本发明的实施例涉及一种显示面板及其制备方 法、掩模板及其制备方法、 显示装置。 背景技术

在当今显示技术行业， 显示面板由第一显示基板和第二显示基板对盒 而 成， 为了维持两者之间的盒厚， 目前通常采用在第一显示基板和第二显示基 板之间设置隔垫物来实现。

以液晶显示面板（包括相对设置的彩膜基板和 阵列基板） 中主隔垫物和 辅助隔垫物均设置于彩膜基板上为例， 如图 1所示， 彩膜基板的透明基板 03 上的隔垫物分为主隔垫物 01和辅助隔垫物 02, 其中主隔垫物 01较高， 辅助 隔垫物 02较低，主隔垫物 01和辅助隔垫物 02之间的段差需要设置在 0.6um 左右。 主隔垫物 01和辅助隔垫物 02之间的段差可以在其制备过程中使用半 色调掩模板实现。

在实际生产中发明人分析发现， 目前彩膜基板中制备的辅助隔垫物 02 悬空一端的端面中心区域具有凹陷部 021 , 呈现凹状的盆地形貌。 现有技术 中彩膜基板中的辅助隔垫物 02支撑阵列基板时的稳定性较差，进而降低产� �� 性能。 发明内容

本发明的一个实施例提供一种显示面板， 包括相对设置的第一显示基板 和第二显示基板， 以及设置在所述第一显示基板和第二显示基板 之间的主隔 垫物和辅助隔垫物， 其中，

所述主隔垫物和辅助隔垫物均设置于所述第一 显示基板上，

所述主隔垫物的高度等于所述第一显示基板到 所述第二显示基板的距离 以支撑所述第一显示基板和所述第二显示基板 ， 所述辅助隔垫物的高度小于 所述主隔垫物的高度， 并且 至少一个所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为 平面，和 /或至少一个所述 辅助隔垫物的悬空一端的端面为凸面。

在一个示例中， 至少一个所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为 凸面， 所 述至少一个辅助隔垫物包括主体部和悬空凸起 部， 所述悬空凸起部背离所述 主体部的一面为半球面。

在一个示例中， 所述显示面板为液晶显示面板、 电子纸或有机发光显示 面板。

在一个示例中， 所述显示面板为液晶显示面板， 所述第一显示基板为彩 膜基板， 所述第二显示基板为阵列基板。

在一个示例中， 所述主隔垫物和所述辅助隔垫物的材料为负性 光刻胶材 料。

本发明的另一个实施例提供一种半色调掩模板 ， 包括不透光区和半色调 透光区， 其中， 所述不透光区设置有遮光膜， 所述半色调透光区设置有半色 调透光膜， 并且至少一个所述半色调透光区中的所述半色 调透光膜的中心区 域为镂空区域。

在一个示例中， 所述半色调掩模板还包括透光区， 所述透光区未设置所 述遮光膜和所述半色调透光膜。

在一个示例中， 所述遮光膜为铬膜。

在一个示例中， 所述半色调掩模板还包括透明的村底基板， 所述遮光膜 和所述半色调透光膜设置在所述村底基板上。

本发明的又一个实施例提供一种半色调掩模板 的制备方法， 包括： 在村底基板上形成遮光膜， 并对所述遮光膜进行一次构图工艺以限定不 透光区和半色调透光区， 所述不透光区的遮光膜被保留， 所述半色调透光区 内至少除中心区域之外的遮光膜被去除；

在完成上述步骤的村底基板上形成半色调透光 膜， 并通过一次构图工艺 在所述半色调透光区的中心区域形成镂空区域 。

在一个示例中， 在对所述遮光膜进行构图的工艺中， 所述半色调透光区 的遮光膜被完全去除;所述在完成上述步骤的� �底基板上形成半色调透光膜， 并通过一次构图工艺在所述半色调透光区的中 心区域形成镂空区域包括： 在村底基板上形成半色调透光膜； 在半色调透光膜上涂覆一层光刻胶；

采用曝光和显影工艺，使光刻胶形成光刻胶去 除区域和光刻胶保留区域； 光刻胶去除区域对应半色调透光区的中心区域 ， 光刻胶保留区域对应于所述 半色调透光区的中心区域以外的区域以及所述 不透光区；

对半色调透光区的中心区域的半色调透光膜进 行刻蚀；

剥离剩余光刻胶。

在一个示例中， 在对所述遮光膜进行构图的工艺中， 所述半色调透光区 的中心区域的遮光膜被保留； 所述在完成上述步骤的村底基板上形成半色调 透光膜， 并通过一次构图工艺在所述半色调透光区的中 心区域形成镂空区域 包括：

在村底基板上形成一层半色调透光膜；

然后在半色调透光膜上涂覆一层光刻胶；

采用曝光和显影工艺，使光刻胶形成光刻胶去 除区域和光刻胶保留区域； 光刻胶去除区域对应中心区域保留遮光膜的半 色调透光区的区域， 光刻胶保 留区域对应于所述半色调透光区的中心区域以 外的区域以及所述不透光区； 对没有光刻胶覆盖的区域的遮光膜和半色调透 光膜进行刻蚀， 形成半色 调透光膜的图形和遮光膜的图形；

剥离剩余光刻胶。

在一个示例中， 所述光刻胶去除区域还对应于透光区， 并且所述透光区 的半色调透光膜和所述遮光膜被蚀刻。

本发明的又一个实施例提供一种显示面板的制 备方法， 包括： 使用根据 如上所述任一实施例的半色调掩模板制备辅助 隔垫物。

本发明的又一个实施例提供一种显示装置， 包括根据如上所述任一实施 例的显示面板。 附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 筒单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图 仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。

图 1为现有技术中彩膜基板中主隔垫物以及辅助� �垫物的结构示意图； 图 2a为本发明的实施例提供的显示面板中主隔垫� ��以及辅助隔垫物的 一种结构示意图；

图 2b 为本发明的实施例提供的显示面板中主隔垫物 以及辅助隔垫物的 另一种结构示意图；

图 3为本发明实施例二提供的半色调掩模板的结� �示意图；

图 4&~图 4i为本发明实施例三中制备半色调掩模板各步� ��的示意图； 图 5&~图 5i为本发明实施例四中制备半色调掩模板各步� ��的示意图； 图 6为本发明实施例五中制备主隔垫物以及辅助� �垫物的示意图。 具体实施方式

为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案 进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提 下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。

在实际生产中发明人发现， 目前显示面板的第一显示基板和第二显示基 板之间的辅助隔垫物在支撑阵列基板时， 辅助隔垫物的悬空一端用于支撑相 应的显示基板的仅仅为辅助隔垫物悬空一端 陷部周边的部位， 辅助隔垫物 在受力过大时， 凹陷部周边的部位 4艮容易被压溃， 导致辅助隔垫物的损坏， 从而降低了辅助隔垫物的支撑稳定性。 本发明的实施例提供了一种辅助隔垫 物支撑稳定性较高的显示面板。

实施例一

如图 2a和图 2b所示， 本实施例提供的显示面板包括相对设置的第一 显 示基板 31和第二显示基板 32, 以及设置在第一显示基板 31和第二显示基板 32之间的主隔垫物 1和辅助隔垫物 2。 主隔垫物 1和辅助隔垫物 2均设置于 第一显示基板 31上， 或主隔垫物 1和辅助隔垫物 2均设置于第二显示基板 32上， 并且至少一个辅助隔垫物 2的悬空一端的端面为平面， 如图 2a所示， 和 /或至少一个辅助隔垫物 2的悬空一端的端面为凸面， 如图 2b所示。

本发明的实施例提供的显示面板中， 其主隔垫物 1和辅助隔垫物 2设置 在同一个显示基板上， 且至少一个辅助隔垫物 2悬空一端的端面为平面， 和 / 或， 至少一个辅助隔垫物 2的悬空一端的端面为凸面。 为便于描述， 下面以 主隔垫物 1和辅助隔垫物 2均设置于第一显示基板 31上为例进行描述。

当显示面板的第一显示基板 31和第二显示基板 32之间的压力过大时， 辅助隔垫物 2的悬空一端的端面支撑在第二显示基板 32朝向第一显示基板 31的一面。 如图 2a所示， 当辅助隔垫物 2悬空一端的端面为平面时， 能够 增加辅助隔垫物 2悬空一端的端面与第二显示基板 32之间的接触面积，提高 辅助隔垫物 2支撑时的稳定性。如图 2b所示，辅助隔垫物 2悬空一端的端面 为凸面时， 辅助隔垫物 2悬空一端的端面在受力之后会发生形变， 增加辅助 隔垫物 2悬空一端的端面与第二显示基板 32之间的支撑面积，从而增加辅助 隔垫物 2支撑时的稳定性， 提高产品性能。

因此，本发明的实施例提供的显示面板中辅助 隔垫物的支撑稳定性较高。 例如， 上述第一显示基板中的辅助隔垫物 2悬空一端的端面可以全部为 平面， 也可以全部为凸面， 或者一部分为平面， 另一部分为凸面， 这里不再 对其支撑原理进行赘述。

例如， 如图 2b所示结构， 当辅助隔垫物 2的悬空一端的端面为凸面时， 辅助隔垫物 2包括主体部 22和悬空凸起部 21 ,悬空凸起部 21背离主体部 22 的一面为半球面。即辅助隔垫物 2的形状为烛台状。主体部 22为烛台状的辅 助隔垫物 2的底座， 面积较大， 在支撑第二显示基板 32时可承受更大的力， 进而进一步提高辅助隔垫物 2支撑第二显示基板 32时的稳定性。

第一显示基板 31和第二显示基板 32之间的距离可以称为盒厚， 而主隔 垫物 1的高度等于该盒厚。主隔垫物 1主要用于维持第一显示基板 31和第二 显示基板 32之间的距离。 而辅助隔垫物 2的高度则小于主隔垫物 1的高度， 只有在面板受挤压而使得两个显示基板的距离 变小时， 辅助隔垫物 2才能起 到支撑作用。

例如， 显示面板可以包括但不限于液晶显示面板、 电子纸或有机发光显 示面板。 当显示面板为液晶显示面板时， 第一显示基板可以为彩膜基板， 第 二显示基板可以为阵列基板； 或者， 第一显示基板可以为阵列基板， 第二显 示基板可以为彩膜基板。

实施例二

如图 3所示， 本实施例提供了一种用于制备显示面板的半色 调掩模板， 包括村底基板 4和位于村底基板 4上的遮光膜 5 , 遮光膜 5具有与辅助隔垫 物 2——对应的半色调透光区 D, 半色调透光区 D如图 3中虚线框所示， 半 色调透光区 D设置有半色调透光膜 7, 至少一个半色调透光膜 7的中心区域 为镂空区域。 例如， 镂空区域的村底基板上既没有遮光膜 5 , 也没有半色调 透光膜 7。

使用本发明的实施例提供的半色调掩模板制备 显示面板中的辅助隔垫物 时， 半色调透光区 D的中心区域为镂空区域， 曝光过程中光线通过半色调透 光膜 7时能够减少其中心区域的光干涉现象， 进而使辅助隔垫物悬空一端端 面中心位置曝光时充分曝光， 降氐辅助隔垫物悬空一端端面中心位置形成凹 陷部现象的发生几率， 进而改善辅助隔垫物悬空一端的结构， 提高辅助隔垫 物的支撑稳定性。

在一个示例中， 上述遮光膜为铬膜。 但遮光膜的材质不限于此， 只要具 有遮光性质的材料膜层都可以。

例如， 该半色调掩模板的半色调透光区在使用时对应 于辅助隔垫物， 而 该半色调掩模板还可包括对应于主隔垫物的透 光区， 以及对应于主隔垫物和 辅助隔垫物之外的不透光区。

实施例三

本实施例提供了一种半色调掩模板的制备方法 ， 包括：

步骤 S401 : 在村底基板上形成遮光膜， 并通过一次构图工艺在所述遮光 膜形成半色调透光区的开口区域；

步骤 S402: 在完成上述步骤的村底基板上形成半色调透光 膜， 并通过一 次构图工艺在所述半色调透光区的中心区域形 成镂空区域。

一种具体实施方式中， 步骤 S401中可以包括：

在村底基板 4上形成一层遮光膜 5 , 并在遮光膜 5上涂覆一层光刻胶 6, 如图 4a所示；

采用曝光和显影工艺，使光刻胶形成光刻胶去 除区域和光刻胶保留区域； 光刻胶去除区域对应半色调透光区的开口区域 ， 光刻胶保留区域对应于上述 区域以外的区域； 显影处理后， 光刻胶去除区域的光刻胶被完全去除， 光刻 胶保留区域的光刻胶被保留， 如图 4b所示；

采用刻蚀工艺刻蚀掉光刻胶去除区域的遮光膜 ， 即将遮光膜 5中与半色 调掩模板的半色调透光区 D对应区域内的部分刻蚀去除， 如图 4c所示； 将剩余光刻胶剥离， 如图 4d所示。

一种具体实施方式中， 步骤 S402具体包括：

在完成步骤 S401的村底基板上形成半色调透光膜 7, 如图 4e所示， 当 然， 半色调透光膜 7可以通过沉积、 涂覆、 溅射等工艺形成， 这里不再赘述； 在半色调透光膜 7上涂覆一层光刻胶 8, 如图 4f所示；

采用第二次曝光和显影工艺， 使光刻胶形成光刻胶去除区域和光刻胶保 留区域， 并去除光刻胶去除区域的光刻胶； 光刻胶去除区域对应半色调透光 区的中心区域， 光刻胶保留区域对应于半色调透光区的中心区 域之外的区域 以及不透光区， 将半色调透光区 D的中心区域露出； 当然， 为节省半色调掩 模板的制备工序， 此步骤中还可以将遮光膜 5中与主隔垫物对应区域 E的部 分露出， 如图 4g所示；

采用刻蚀工艺刻蚀掉光刻胶去除区域的半色调 透光膜， 即对半色调透光 区 D的中心区域的半色调透光膜进行刻蚀； 当然， 为节省半色调掩模板的制 备工序， 还可对遮光膜 5中与主隔垫物对应区域 E的部分进行刻蚀， 主隔垫 物对应区域 E如图 4h中虚线框内所示区域；

最后， 剥离剩余光刻胶， 如图 4i所示。

通过上述步骤 S401和步骤 S402可以制备出实施例二中提供的半色调掩 模板。

实施例四

本实施例提供了实施例二提供的半色调掩模板 的另一种制备方法，包括： 步骤 S601 : 在村底基板上形成遮光膜， 并通过一次构图工艺在所述遮光 膜形成中心区域保留遮光膜的半色调透光区的 区域；

步骤 S602: 在完成上述步骤 S601的村底基板上形成半色调透光膜， 并 通过一次构图工艺去除所述中心区域的半色调 透光膜以及保留的遮光膜， 在 所述中心区域保留遮光膜的半色调透光区的中 心区域形成镂空区域。

其中， 步骤 S601中可以具体包括：

在村底基板 4上形成一层遮光膜 5 , 且在遮光膜 5上涂布一层光刻胶 6, 如图 5a所示；

对遮光膜 5上的光刻胶 6进行第一次曝光和显影， 将遮光膜 5中与半色 调掩模板的半色调透光区 D对应位置内除去与半色调透光区 D的中心区域对 应位置之外的光刻胶清除， 如图 5b所示；

对遮光膜 5上没有涂覆光刻胶 6的部分进行刻蚀， 形成遮光膜图形， 其 中， 半色调掩模板的半色调透光区 D内中心区域具有遮光膜 51 , 如图 5c所 示 ^

将剩余光刻胶剥离， 如图 5d所示。

步骤 S602具体可以包括：

在完成步骤 S601的村底基板上形成一层半色调透光膜 7,如图 5e所示， 当然， 半色调透光膜 7可以通过沉积、 涂覆、 溅射等工艺形成， 这里不再赘 述；

然后在半色调透光膜 7上涂覆一层光刻胶 8, 如图 5f所示；

采用第二次曝光和显影工艺， 使光刻胶形成光刻胶去除区域和光刻胶保 留区域， 并去除光刻胶去除区域的光刻胶； 光刻胶去除区域对应中心区域保 留遮光膜的半色调透光区的区域， 光刻胶保留区域对应于半色调透光区的中 心区域之外的区域以及不透光区； 当然， 为节省半色调掩模板的制备工序， 此步骤中还可以将半色调掩模板中与主隔垫物 对应区域 E 内的遮光膜 5 露 出， ：¾口图 5g所示；

采用刻蚀工艺刻蚀掉光刻胶去除区域的半色调 透光膜（半色调透光区中 心区域的半色调透光膜） ， 即对没有光刻胶 8覆盖的遮光膜 5进行刻蚀， 形 成半色调透光层图形和遮光层图形， 如图 5h所示；

最后， 剥离剩余光刻胶， 如图 5i所示。

采用上述步骤 S601和步骤 S602也可以制备实施例二中提供的半色调掩 模板。

综合上述实施例三和实施例四， 上述遮光膜的形成和构图工艺可以为： 在村底基板上形成遮光膜， 并对所述遮光膜进行一次构图工艺以限定不透 光 区域和半色调透光区， 所述不透光区的遮光膜被保留， 所述半色调透光区域 内至少除中心区域之外的遮光膜被去除。 而在形成半色调透光膜之后， 均可 以通过一次构图工艺在所述半色调透光区的中 心区域形成镂空区域。 在此步 骤实施例三和实施例四的差别是， 实施例三仅需去除半色调透光区的中心区 域的半色调透光膜； 而实施例四则需要去除半色调透光区的中心区 域的半色 调透光膜以及保留的遮光膜。 另外， 上述实施例三和实施例四中半色调透光 区对应于辅助隔垫物， 透光区对应于主隔垫物， 而其余的不透光区则对应于 主隔垫物和辅助隔垫物之外的区域。

对于形成隔垫物的材料， 例如可以使用负性光刻胶材料， 以使得被曝光 的部分被保留而形成隔垫物。

实施例五

本实施例提供了一种实施例一及其优选实施方 式中提供的显示面板的制 备方法，如图 6所示，采用实施例二中提供的半色调掩模板� �备辅助隔垫物。

半色调掩模板的半色调透光区 D的中心区域为镂空区域，曝光过程中光 线通过半色调透光膜时能够减少其中心区域的 光干涉现象， 进而使辅助隔垫 物 2悬空一端端面中心位置曝光时充分曝光， 降氏辅助隔垫物悬空一端端面 中心位置形成凹陷部现象的发生几率，进而改 善辅助隔垫物悬空一端的结构， 提高辅助隔垫物的支撑稳定性。 主隔垫物 1和辅助隔垫物 2通过一次构图工 艺形成。

利用本发明实施例的半色调掩模板， 所制备的隔垫柱端面可以是平面或 者凸面。 例如， 可以根据曝光机的解像度、 材料的感光性以及曝光工艺而决 定是形成平面或凸面。 总之， 利用本发明实施例的掩模板制备辅助隔垫物降 低辅助隔垫物悬空一端端面中心位置形成凹陷 部现象的发生几率。

实施例六

本实施例提供了一种显示装置， 该显示装置包括上述提供的显示面板。 所述显示装置可以为： 液晶面板、 电子纸、 OLED面板、 手机、 平板电脑、 电视机、 显示器、 笔记本电脑、 数码相框、 导航仪等任何具有显示功能的产 品或部件。 由于上述显示面板中的辅助隔垫物的支撑稳定 性较高， 因此该显 示装置的抗压能力较高， 产品性能较好。

以上所述仅是本发明的示范性实施方式， 而非用于限制本发明的保护范 围， 本发明的保护范围由所附的权利要求确定。