接触・ 圧させると、配線パターン間隔が十分に拡 する前に異方性導電フィルムによる硬化反 が開始してしまい、配線パターン間隔がず た状態で接合されてしまう。一方、フレキ ブルプリント基板に加熱ツールを遅い速度 接触・押圧させると、異方性導電フィルム 流動する前に硬化してしまい、接続端子間 開いた状態で接合されてしまう。
 また、熱圧着の際、異方性導電フィルムと ラス基板との界面部分や異方性導電フィル とフレキシブルプリント基板との界面部分 生じる内部応力が接着強度を低下させてい 。
 本発明は、このような従来の実情に鑑みて 案されたものであり、高い接続信頼性を得 ことができる異方性導電フィルム及びそれ 用いた接続構造体の製造方法を提供するこ を目的とする。
 本件発明者は、上述の課題を解決するため 鋭意研究を重ねた結果、応力緩和剤として リブタジエン粒子を添加し、最低溶融粘度 300~1000Pa・sとすることにより、高い接続信 性が得られることを見出した。
 すなわち、本発明に係る異方性導電フィル は、ポリブタジエン粒子と、カチオン重合 樹脂と、カチオン硬化剤とを配合した絶縁 接着樹脂に導電性粒子が分散されてなり、 低溶融粘度が300~1000Pa・sであることを特徴 している。
 また、本発明に係る接続構造体の製造方法 、所定間隔で端子電極が形成されたガラス 線板と、当該所定間隔よりも狭い間隔で端 電極が形成されたフレキシブルプリント配 板とを、異方性導電フィルムを用いて接続 る接続構造体の製造方法において、ポリブ ジエン粒子と、カチオン重合性樹脂と、カ オン硬化剤とを配合した絶縁性接着樹脂に 電性粒子が分散されてなり、最低溶融粘度 300~1000Pa・sである異方性導電フィルムをガ ス基板の端子電極上に配置する配置工程と 上記異方性導電フィルム上に、フレキシブ プリント基板の端子電極を配置し、当該フ キシブルプリント基板側から加熱ツールを いて押圧し、端子電極間を電気的に接続さ る接続工程とを有することを特徴としてい 。
 また、本発明に係る接続構造体は、ガラス 線板の端子電極とフレキシブルプリント配 板の端子電極とが異方性導電フィルムを介 て接合されてなる接続構造体において、上 異方性導電フィルムの最低溶融粘度が300~100 0Pa・sであることを特徴としている。

図1A及び図1Bは、本発明の一実施形態に おけるフレキシブルプリント基板とガラス基 板とを接合する方法を説明するための平面図 である。

 以下、図面を参照しながら、本発明の実施 一形態について説明する。
 本発明の具体例として示す異方性導電フィ ムは、絶縁性接着樹脂に導電性粒子が分散 れてなるものである。
 導電性粒子は、例えば、ニッケル、金、銅 の金属粒子、樹脂粒子に金めっき等を施し もの、樹脂粒子に金めっきを施した粒子の 外層に絶縁被覆を施したもの等を用いるこ ができる。ここで、導電性粒子の平均粒径 、導通信頼性の観点から、1~20μmとすること が好ましい。また、絶縁性接着剤樹中への導 電性粒子の分散量は、導通信頼性及び絶縁信 頼性の観点から、2~50重量%とすることが好ま い。
 絶縁性接着樹脂は、応力緩和剤と、カチオ 重合性樹脂と、カチオン硬化剤とを、溶剤 溶解して得られる。
 応力緩和剤としては、ゴム系の弾性材料で るポリブタジエン粒子を用いる。ポリブタ エンからなるブタジエンゴム(BR)は、アクリ ルゴム(ACR)、ニトリルゴム(NBR)等に比べて反 弾性が高いため、内部応力を多く吸収する とができる。また、硬化阻害を起こさない め、高い接続信頼性を与えることができる
 ポリブタジエン粒子の弾性率は、硬化後の 縁性接着樹脂の弾性率より小さいことが好 しい。具体的には、弾性率が1×10 8 ~1×10 10 dyn/cm 2 であることが好ましい。応力吸収粒子の弾性 率が1×10 8 dyn/cm 2 より小さいと、保持力が低下するという不都 合があり、1×10 10 dyn/cm 2 より大きいと、絶縁性接着樹脂の内部応力を 十分に小さくすることができないという不都 合がある。
 また、ポリブタジエン粒子の示差走査熱量 (DSC:Differential Scanning Calorimeter)における発 ピーク温度は、80~120℃であることが好まし 。ポリブタジエン粒子の発熱ピーク温度が80 ℃より小さいと、異方性導電フィルムの製品 ライフが低下するという不都合があり、120℃ より大きいと、硬化不良が発生するという不 都合がある。
 また、導電性粒子と接続電極間の電気的な 続を十分に確保するため、ポリブタジエン 子の平均粒径は、導電性粒子の平均粒径よ 小さいことが好ましい。具体的には、ポリ タジエン粒子の平均粒径が0.01~0.5μmである とが好ましい。ポリブタジエン粒子の平均 径が0.01μmより小さいと、応力を吸収しきれ いという不都合があり、0.5μmより大きいと 導電性粒子と接続電極間の電気的な接続が 下するおそれがある。
 また、ポリブタジエン粒子は、カチオン重 性樹脂70重量部に対して5~35重量部配合され いることが好ましい。配合割合が5重量部よ りも小さいと、バインダーに生ずる内部応力 を十分に小さくすることができず、35重量部 りも大きいと、フィルムを形成しにくく、 た耐熱性が低下するという不都合がある。
 カチオン重合性樹脂としては、エチレンオ シド、プロピレンオキシド、ブチレンオキ ド、スチレンオキシド、フェニルグリシジ エーテル、ブチルグリシジルエーテル等の1 官能性エポキシ化合物;ビスフェノールA型エ キシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂 、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、脂 環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシア ネート、ヒダントインエポキシ等の含複素環 エポキシ樹脂;水添ビスフェノールA型エポキ 樹脂、プロピレングリコールジグリシジル ーテル、ペンタエリスリトール-ポリグリシ ジルエーテル等の脂肪族系エポキシ樹脂;芳 族、脂肪族若しくは脂環式のカルボン酸と ピクロルヒドリンとの反応によって得られ エポキシ樹脂;スピロ環含有エポキシ樹脂;o- リル-フェノールノボラック化合物とエピク ロルヒドリンとの反応生成物であるグリシジ ルエーテル型エポキシ樹脂;ビスフェノールA のそれぞれの水酸基のオルト位にアリル基 有するジアリルビスフェノール化合物とエ クロルヒドリンとの反応生成物であるグリ ジルエーテル型エポキシ樹脂;シッフ系化合 物、スチルベン化合物及びアゾベンゼン化合 物のジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;(1 ,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-ヒドロキシイソプ ピル)シクロヘキサンとエピクロルヒドリン との反応生成物等の含フッ素脂環式、芳香環 式エポキシ樹脂等を用いることができる。こ の中でも、特にビスフェノールA型エポキシ 脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェ キシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ノ ラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を 独又は混合して用いることが好ましい。
 また、カチオン重合性樹脂は、フェノキシ 脂とエポキシ重合性樹脂とを混合したもの あることが好ましい。ここで、フェノキシ 脂の分子量は、フィルムを形成する観点か 、20000~60000であることが好ましい。フェノ シ樹脂の分子量が20000より小さいと、流動性 が大きくなってしまい、フィルム形成性が悪 くなる。また、60000より大きいと、流動性不 が生じてしまう。
 また、エポキシ樹脂は、ビスフェノールF型 、ビスフェノールA型のうち少なくとも1種を 有することが好ましい。これにより、最適 流動性を有するフィルムを形成することが きる。
 カチオン硬化剤は、カチオン種がエポキシ 脂末端のエポキシ基を開環させ、エポキシ 脂同士を自己架橋させる。このようなカチ ン硬化剤としては、芳香族スルホニウム塩 芳香族ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、 スホニウム塩、セレノニウム塩等のオニウ 塩を挙げることができる。特に、芳香族ス ホニウム塩は、低温での反応性に優れ、ポ トライフが長いため、カチオン硬化剤とし 好適である。
 また、溶剤としては、トルエン、酢酸エチ 等を用いることができる。
 続いて、異方性導電フィルムの作成方法に いて説明する。先ず、所定のカチオン性樹 を溶剤に溶解させ、この溶液にポリブタジ ン粒子とカチオン硬化剤とを所定量加えて 合する。ポリブタジエン粒子等が混合され 溶液に導電性粒子を加えて分散させ、バイ ダーを調整する。このバインダーを例えば リエステルフィルム等の剥離フィルム上に ーティングし、乾燥後、カバーフィルムを ミネートして異方性導電フィルムを得る。
 この異方性導電フィルムは、最低溶融粘度 300~1000Pa・sであることが好ましい。最低溶 粘度が300Pa・s以下であると、絶縁性接着樹 であるバインダーが流動して接続部分に保 されず、接続強度が悪くなる。また、最低 融粘度が1000Pa・s以上であると、バインダー 流動性が悪く、接続厚みが導電性粒子の直 よりも大きくなり、接続信頼性が悪くなる また、最低溶融粘度は、90~110℃の間で到達 ることが好ましい。到達温度が90℃より小 いと、流動性が大き過ぎてしまい、110℃よ も大きいと、流動性が不足してしまう。
 このような異方性導電フィルムによれば、1 50~200℃、4~6秒の熱圧着条件においてガラス基 板とフレキシブル基板とを高い信頼性で接続 することができる。
 次に、接続構造体の製造方法について説明 る。なお、接続構造体は、ガラス基板とフ キシブル基板とが上述した異方性導電フィ ムによって接続されたものである。
 図1A、図1Bは、本発明の一実施形態における フレキシブルプリント基板とガラス基板とを 接合する方法を説明するための上面図である 。図1Aに示すように、ガラス基板1には所定間 隔で端子電極が形成されており、フレキシブ ルプリント基板3にはガラス基板1の所定間隔 りも狭い間隔で端子電極が形成されている そして、上述した異方性導電フィルム2をガ ラス基板1の端子電極上に配置し、次いで異 性導電フィルム2上に、フレキシブルプリン 基板3の端子電極を配置し、フレキシブルプ リント基板3側から加熱ツールを用いて押圧 ることにより、端子電極間が電気的に接続 れる。この際、フレキシブルプリント基板3 熱により拡張し、図1Bに示すように、フレ シブルプリント基板3の端子電極の間隔がガ ス基板1の端子電極の間隔とほぼ等しくなる 。
 本実施の形態においては、加熱ツールの押 込み速度1~50mm/secとし、150~200℃、4~6secの接 条件で、相対峙する電極を加圧方向に電気 に接続することが好ましい。押し込み速度 1mm/secよりも小さいと、バインダーを排除し れずに導通不良が生じる。
 このように最低溶融粘度が300~1000Pa・sであ 異方性導電フィルムを用いることにより、 圧着の際の流動性が最適となる。また、ポ ブタジエン粒子を配合することにより、接 界面部分に生じる内部応力が吸収されるた 、高い接続信頼性を有する接続構造体を得 ことができる。
<実施例>
 以下、実施例について、比較例を参照して 細に説明する。まず、実施例1~7及び比較例1 ~5における異方性導電フィルムの各サンプル 表1に示すように作成した。

[規則26に基づく差替え 19.06.2008]
(実施例1)
 カチオン重合性樹脂として、平均分子量3000 0のBis-A/Bis-F混合型フェノキシ樹脂(ジャパン ポキシレジン社製 jER-4210)40重量部、当量190 液状Bis-A型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシ ジン社製 YL980)20重量部、及び当量160の液状 Bis-F型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン 社製 jER806)10重量部とを混合して用いた。ま 、応力緩和剤として、ポリブタジエン(レジ ナス化成社製 RKB)からなる平均粒径0.5μmのブ タジエンゴム(BR)粒子5重量部を用いた。また 潜在性硬化剤として、スルホニウム系カチ ン硬化剤(三新化学工業社製 SI-60L)5重量部 用いた。そして、カチオン重合性樹脂と、 力緩和剤と、潜在性硬化剤とを、溶剤トル ンに溶解して絶縁性接着樹脂溶液を調整し 。
 そして、この絶縁性接着樹脂溶液80重量部 、導電性粒子として、平均粒径0.5μmのベン グアナミン粒子にニッケル-金めっきを施し ものを5重量部加えてバインダーとした。
 さらに、このバインダーを剥離用のPETフィ ム上に乾燥後の厚みが25μmになるようにコ ティングし、異方性導電フィルムを得た。 の異方性導電フィルムを幅2mmのスリット状 切断し、実施例1のサンプルとした。
 (実施例2)
 ブタジエンゴム粒子を10重量部としてバイ ダー溶液を調整した以外は、実施例1と同様 方法によって異方性導電フィルムのサンプ を作成した。
 (実施例3)
 ブタジエンゴム粒子を20重量部としてバイ ダー溶液を調整した以外は、実施例1と同様 方法によって異方性導電フィルムのサンプ を作成した。
 (実施例4)
 平均分子量30000のBis-A/Bis-F混合型フェノキシ 樹脂(ジャパンエポキシレジン社製 jER-4210)を 20重量部、及び平均分子量20000のBis-F型フェノ キシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製 jER-40 07P)を20重量部としてバインダー溶液を調整し た以外は、実施例3と同様の方法によって異 性導電フィルムのサンプルを作成した。
 (実施例5)
 スルホニウム系カチオン硬化剤(三新化学工 業社製 SI-60L)を8重量部としてバインダー溶 を調整した以外は、実施例4と同様の方法に って異方性導電フィルムのサンプルを作成 た。
 (実施例6)
 平均分子量60000のBis-A/Bis-F混合型フェノキシ 樹脂(東都化成社製 YP-50)を30重量部、及び平 分子量20000のBis-F型フェノキシ樹脂(ジャパ エポキシレジン社製 jER-4007P)を10重量部とし てバインダー溶液を調整した以外は、実施例 4と同様の方法によって異方性導電フィルム サンプルを作成した。
 (実施例7)
 ブタジエンゴム粒子を35重量部としてバイ ダー溶液を調整した以外は、実施例1と同様 方法によって異方性導電フィルムのサンプ を作成した。
 (比較例1)
 平均分子量60000のBis-A/Bis-F混合型フェノキシ 樹脂(東都化成社製 YP-50)を40重量部とし、応 緩和剤を添加せずにバインダー溶液を調整 た以外は、実施例1と同様の方法によって異 方性導電フィルムのサンプルを作成した。
 (比較例2)
 平均分子量20000のBis-F型フェノキシ樹脂(ジ パンエポキシレジン社製 jER-4007P)を40重量部 としてバインダー溶液を調整した以外は、実 施例1と同様の方法によって異方性導電フィ ムのサンプルを作成した。
 (比較例3)
 スルホニウム系カチオン硬化剤(三新化学工 業社製 SI-60L)を2重量部としてバインダー溶 を調整した以外は、実施例4と同様の方法に って異方性導電フィルムのサンプルを作成 た。
 (比較例4)
 平均粒径0.5μmのアクリルゴム(ナガセケムテ ックス社製 SG600LB)を20重量部としてバインダ ー溶液を調整した以外は、実施例1と同様の 法によって異方性導電フィルムのサンプル 作成した。
 (比較例5)
 平均粒径0.5μmのニトリルゴム(NBR)粒子(日本 オン社製 DN009)を20重量部としてバインダー 溶液を調整した以外は、実施例1と同様の方 によって異方性導電フィルムのサンプルを 成した。
 (測定結果)
 表2は、上記サンプルの最低溶融粘度、最低 溶融粘度に達する温度、及びDSC(Differential Sca nning Calorimeter)におけるピーク温度の測定結 である。最低溶融粘度及び最低溶融粘度に する温度については、上記サンプルを所定 回転式粘度計に装填し、所定の昇温速度で 昇させながら溶融粘度測定した。また、DSC ピーク温度については、上記サンプルを所 量秤量し、昇温速度10℃/minとして示差走査 量計(DSC)から求めた。

(評価結果)
 次に、上記サンプルをガラス基板の端子電 上に配置し、次いでサンプルに、フレキシ ルプリント基板(2層、厚さ38μm、銅回路8μm) 端子電極を配置し、フレキシブルプリント 板側から加熱ツールを用いて押圧し、フレ シブルプリント基板とガラス基板とを圧着 せた。そして、加熱ツールの押し込み速度 影響について、導通抵抗及び接着強度を評 した。このときの熱圧着条件は、170℃、3.5M Pa、4secであった。
 表3は、加熱ツールの押し込み速度に対する 導通抵抗及び接着強度の評価結果を示すもの である。導通抵抗については、圧着後、両基 板の端子電極間の抵抗を測定した。また、接 着強度については、熱圧着後、ガラス基板か らフレキシブルプリント基板を90°方向に引 剥がすときの接着力を測定した。
 また、表4は、接続信頼性の評価結果を示す ものである。接続信頼性は、170℃、3.5MPa、4se c、加熱ツールの押し込み速度30mm/secの熱圧着 条件で接続された接続構造体を温度85℃、相 湿度85%~温度45℃相対湿度90%の条件下で1000時 間エージング処理後、導通抵抗及び接着強度 を測定して評価した。

(フレキシブル基板の伸縮)
 また、表5は、加熱ツールの押し込み速度に 対するフレキシブルプリント基板の収縮率を 示すものである。ここでは、実施例3,4のサン プルを用いてフレキシブルプリント基板(東 ・デュポン社製 カプトンEN)とガラス基板( ーニング社製 コーニング1737F)とを接合させ た接続構造体について、フレキシブルプリン ト基板の伸縮率を測定した。フレキシブルプ リント基板の伸縮率は、2次元測長機を用い 、熱圧着前後のフレキシブルプリント基板 長さを測定して算出した。なお、フレキシ ルプリント基板及びガラス基板の熱膨張係 は、それぞれ16×10 -6 /℃及び3.7×10 -6 /℃あった。

 以上の結果より、最低溶融粘度が300~1000Pa・ sである異方性導電フィルムは、加熱ツール 押し込み速度1~50mm/sec、150~200℃、4~6secの熱圧 着条件において流動性が最適であることが分 かる。また、ポリブタジエン粒子が配合され ていることにより、内部応力を吸収し、高い 接着強度を持つことが分かる。
 例えば、実施例1~7のサンプルを用いた接続 造体は、加熱ツールを170℃、3.5MPa、4sec、押 し込み速度1~50mm/secの範囲において、優れた 通抵抗及び接着強度を示した。
 一方、比較例1~5のサンプルは、最低溶融粘 が最適でないので、高い接続信頼性を示す 果を得ることができなかった。




 
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