本发明涉及显示技术领域， 特别是涉及一种显示基板、 其制备方法、 及 显不装置。 受偏光片制作设备的限制， 目前大多数厂商只能提供超大尺寸液晶显示 面板所需要的上偏光片（CF POL)，但很难提供满足尺寸要求的下偏光片（TF T POL)。 另外， 超大尺寸的偏光片在运输过程中容易发生翘曲 变形等问题， 会 降低显示面板的良率。

如图 1所示， 目前大多数的超大尺寸液晶显示面板通过拼接 的方式实现 下偏光片的贴附， 然而由于偏光片裁切和贴^精度的限制， 偏光片尤其是下 偏光片并不能实现完美的拼接， 在拼接处会存在漏光等问题， 影响液晶显示 面板的显示。 本发明要解决的技术问题是提供一种显示基板 、 其制备方法、 及显示装 置， 能够消除拼接偏光片带来的漏光问题。

为解决上述技术问题， 本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面， 提供一种显示基板， 包括偏光片层， 所述偏光片层由多个偏光 片拼接而成；

所述显示基板还包括覆盖膜片， 所述覆盖膜片与所述偏光片层不同层设 置， 且覆盖所述多个偏光片之间的拼接缝隙； 所述覆盖膜片的吸光轴与所述 偏光片的吸光轴方向平行。

进一步地， 上述方案中， 所述覆盖膜片位于所述偏光片的面向所述显示 基板内部的一侧。

进一步地， 上述方案中， 所述覆盖膜片所在的层与所述偏光片层相邻。 迸一歩地， 上述方案中， 所述显示基板还包括：

与所述覆盖膜片同层设置的平坦层， 所述平坦层的厚度不小于所述覆盖 膜片的厚度。 迸一步地， 上述方案中， 所述平坦层与所述覆盖膜片相邻接， i所述平 坦层的厚度等于所述覆盖膜片的厚度； 或

所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区域 相重合， i所述第一区域 的厚度与所述覆盖膜片的厚度之和等于所述平 坦层的除所述第一区域之外的 区域的厚度。

一步地， 上述方案中 所述覆盖膜片沿所述拼接缝隙方向的宽度

进一步地， 上述方案中: 所述覆盖膜片的厚度为 20至 30微米。

迸一步地， 上述方案中 所述覆盖膜片为聚乙烯醇 PVA偏光膜片。

进一步地， 上述方案中 所述平坦层由透明绝缘材料形成， 所述透明绝 料优选为压敏胶。

本发明实施例还提供了- -种显示装置， 包括如上所述的显示基板。

本发明实施例还提供了- -种显示基板的制备方法， 包括在待贴附偏光片 的基板上贴 ^偏光片层的歩骤； 其中所述偏光片层由多个偏光片拼接而成； 待贴^偏光片的基板上贴 Pft偏光片层的步骤包括：

^: 述待贴附偏光片的基板上贴 ^覆盖膜片， 所述覆盖膜片所在的区域 之间的拼接缝隙 i

吸光轴与所述偏光片的吸光轴方向平行；

贴^所述多个偏光片， 拼接构成所述偏光片层， 拼接缝隙的区域不超出 所述覆盖膜片所占的区域。

迸一步地， 上述方案中， 所述在所述待贴附偏光片的基板上贴附覆盖膜 片包括：

在所述偏光片的面向所述显示基板内部的一侧 贴附覆盖膜片。

进一步地， 上述方案中， 在贴^所述多个偏光片之前， 所述方法还包括: 在未贴附偏光片的基板上形成平坦层， 所述平坦层的厚度不小于所述覆 盖膜片的厚度。

迸一步地， 上述方案中， 所述形成平坦层的歩骤是在贴附所述覆盖膜片 之后进行的， 所述平坦层与所述覆盖膜片同层且不重叠， 且所述平坦层的厚 度等于所述覆盖膜片的厚度。 迸一步地， 上述方案中， 所述形成平坦层的步骤是在贴附所述覆盖膜片 之前进行的， 且所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区 域相重合， 且所 述第一区域的厚度与所述覆盖膜片的厚度之和 等于所述平坦层的除所述第一 区域之外的区域的厚度。

迸一步地， 上述方案中

述拼接缝隙宽度的 3〜5倍。

迸一步地， 上述方案中: 所述覆盖膜片的厚度为 20至 30微米。

进一步地， 上述方案中 _; 所述覆盖膜片为聚乙烯醇 PVA偏光膜片 迸一步地， 上述方案中 ， 所述透明 †料优选为压敏胶。

^发明的实施例具有以— 有益效果：

上述方案中， 显示基板包括有与偏光片层不同层设置， 且覆盖多个偏光 片之间的拼接缝隙的覆盖膜片， 覆盖膜片的吸光轴方向与偏光片层的偏光片 的吸光轴方向平行， 覆盖膜片能够起到偏光作用， 这样通过覆盖膜片的保护， t问题。

图 1为现有技术中偏光片拼接处出现漏光的示意� �；

图 2为现有技术液晶显示面板的结构示意图；

图 3为本发明实施例液晶显示面板的结构示意图� �

图 4 ( a) 到 4 ( d) 为本发明实施例液晶显示面板的制作流程示意 图 附图标记

I 彩膜基板 2 阵列基板

3 液晶层 4 上偏光片

5 PYA偏光膜片 6平坦层

7下偏光片 影响液晶显示面板的显示的问题， 提供一种显示基板、 其制备方法、 及显示 装置， 能够消除拼接偏光片带来的漏光问题。

本发明实施例提供了一种显示基板， 包括偏光片层， 其特征在于， 所述偏光片层由多个偏光片拼接而成；

所述显示基板还包括覆盖膜片， 所述覆盖膜片与所述偏光片层不同层设 置， 且覆盖所述多个偏光片之间的拼接缝隙； 所述覆盖膜片的吸光轴与所述 偏光片的吸光轴方向平行。

其中，所述偏光片可以是上偏光片或下偏光片 ，例如， 当显示基板为 TFT 阵列基板时， 所述偏光片为下偏光片。 当显示基板是彩膜基板日寸， 所述偏光 片是上偏光片。

本实施例显示基板包括有与偏光片层不同层设 置， 且覆盖多个偏光片之 间的拼接缝隙的覆盖膜片， 覆盖膜片的吸光轴方向与偏光片层的偏光片的 吸 光轴方向平行， 覆盖膜片能够起到偏光作用， 这样通过覆盖膜片的保护， 能 够减小显示基板的透过率损失， 消除拼接偏光片带来的漏光问题。

其中， 所述覆盖膜片位于所述偏光片的面向所述显示 基板内部的一侧。 当显示基板为 TFT阵列基板^,所述覆盖膜片位于所述偏光片的� ��向 TFT阵 列的一侧； 当显示基板为彩膜基板^, 所述覆盖膜片位于所述偏光片的面向 彩膜的一侧。

优选地，所述覆盖膜片所在的层与所述偏光片 层相邻。当显示基板为 TFT 阵列基板时， 所述覆盖膜片所在的层可以与所述偏光片层不 相邻， 在所述覆 盖膜片所在的层和所述偏光片层之间还可以设 置有导光板或其他光学膜片， 只要覆盖膜片的位置能够遮挡住多个偏光片之 间的缝隙区域， 同样能够带来 上述的技术效果。

进一步地， 为了方便偏光片的贴 ， 所述显示基板还包括：

与所述覆盖膜片同层设置的平坦层， 所述平坦层的厚度不小于所述覆盖 膜片的厚度。

其中， 所述平坦层与所述覆盖膜片相邻接， 且所述平坦层的厚度等于所 述覆盖膜片的厚度； 或

所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区域 相重合， —且.所述第一区域 的厚度与所述覆盖膜片的厚度之和等于所述平 坦层的除所述第一区域之外的 区域的厚度。

其中， 所述覆盖膜片可以为 PYA (聚乙烯醇） 偏光膜片， 或者其他具有 偏光性能的任何材料的偏光膜片。 PVA偏光膜片就是偏光片中起偏光作用的 部分， 是将具有偏光作用的碘系材料附着于 PVA膜材后进行拉伸制得的。 由 于 偏光膜片能够起到偏光作用， 这样通过 PVA偏光膜片的保护， 能够 减小显示面板的透过率损失， 消除拼接偏光片带来的漏光问题。

其中， 所述覆盖膜片沿所述拼接缝隙方向的宽度优选 为所述拼接缝隙宽 度的 3〜5倍。 所述覆盖膜片的厚度优选可以为 20至 30微米； 在实际中覆盖 膜片的宽度的范围和厚度范围可根据需要来选 定。

所述平坦层可以由透明绝缘材料形成，所述透 明绝缘材料优选为压敏胶。 本发明实施例还提供了一种显示装置， 包括如上所述的显示基板。其中， 显示基板的结构以及工作原理同上述实施例， 在此不再赘述。 另外， 显示装 置其他部分的结构可以参考现有技术， 对此本文不再详细描述。 该显示装置 可以为： 电子纸、 液晶电视、 液晶显示器、 数码相框、 手机、 平板电脑等具 有任何显示功能的产品或部件。

本发明实施例还提供了一种上述显示基板的制 备方法， 包括：

包括在待贴附偏光片的基板上贴^偏光片层的� �骤； 其中所述偏光片层 由多个偏光片拼接而成； 所述在待贴^偏光片的基板上贴^偏光片层的步� �� 包括：

在所述待贴附偏光片的基板上贴^覆盖膜片， 所述覆盖膜片所在的区域 覆盖将要贴 ^的所述多个偏光片的拼接缝隙的区域， 且所述覆盖膜片的吸光 轴与所述偏光片的吸光轴方向平行；

贴^所述多个偏光片， 拼接构成所述偏光片层， 拼接缝隙的区域不超出 所述覆盖膜片所占的区域。

其中， 所述显示基板可以为 TFT阵列基板或彩膜基板， 所述偏光片可以 是上偏光片或下偏光片， 当显示基板为 TFT阵列基板时， 所述偏光片为下偏 光片， 当显示基板是彩膜基板时， 所述偏光片是上偏光片。

本实施例显示基板包括有与偏光片层不同层设 置， 且覆盖多个偏光片之 间的拼接缝隙的覆盖膜片， 覆盖膜片的吸光轴方向与偏光片层的偏光片的 吸 光轴方向平行， 覆盖膜片能够起到偏光作用， 这样通过覆盖膜片的保护， 能 够减小显示基板的透过率损失， 消除拼接偏光片带来的漏光问题。

所述在所述待贴 偏光片的基板上贴附覆盖膜片包括：

在所述偏光片的面向所述显示基板内部的一侧 贴附覆盖膜片。

其中， 所述覆盖膜片位于所述偏光片的面向所述显示 基板内部的一侧。 当显示基板为 TFT阵列基板时，所述覆盖膜片位于所述偏光片 的面向 TFT阵 列的一侧； 当显示基板为彩膜基板时， 所述覆盖膜片位于所述偏光片的面向 彩膜的一侧。

其中， 在贴附所述多个偏光片之前， 所述方法还包括：

在未贴附偏光片的基板上形成平坦层， 所述平坦层的厚度不小于所述覆 盖膜片的厚度。

其中， 可选地， 所述形成平坦层的步骤是在贴^所述覆盖膜片� �后进行 的， 所述平坦层与所述覆盖膜片同层且不重叠， 且所述平坦层的厚度等于所 述覆盖膜片的厚度。

可选地， 形成平坦层的步骤还可以在贴^所述覆盖膜片� �前进行， 即先 形成平坦层， 在覆盖膜片的区域留出空区以待贴 Pf†覆盖膜片。

可选地，所述形成平坦层的步骤在贴附所述覆 盖膜片之前或之后进行的， 且所述平坦层的第一区域与所述覆盖膜片的区 域相重合， 且所述第一区域的 厚度与所述覆盖膜片的厚度之和等于所述平坦 层的除所述第一区域之外的区 域的厚度。

其中， 所述覆盖膜片可以为 FVA偏光膜片， 或者其他具有偏光性能的任 何材料的偏光膜片。 PVA偏光膜片就是偏光片中起偏光作用的部分， 是将具 有偏光作用的碘系材料^着于 P A膜材后进行拉伸制得的。 由于 PVA偏光 膜片能够起到偏光作 ^， 这样通过 PVA偏光膜片的保护， 能够减小显示面板 的透过率损失， 消除拼接偏光片带来的漏光问题。

其中， 所述覆盖膜片沿所述拼接缝隙方向的宽度优选 为所述拼接缝隙宽 度的 3〜5信。 所述覆盖膜片的厚度优选为 20至 30微米； 在实际中覆盖膜片 的宽度的范围和厚度范围可根据需要来选定。 采用透明绝缘材料形成所述平坦层， 所述透明绝缘材料优选为压敏胶。 下面结合具体的实施例对本发明的显示基板及 显示装置进行介绍： 如图 2所示， 现有的液晶显示面板包括彩膜基板 1， 阵列基板 2， 位于彩 膜基板 1和阵列基板 2之间的液晶层 3， 贴附在彩膜基板 1的基板上的上偏 光片 4， 贴附在阵列基板 2的基板上的下偏光片结构， 其中下偏光片结构由 多个下偏光片 7拼接而成。 然而由于偏光片裁切和贴附精度的限制， 下偏光 片并不能实现完美的拼接， 在拼接处会存在漏光等问题， 影响液晶显示面板 的显示。

为了解决上述问题， 如图 3所示， 本实施例的显示装置包括彩膜基板 1， 阵列基板 2， 位于彩膜基板 1和阵列基板 2之间的液晶层 3， 贴附在彩膜基板 i的基板上的上偏光片 4, 贴 Pf†在阵列基板 2的基板上的偏光片层， 其中偏光 片层由多个下偏光片 7拼接而成， 但在多个下偏光片 7的拼接处， 在下偏光 片 7和阵列基板 2的基板之间还贴附有 PVA偏光膜片 5 , PVA偏光膜片 5的 宽度大于拼接处狭缝的宽度， 并且 PVA偏光膜片 5的吸光轴方向与下偏光片 7的吸光轴方向平行。

进一步地， 在下偏光片 7和阵列基板 2的基板之间还形成有平坦层 6, 平坦层 6可以采用压敏胶 （PSA胶） 或其它透明绝缘材料制作， 平坦层 6的 厚度不小于 PVA偏光膜片 5的厚度。 如图 3所示， 平坦层 6可以位于下偏光 片 7和阵列基板 2的基板之间、 除 PVA偏光膜片 5以外的其它区域， 此时， 平坦层 6的厚度等于 PVA偏光膜片 5的厚度； 或者平坦层 6可以在下偏光片 7和阵列基板 2的基板之间形成整体的一层， 此时， 平坦层 6覆盖 PVA偏光 膜片 5以外区域的厚度大于 PVA偏光膜片 5的厚度。

图 4 (a) -图 4 (d) 为本实施例的显示装置的制作流程示意图， 如图 4 (a) 所示， 提供一未贴附下偏光片的阵列基板 2。

如图 4 (b)所示， 在未贴附下偏光片的阵列基板 2的基板上形成 偏 光膜片 5 , PVA偏光膜片 5设置在多个下偏光片之间的拼接处， 为了尽量减 小显示面板透过率的损失， 其宽度仅需稍微大于拼接处狭缝的宽度即可， 而 拼接处狭缝的宽度与拼接设备的贴附精度有关 ， 不同的拼接设备贴附精度不 同。 如图 4 ( c )所示， 在形成有 PVA偏光膜片 5的阵列基板 2的基板上形成 平坦层 6 , 平坦层 6的厚度不小于 PVA偏光膜片 5的厚度， 如图 4 ( c )所示， 可以在下偏光片 7和阵列基板 2的基板之间、 除 PVA偏光膜片 5以外的区域 形成平坦层 6， 此日寸， 平坦层 6的厚度等于 p 偏光膜片 5的厚度； 迸一步 地， 还可以在阵列基板 2 的基板上整体形成一层平坦层 6， 此时， 平坦层 6 覆盖 PVA偏光膜片 5以外区域的厚度大于 PVA偏光膜片 5的厚度。

具体地， 可以在贴附有 PVA偏光膜片 5的阵列基板 2的基板上涂覆一层 透明绝缘材料， 固化后进行平坦化处理即可形成平坦层 6。 所述透明绝缘材 料优选： PSA胶等。 其中， PSA胶的透光性比较好， 可以减小显示面板透过 率的损失， 因此是特别优选的。

如图 4 ( d) 所示， 在形成有平坦层 6的阵列基板 2的基板上按照现有方 式贴 Pf†多个下偏光片 7， 多个下偏光片 7拼接处的狭缝位于 PVA偏光膜片 5 的范围内， 由于 PVA偏光膜片 5能够起到偏光作 ffi , 这样通过 PVA偏光膜 片 5的保护， 能够减小显示面板的透过率损失， 消除拼接偏光片带来的漏光 问题。

以上是本发明的优选实施方式， 应当指出， 对于本技术领域的普通技术 人员来说， 在不脱离本发明原理的前提下， 还可以作出若干改进和润饰， 这 些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。