Die Erfindung betrifft Glaskeramik mit Quarz-Mischkristallphase, welche sich insbesondere zum Einsatz in der Zahnheilkunde und bevorzugt zur Herstellung von dentalen Restaurationen eignet, sowie Vorstufen zur Herstellung der Glaskeramik.

Glaskeramiken mit Quarz-Mischkristallphase sind aus dem Stand der Technik bekannt.

Die DE 25 07 131 beschreibt spezielle Magnesium-Alumino- Silikat-Glaskeramiken mit Zr02~Gehalten von 4 bis 10 Gew.-%. Aus den Glaskeramiken hergestellte Körper weisen eine heterogene Struktur auf, indem sich das Kristallgefüge der Oberflächenschicht von dem des Inneren der Körper unterscheidet. Die auf diese Weise erzeugte

Oberflächendruckspannung hat einen wesentlichen Einfluss auf die mechanischen Eigenschaften, so dass eine maschinelle Bearbeitung der Oberflächenschicht eine Beeinträchtigung der mechanischen Eigenschaften zur Folge hätte. In der Oberflächenschicht konnten Hochquarz-Mischkristalle und im Inneren der Körper Tiefquarz-Mischkristalle nachgewiesen werden .

Die JP 2000/063144 offenbart Magnesium-Alumino-Silikat-Gläser zur Herstellung von Substraten für Speichermedien, die geringe Mengen von 0 bis 10 Mol.-% an Zr0 ₂ und große Mengen an B ₂ O ₃ aufweisen .

Die GB 2 172 282 A beschreibt Magnesium-Alumino-Silikat- Glaskeramiken, die angesichts der Löslichkeitsgrenze maximal 13,0 Gew.-% Zr0 ₂ enthalten können. Die Glaskeramiken sind für mikroelektronische Anwendungen und insbesondere als Beschichtung für Substrate wie z.B. Aluminium vorgesehen und sie haben neben einer hohen Festigkeit eine geeignete Dielektrizitätskonstante im Bereich von 7 bis 10 sowie einen hohen elektrischen Widerstand.

In der Dissertation von M. Dittmer „Gläser und Glaskeramiken im System MgO-Al203-Si02 mit Zr02 als Keimbildner", Universität Jena 2011, wurde festgestellt, dass die Löslichkeitsgrenze von Zr0 ₂ in den beschriebenen MgO-Al ₂ 0 ₃ -Si0 ₂ -Glaskeramiken bei 12,7 Gew.-% liegt.

In dem Artikel von M. Dittmer und C. Rüssel in J. Biomed. Mater. Res. Part B : 10 OB : 463-470 (2012) werden Glaskeramiken mit Hochquarz- oder Tiefquarz-Mischkristallphase als Hauptkristallphase beschrieben, die maximal 12,5 Gew.-% Zr0 ₂ enthalten. Es wurde gezeigt, dass die Erhöhung des Zr0 ₂ ~Gehalts von 10,2 auf 12,5 Gew.-% Zr0 ₂ regelmäßig zu einer Verringerung der Biegefestigkeit unabhängig davon führt, bei welcher Temperatur die Bildung der Glaskeramiken aus den entsprechenden Ausgangsgläsern erfolgte. Insgesamt sind die mit diesen Glaskeramiken erzielten Festigkeiten und auch die Transluzenz nicht völlig zufriedenstellend für eine Anwendung als Dentalmaterial.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Glaskeramik bereit zu stellen, die über eine Kombination von hoher Festigkeit und guter Transluzenz verfügt. Die Glaskeramik soll weiter in einfacher Weise zu dentalen Restaurationen verarbeitbar sein und sich damit ausgezeichnet als restauratives Dentalmaterial eignen.

Diese Aufgabe wird durch die Glaskeramik mit Quarz- Mischkristallphase nach den Ansprüchen 1 bis 11 und 14 gelöst. Gegenstand der Erfindung sind ebenfalls das Ausgangsglas nach den Ansprüchen 12 bis 14, das Verfahren nach den Ansprüchen 15 bis 18 sowie die Verwendung nach den Ansprüchen 19 bis 21.

Die erfindungsgemäße Glaskeramik mit Quarz-Mischkristallphase, zeichnet sich dadurch aus, dass sie die folgenden Komponenten enthält

Komponente Gew. -%

Si0 ₂ 37, 0 bis 50,0

A1 ₂ 0 ₃ 25, 0 bis 39,0

MgO 5, 0 bis 15,0

ZrQ ₂ 13,5 bis 19, 0 Diese Glaskeramik, im Folgenden auch als „Quarz-Mischkristall- Glaskeramik" bezeichnet, zeigt überraschenderweise eine vorteilhafte Kombination von für ein restauratives Dentalmaterial wünschenswerten mechanischen und optischen Eigenschaften. Es ist zudem überraschend, dass in ihr die angegebenen hohen Mengen an Zr0 ₂ eingebaut werden können.

Mit dem Begriff "Quarz-Mischkristallphase" ist eine Kristallphase aus Si0 ₂ gemeint, bei der in das Gitter des Si0 ₂ Fremdionen oder Fremdatome entweder in Zwischengitterplätze oder in Gitterplätze eingebaut sind. Bei diesen Fremdionen oder Fremdatomen kann es sich insbesondere um AI sowie Mg, Li und/oder Zn handeln. Dabei kann AI in dem Mischkristall in der gleichen molaren Konzentration vorliegen wie Zn und Mg zusammengenommen.

Die erfindungsgemäße Quarz-Mischkristall-Glaskeramik enthält insbesondere 38,0 bis 49,0 Gew.-% und vorzugsweise 38,5 bis 48,0 Gew.-% Si0 ₂ .

Es ist weiter bevorzugt, dass die Glaskeramik 26,0 bis 38,0 und insbesondere 27,0 bis 37,0 Gew.-% AI ₂ O ₃ enthält.

Auch ist eine Glaskeramik bevorzugt, die 6,0 bis 14,0 und insbesondere 7,0 bis 13,5 Gew.-% MgO enthält.

Weiter ist eine Glaskeramik bevorzugt, die 14,0 bis 18,0 Gew.-% Zr02 enthält. In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die erfindungsgemäße Glaskeramik mindestens eine und bevorzugt alle folgenden Komponenten in den angegebenen Mengen: Komponente Gew. -%

Si0 ₂ 37, 0 bis 50,0

A1 ₂ 0 ₃ 25,0 bis 39,0

MgO 5, 0 bis 15,0

Zr0 ₂ 13,5 bis 19,0

Li ₂ 0 0 bis 1,0

Na ₂ 0 0 bis 1,0

K ₂ 0 0 bis 1,0

CaO 0 bis 2,5

SrO 0 bis 4,0

ZnO 0 bis 15,0, insbesondere 0 bis 8,0

B ₂ 0 ₃ 0 bis 1,0. Weiter ist es bevorzugt, dass die zweiwertigen Oxide CaO, SrO, MgO und ZnO sowie Mischungen davon in einer Menge von 5, 0 bis 20,0 Gew.-% in der Glaskeramik enthalten sind.

Die erfindungsgemäße Glaskeramik kann darüber hinaus noch Zusatzkomponenten enthalten, die insbesondere ausgewählt sind aus Färbemitteln und Fluoreszenzmitteln. Beispiele für Färbemittel sind Oxide von d- und f-Elementen, wie z.B. Ce02.

Es ist weiter bevorzugt, dass die erfindungsgemäße Glaskeramik die Quarz-Mischkristallphase als Hauptkristallphase enthält.

Mit dem Begriff „Hauptkristallphase" wird die Kristallphase bezeichnet, die von allen in der Glaskeramik vorhandenen Kristallphasen den höchsten Gewichtsanteil hat. Die Bestimmung der Mengen der Kristallphasen erfolgt dabei insbesondere mit der Rietveld-Methode. Ein geeignetes Verfahren zur quantitativen Analyse der Kristallphasen mittels der Rietveld-Methode ist z.B. in der Dissertation von M. Dittmer „Gläser und Glaskeramiken im System MgO-Al203-Si02 mit ZrÜ2 als Keimbildner", Universität Jena 2011, beschrieben. Die erfindungsgemäße Glaskeramik enthält vorzugsweise ebenfalls Zirkonoxid, insbesondere tetragonales Zirkonoxid, und/oder MgAl ₂ Ü ₄ als Kristallphase.

Es sind auch weitere Kristallphasen, wie insbesondere Indialit/Cordierit, Sapphirin, Mullit oder Cristobalit möglich.

Die Quarz-Mischkristallphase in der erfindungsgemäßen Glaskeramik wird üblicherweise durch eine Hochquarz- Mischkristallphase, eine Tiefquarz-Mischkristallphase oder eine Mischung dieser Kristallphasen gebildet.

In einer Ausführungsform enthält die erfindungsgemäße Glaskeramik daher Hochquarz-Mischkristallphase, Tiefquarz- Mischkristallphase oder eine Mischung dieser.

In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die Glaskeramik Hochquarz-Mischkristallphase in einer höheren Menge als Tiefquarz-Mischkristallphase und insbesondere enthält die Glaskeramik Hochquarz-Mischkristallphase als Hauptkristallphase. Die Glaskeramik dieser Ausführungsform wird im Folgenden auch als „Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik" bezeichnet.

In einer anderen bevorzugten Ausführungsform enthält die Glaskeramik Tiefquarz-Mischkristallphase in einer höheren Menge als Hochquarz-Mischkristallphase und insbesondere enthält die Glaskeramik Tiefquarz-Mischkristallphase als Hauptkristallphase. Die Glaskeramik dieser Ausführungsform wird im Folgenden auch als „Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik" bezeichnet.

Die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik zeichnet sich durch besonders gute mechanische Eigenschaften und optische Eigenschaften aus und sie kann durch Wärmebehandlung eines entsprechenden Ausgangsglases, eines entsprechenden Ausgangsglases mit Keimen oder einer entsprechenden Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik gebildet werden. Diese Materialien können daher als Vorstufen für die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik dienen.

Die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik hat eine Bruchzähigkeit, gemessen als Ki _C Wert, von insbesondere mindestens etwa 1,5, bevorzugt mindestens etwa 1,7 und besonders bevorzugt mindestens etwa 1,9 MPa ^» m ^0'5 . Dieser Wert wurde mit dem Vicker ' s-Verfahren bestimmt und mittels Evans- und Charles-Gleichung berechnet. Weiter hat die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall- Glaskeramik eine hohe biaxiale Bruchfestigkeit von insbesondere mindestens 350 MPa und bevorzugt mindestens 500 MPa und bis zu insbesondere 800 und bevorzugt bis zu 1000 MPa. Die biaxiale Bruchfestigkeit wurde gemäß ISO 6872 (2008) bestimmt.

Demgegenüber zeichnet sich die erfindungsgemäße Hochquarz- Mischkristall-Glaskeramik insbesondere durch mechanische Eigenschaften aus, die eine besonders einfache und schnelle maschinelle Bearbeitung gestatten, um die Glaskeramik z.B. in die Form einer Dentalrestauration zu bringen. Die Erfindung betrifft ebenfalls Vorstufen mit entsprechender Zusammensetzung, aus denen die erfindungsgemäße Quarz- Mischkristall-Glaskeramik, insbesondere die erfindungsgemäße Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik oder die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik, durch Wärmebehandlung hergestellt werden können. Diese Vorstufen sind ein entsprechend zusammengesetztes Ausgangsglas und ein entsprechend zusammengesetztes Ausgangsglas mit Keimen. Die Bezeichnung „entsprechender Zusammensetzung" bedeutet, dass diese Vorstufen die gleichen Komponenten in den gleichen Mengen wie die Glaskeramik enthalten, wobei die Komponenten wie bei Gläsern und Glaskeramiken üblich mit Ausnahme von Fluor als Oxide berechnet werden . Die Erfindung betrifft daher ebenfalls ein Ausgangsglas, das die Komponenten der erfindungsgemäßen Quarz-Mischkristall- Glaskeramik enthält.

Das erfindungsgemäße Ausgangsglas enthält daher als Komponenten

Komponente Gew . -%

Si0 ₂ 37, 0 bis 50,0

A1 ₂ 0 ₃ 25, 0 bis 39,0

MgO 5, 0 bis 15,0

ZrQ ₂ 13,5 bis 19, 0.

Weiter kann das Ausgangsglas auch noch andere Komponenten enthalten, wie sie oben für die erfindungsgemäße Quarz- Mischkristall-Glaskeramik angegeben sind. Es sind alle solche Ausführungsformen für die Komponenten des Ausgangsglases bevorzugt, die auch für die Komponenten der erfindungsgemäßen Quarz-Mischkristall-Glaskeramik als bevorzugt angegeben sind. Die Erfindung betrifft ebenfalls ein solches Ausgangsglas, das Keime für die Kristallisation von Quarz-Mischkristallphase enthält .

Durch Wärmebehandlung des Ausgangsglases kann zunächst das Ausgangsglas mit Keimen erzeugt werden, welches seinerseits durch weitere Wärmebehandlung in die Quarz-Mischkristall- Glaskeramik umgewandelt werden kann. Dabei kann durch die Wärmebehandlung des Ausgangsglases oder des Ausgangsglases mit Keimen zunächst die Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik erzeugt werden und die Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik kann durch weitere Wärmebehandlung in die Tiefquarz-Mischkristall- Glaskeramik umgewandelt werden. Es ist ebenfalls möglich, die Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik direkt durch

Wärmebehandlung des Ausgangsglases oder des Ausgangsglases mit Keimen zu bilden.

Die Herstellung des Ausgangsglases erfolgt insbesondere in der Weise, dass eine Mischung von geeigneten Ausgangsmaterialien, wie z.B. Carbonaten und Oxiden, bei Temperaturen von insbesondere etwa 1500 bis 1700°C für 0,5 bis 4 h geschmolzen wird. Zur Erzielung einer besonders hohen Homogenität kann die erhaltene Glasschmelze in Wasser gegossen werden, um eine Glasfritte zu bilden, und die erhaltene Fritte wird dann erneut aufgeschmolzen .

Die Schmelze kann dann in Formen, z.B. Stahl- oder Graphitformen, gegossen werden, um Rohlinge des Ausgangsglases, sogenannte Massivglasrohlinge oder monolithische Rohlinge, zu erzeugen. Üblicherweise werden diese monolithischen Rohlinge zunächst entspannt, z.B. indem sie 5 bis 30 min bei 750 bis 850 °C gehalten werden, und dann langsam auf Raumtemperatur abgekühlt .

Es ist ebenfalls möglich, die Schmelze erneut in Wasser zu geben, um eine Fritte herzustellen. Diese Fritte kann nach Mahlen und gegebenenfalls Zugabe weiterer Komponenten, wie Färbe- und Fluoreszenzmitteln, zu einem Rohling, einem sogenannten Pulverpressling, gepresst werden. Schließlich kann das Ausgangsglas auch zu einem Pulver verarbeitet werden.

Aus dem Ausgangsglas kann dann durch Wärmebehandlung das Ausgangsglas mit Keimen erzeugt werden. Dies wird auch als Keimbildungsprozess bezeichnet.

Die Erfindung ist daher ebenfalls auf ein Verfahren zur

Herstellung des Ausgangsglases mit Keimen für die

Kristallisation von Quarz-Mischkristallphase gerichtet, bei dem das Ausgangsglas einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 750 bis 870°C und insbesondere 770 bis 850 °C für eine Dauer von insbesondere 5 bis 120 min und vorzugsweise 5 bis 60 min unterworfen wird.

Aus dem Ausgangsglas mit Keimen kann dann durch Wärmebehandlung die erfindungsgemäße Quarz-Mischkristall-Glaskeramik gebildet werden .

Die Erfindung ist daher ebenfalls auf ein Verfahren zur Herstellung der Quarz-Mischkristall-Glaskeramik gerichtet, bei dem das Ausgangsglas, insbesondere das Ausgangsglas mit Keimen für die Kristallisation von Quarz-Mischkristallphase, mindestens einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 850 bis 1200°C unterworfen wird.

Das Ausgangsglas oder das Ausgangsglas mit Keimen kann z.B. in Form eines Massivglasrohlings, eines Pulverpresslings oder in Form eines Pulvers der mindestens einen Wärmebehandlung unterzogen werden.

Die im erfindungsgemäßen Verfahren durchgeführte mindestens eine Wärmebehandlung kann auch im Rahmen eines Aufsinterns erfolgen.

Die Herstellung der erfindungsgemäßen Hochquarz-Mischkristall- Glaskeramik und der erfindungsgemäßen Tiefquarz-Mischkristall- Glaskeramik erfolgt bevorzugt mittels bestimmter

Wärmebehandlungen, wie sie im Folgenden angegeben sind.

In einer besonderen Ausführungsform ist die Erfindung daher auf ein Verfahren gerichtet, bei dem

(b) das Ausgangsglas oder das Ausgangsglas mit Keimen für die Kristallisation von Quarz-Mischkristallphase, einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 850 bis 1000°C und insbesondere 890 bis 980°C für eine Dauer von insbesondere 20 bis 600 min, bevorzugt 30 bis 180 min und besonders bevorzugt 30 bis 90 min unterworfen wird, um die erfindungsgemäße Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik zu bilden .

In einer weiteren besonderen Ausführungsform ist die Erfindung daher auf ein Verfahren gerichtet, bei dem das Ausgangsglas, das Ausgangsglas mit Keimen für die Kristallisation von Quarz-Mischkristallphase oder die Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 1000 bis 1200°C und insbesondere 1050 bis 1150°C für eine Dauer von insbesondere 10 bis 240 min und vorzugsweise 30 bis 200 min unterworfen wird, um die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik zu bilden.

Durch die oben geschilderte Keimbildung und gesteuerte Kristallisation des Ausgangsglases kann in Abhängigkeit von der Zusammensetzung des Ausgangsglases und der gewählten Wärmebehandlung zur gesteuerten Kristallisation die erfindungsgemäße Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik oder die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik gebildet werden .

Es wird angenommen, dass die Quarz-Mischkristallphase der erfindungsgemäßen Glaskeramik durch den Einbau von Fremdionen in das Si02-Gitter und möglicherweise den Ersatz von zwei Si-Ionen durch zwei Al-Ionen und ein Mg-Ion erzeugt wird. Es wird weiter angenommen, dass durch Kristallisation der Ausgangsgläser bei niedrigeren Temperaturen, insbesondere 850 bis 1000°C, bevorzugt die Hochtemperatur-Modifikation des Quarz gebildet wird und diese Modifikation durch den Einbau der Fremdionen auch bei Raumtemperatur stabil ist und sich nicht in die Tieftemperatur- Modifikation umwandelt, wie es bei reinem Quarz der Fall wäre. Überdies wird angenommen, dass es durch Kristallisation bei höheren Temperaturen, insbesondere 1000 bis 1200°C, zu einer Verarmung der Quarz-Mischkristallphase an Fremdionen kommt und damit die Stabilisierung der Hochtemperatur-Modifikation vermindert wird, wodurch bei Raumtemperatur die Tieftemperatur- Modifikation des Quarzes vorliegt.

Die erfindungsgemäßen Glaskeramiken und die erfindungsgemäßen Gläser liegen insbesondere als Pulver oder Rohlinge in beliebiger Form und Größe, z.B. monolithische Rohlingen, wie Plättchen, Quader oder Zylinder, oder Pulverpresslinge, vor. In diesen Formen können sie einfach weiterverarbeitet werden, z.B. zu dentalen Restaurationen. Sie können aber auch in Form von dentalen Restaurationen, wie Inlays, Onlays, Kronen, Veneers, Schalen oder Abutments, vorliegen.

Aus den erfindungsgemäßen Glaskeramiken und den erfindungsgemäßen Gläsern können dentale Restaurationen, wie Brücken, Inlays, Onlays, Kronen, Veneers, Schalen oder Abutments, hergestellt werden. Die Erfindung betrifft daher auch deren Verwendung als Dentalmaterial und insbesondere deren Verwendung zur Herstellung dentaler Restaurationen. Dabei ist es bevorzugt, dass der Glaskeramik oder dem Glas durch maschinelle Bearbeitung die Form der gewünschten dentalen Restauration gegeben wird.

Die maschinelle Bearbeitung erfolgt üblicherweise durch materialabtragende Verfahren und insbesondere durch Fräsen und/oder Schleifen. Es ist besonders bevorzugt, dass die maschinelle Bearbeitung im Rahmen eines CAD/CAM-Verfahrens durchgeführt wird. Für die maschinelle Bearbeitung können das erfindungsgemäße Ausgangsglas, das erfindungsgemäße

Ausgangsglas mit Keimen sowie die erfindungsgemäße Quarz- Mischkristall-Glaskeramik verwendet werden. Dabei werden die erfindungsgemäßen Gläser und Glaskeramiken insbesondere in Form von Rohlingen, bevorzugt Massivrohlingen, eingesetzt. Für die maschinelle Bearbeitung wird bevorzugt die erfindungsgemäße Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik verwendet. Die erfindungsgemäße Quarz-Mischkristall-

Glaskeramik kann auch in einer noch nicht vollständig kristallisierten Form eingesetzt werden, die durch Wärmebehandlung bei niedrigerer Temperatur erzeugt wurde. Dies bietet den Vorteil, dass eine leichtere maschinelle Bearbeitung und damit der Einsatz von einfacheren Apparaten zur maschinellen Bearbeitung möglich ist. Nach der maschinellen Bearbeitung eines solchen teilkristallisierten Materials wird dieses regelmäßig einer weiteren Wärmebehandlung unterzogen, um eine weitere Kristallisation von Quarz-Mischkristallphase hervorzurufen.

Allgemein kann nach der Herstellung der gewünscht geformten dentalen Restauration, z. B. durch maschinelle Bearbeitung, diese insbesondere noch wärmebehandelt werden, um eingesetzte Vorläufer, wie Ausgangsglas, Ausgangsglas mit Keimen oder Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramik in Tiefquarz-

Mischkristall-Glaskeramik umzuwandeln oder die Kristallisation von Tiefquarz-Mischkristallphase zu steigern.

Die erfindungsgemäßen Glaskeramiken und die erfindungsgemäßen Gläser eignen sich allerdings auch als Beschichtungsmaterial von z.B. Keramiken und Glaskeramiken. Die Erfindung ist daher ebenfalls auf die Verwendung der erfindungsgemäßen Gläser oder der erfindungsgemäßen Glaskeramiken zur Beschichtung von insbesondere Keramiken und Glaskeramiken gerichtet.

Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Beschichtung von Keramiken und Glaskeramiken, bei dem erfindungsgemäße Glaskeramiken oder erfindungsgemäße Gläser auf die Keramik oder Glaskeramik aufgebracht und einer Temperatur von mindestens 950 °C ausgesetzt werden.

Dies kann insbesondere durch Aufsintern erfolgen. Beim Aufsintern wird die Glaskeramik oder das Glas in üblicher Weise, z.B. als Pulver, auf das zu beschichtende Material, wie Keramik oder Glaskeramik, aufgebracht und anschließend gesintert.

Es ist bevorzugt, dass nach Abschluss des Beschichtungsvorganges die erfindungsgemäße Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramik vorliegt, da eine solche Glaskeramik über besonders gute mechanische und optische Eigenschaften verfügt.

Aufgrund der vorstehend geschilderten Eigenschaften der erfin- dungsgemäßen Glaskeramiken und der erfindungsgemäßen Gläser eignen sich diese insbesondere zum Einsatz in der Zahnheilkunde. Gegenstand der Erfindung ist daher auch die Verwendung der erfindungsgemäßen Glaskeramiken oder der erfindungsgemäßen Gläser als Dentalmaterial und insbesondere zur Herstellung dentaler Restaurationen oder als Beschichtungsmaterial für dentale Restaurationen, wie Kronen, Brücken und Abutments.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von sie nichtbeschränkenden Beispielen näher erläutert. Beispiele

Beispiele 1 bis 14 - Zusammensetzung und Kristallphasen

Es wurden insgesamt 14 erfindungsgemäße Gläser und Glaskeramiken mit der aus Tabelle I angegebenen Zusammensetzung über Erschmelzung entsprechender Ausgangsgläser und anschließende Wärmebehandlung zur gesteuerten Keimbildung und Kristallisation hergestellt .

Die angewendeten Wärmebehandlungen zur gesteuerten Keimbildung und gesteuerten Kristallisation sind ebenfalls in Tabelle I angegeben. Dabei bedeuten

T _N und t _N Angewendete Temperatur und Zeit für

Keimbildung

T _c und t _c Angewendete Temperatur und Zeit für

Kristallisation von Hochquarz-Mischkristall- Glaskeramik

T _FC und t _F c Angewendete Temperatur und Zeit für

Kristallisation von Tiefquarz-Mischkristall- Glaskeramik

Dazu wurden zunächst die Ausgangsgläser im 100 bis 200 g Maßstab aus üblichen Rohstoffen bei 1500 bis 1700°C erschmolzen, wobei das Erschmelzen sehr gut ohne Bildung von Blasen oder Schlieren möglich war. Durch Eingießen der erschmolzenen Ausgangsgläser in Wasser wurden Glasfritten hergestellt, die zur Homogenisierung anschließend ein zweites Mal bei 1500 bis 1700°C für 0,5 bis 4 h geschmolzen wurden. Die Schmelzen der Ausgangsgläser wurden in Graphit- oder Stahlformen eingegossen, um Glasmonolithe zu erzeugen. Diese Glasmonolithe wurden entspannt und langsam auf Raumtemperatur abgekühlt.

Eine erste Wärmebehandlung der Ausgangsgläser bei einer

Temperatur von 780 bis 840 °C führte zur Bildung von

Ausgangsgläsern mit Keimen für die Kristallisation von Quarz- Mischkristallphase.

Diese keimhaltigen Ausgangsgläser kristallisierten durch eine weitere Wärmebehandlung bei 1100 bis 1130°C zu erfindungsgemäßen Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramiken, die Tiefquarz-

Mischkristallphase als Hauptkristallphase enthielten, wie durch Röntgenbeugungsuntersuchungen bei Raumtemperatur festgestellt wurde .

Im Falle der Beispiele 7 und 8 führte die Wärmebehandlung des keimhaltigen Ausgangsglases bei einer Temperatur von lediglich 895°C bzw. 950°C zur Kristallisation von Hochquarz- Mischkristall-Glaskeramik. Diese Hochquarz-Mischkristall- Glaskeramik wurde durch eine weitere Wärmebehandlung bei 1130 bzw. 1100°C in die entsprechende Tiefquarz-Mischkristall- Glaskeramik umgewandelt.

Die Gläser, Gläser mit Keimen und die als Vorstufe erzeugten Hochquarz-Mischkristall-Glaskeramiken konnten sehr gut maschinell in einem CAD/CAM-Verfahren in die Form verschiedener Dentalrestaurationen gebracht werden, die bei Bedarf noch mit einer Verblendung versehen wurden. Verschiedene Eigenschaften der erzeugten erfindungsgemäßen Tiefquarz-Mischkristall-Glaskeramiken sind ebenfalls in der Tabelle I aufgeführt. Diese Eigenschaften wurden in der Weise bestimmt, wie sie in den folgenden detaillierten Beispielen angegeben ist.

Im Folgenden sind einige Beispiele detaillierter beschrieben.

Beispiel 1

Das Glas mit der Zusammensetzung gemäß Beispiel 1 wurde aus entsprechenden Rohstoffen bei einer Temperatur von 1650°C für 2 h erschmolzen und danach durch Eingiessen in Wasser in eine Glasfritte umgewandelt. Nach dem Trocknen im Trockenschrank wurde die Glasfritte erneut bei 1650°C für 2 h aufgeschmolzen und dann in Graphit-Formen gegossen, um Glasmonolithe herzustellen. Unmittelbar nach der Entformung der heissen Glasmonolithe wurden diese für 10 min bei 810°C entspannt und anschliessend langsam auf Raumtemperatur abgekühlt.

Auf die erhaltenen Glasblöcke wurden entsprechende Halter aufgeklebt, um eine CAM-Bearbeitung mittels Sirona inLab Schleifmaschinen zu ermöglichen. Die schleifende Bearbeitung erfolgte mit diamantbeschichteten Schleifwerkzeugen. Aus den Blöcken wurden Plättchen mit einem Durchmesser von ca. 12 mm und einer Dicke von ca. 2 mm herausgeschliffen.

Die Überführung der geschliffenen Plättchen in die Tiefquarz- Mischkristall-Glaskeramik erfolgte über eine thermische Behandlung. Dabei wurden die Plättchen in einem Muffelofen der Firma Nabertherm auf eine Temperatur von 1100°C erhitzt und nach einer Haltezeit von 180 min langsam auf Raumtemperatur abgekühlt .

Ein Teil der Plättchen wurde vor der Kristallisation der Tiefquarz-Mischkristallphase, d.h. im Glaszustand oder hoch- Quarz-Mischkristall-Zustand, und ein anderer Teil nach der Kristallisation der Tiefquarz-Mischkristallphase mit

DiamantschleifScheiben auf eine Dicke von ca. 1.2 mm geschliffen und bis 0.5 ym poliert. An den auf diese Weise hergestellten und präparierten Proben wurde daraufhin die Biaxialfestigkeit gemäß ISO 6872 (2008) bestimmt. Es ergaben sich mittlere Festigkeiten von 257 MPa bei nachträglich bearbeiteten Proben und mittlere Festigkeiten von 849 MPa bei vor der Kristallisation bearbeiteten Proben.

Die Bestimmung des CR-Wertes erfolgte gemäß British Standard BS 5612 unter Verwendung eines CM-370 Od-Spektrometers (Konica- Minolta) und ergab einen Wert von 82.5. Zusätzlich wurde in gleicher Weise der CR-Wert der Glaskeramik C bestimmt, die in dem Artikel von M. Dittmer und C. Rüssel in J. Biomed. Mater. Res. Part B : 10 OB : 463-470 (2012) beschrieben ist. Der CR-Wert dieser Glaskeramik lag bei 97,7%.

Die Bestimmung der Vickers Härte und der Bruchzähigkeit Ki _c erfolgte an Plättchen mit den ungefähren Abmessungen 13 mm x 12 mm. Nach der Kristallisation wurden die Proben auf eine Dicke von ca. 2 mm geschliffen und bis 0,5 ym poliert. Anschließend erfolgten pro Probe 6 Eindrücke mit einer Belastungszeit von 30 s, einer Last von 2.5 kg bzw. einer Kraft F von 24.54 N. Im Anschluss wurden die Risslängen nach dem Eindruck von den Eckpunkten des Eindruckes bis zur Rissspitze bestimmt. Dabei wurden folgende Werte bestimmt: Vickers Härte: 10,4 GPa

Bruchzähigkeit Ki _C : 1,90 MPa -m ^1/2

Beispiel 4

Das Glas mit der Zusammensetzung gemäß Beispiel 4 wurde aus entsprechenden Rohstoffen bei einer Temperatur von 1600°C für 30 min und 1610°C für 30 min erschmolzen und danach durch Eingiessen in Wasser in eine Glasfritte umgewandelt. Nach dem Trocknen im Trockenschrank wurde die Glasfritte erneut bei 1630°C für 1 h aufgeschmolzen und dann in Graphit-Formen gegossen, um Glasmonolithe herzustellen. Unmittelbar nach der Entformung der heissen Glasmonolithe wurden diese für 10 min bei 820°C entspannt und anschliessend langsam auf Raumtemperatur abgekühlt.

Auf die erhaltenen Glasblöcke wurden entsprechende Halter aufgeklebt, um eine CAM-Bearbeitung mittels Sirona inLab Schleifmaschinen zu ermöglichen. Die schleifende Bearbeitung erfolgte mit diamantbeschichteten Schleifwerkzeugen. Aus den Blöcken wurden Plättchen mit einem Durchmesser von ca. 12 mm und einer Dicke von ca. 2 mm herausgeschliffen.

Die Überführung der geschliffenen Plättchen in die Tiefquarz- Mischkristall-Glaskeramik erfolgte über eine thermische Behandlung. Dabei wurden die Plättchen in einem Muffelofen der Firma Nabertherm auf eine Temperatur von 1100°C erhitzt und nach einer Haltezeit von 180 min langsam auf Raumtemperatur abgekühlt .

Ein Teil der Plättchen wurde vor der Kristallisation der Tiefquarz-Mischkristallphase, d.h. im Glaszustand oder hoch- Quarz-Mischkristall-Zustand, und ein anderer Teil nach der Kristallisation der Tiefquarz-Mischkristallphase mit

DiamantschleifScheiben auf eine Dicke von ca. 1,2 mm geschliffen und bis 0,5 ym poliert. An den auf diese Weise hergestellten und präparierten Proben wurde daraufhin die Biaxialfestigkeit gemäß ISO 6872 (2008) bestimmt. Es ergaben sich mittlere Festigkeiten von 393 MPa bei nachträglich bearbeiteten Proben und mittlere Festigkeiten von 825 MPa bei vor der Kristallisation bearbeiteten Proben.

Die Bestimmung des CR-Wertes erfolgte gemäß British Standard BS 5612 unter Verwendung eines CM-370 Od-Spektrometers (Konica- Minolta) und ergab einen Wert von 63,0. Die Bestimmung der Vickers Härte und der Bruchzähigkeit Ki _c erfolgte an Plättchen mit den ungefähren Abmessungen 13 mm x 12 mm. Nach der Kristallisation wurde die Probe auf eine Dicke von ca. 2 mm geschliffen und bis 0,5 ym poliert. Anschließend erfolgten pro Probe 6 Eindrücke mit einer Belastungszeit von 30 s, einer Last von 2,5 kg bzw. einer Kraft F von 24,54 N. Im Anschluss wurden die Risslängen nach dem Eindruck von den Eckpunkten des Eindruckes bis zur Rissspitze bestimmt. Dabei konnten folgende Werte erreicht werden: Vickers Härte: 10,3 GPa

Bruchzähigkeit Ki _C : 2,3 MPa -m ^1/2

Beispiel 8 Das Glas mit der Zusammensetzung gemäß Beispiel 8 wurde aus entsprechenden Rohstoffen bei einer Temperatur von 1650°C für 1 h erschmolzen und danach durch Eingiessen in Wasser in eine Glasfritte umgewandelt. Nach dem Trocknen im Trockenschrank wurde die Glasfritte erneut bei 1650°C für 1 h aufgeschmolzen und dann in Graphit-Formen gegossen, um Glasmonolithe herzustellen. Unmittelbar nach der Entformung der heissen Glasmonolithe wurden diese für 10 min bei 800°C entspannt und anschliessend langsam auf Raumtemperatur abgekühlt.

Nachdem die Blöcke auf Raumtemperatur abgekühlt waren, wurden sie in einem Ofen vom Typ Programat (Ivoclar Vivadent AG) auf eine Temperatur von 950°C geheizt und für 60 min gehalten, um die Hochquarz-Mischkristall-Phase auszuscheiden.

Auf die erhaltenen Glaskeramikblöcke wurden entsprechende Halter aufgeklebt, um eine CAM-Bearbeitung mittels Sirona inLab Schleifmaschinen zu ermöglichen. Die schleifende Bearbeitung erfolgte mit diamantbeschichteten

Schleifwerkzeugen. Aus den Blöcken wurden Plättchen mit einem Durchmesser von ca. 12 mm und einer Dicke von ca. 2 mm herausgeschliffen .

Die Überführung der geschliffenen Plättchen in die Tiefquarz- Mischkristall-Glaskeramik erfolgte über eine thermische Behandlung. Dabei wurden die Plättchen in einem Ofen vom Typ Programat (Ivoclar Vivadent AG) auf eine Temperatur von 1100°C erhitzt und nach einer Haltezeit von 60 min langsam auf Raumtemperatur abgekühlt.

Die Plättchen wurden anschließend mit DiamantschleifScheiben auf eine Dicke von ca. 1.2 mm geschliffen und bis 0.5 ym poliert. An den auf diese Weise hergestellten und präparierten Proben wurde daraufhin die Biaxialfestigkeit gemäß ISO 6872 (2008) bestimmt. Es wurden mittlere Festigkeiten von 227 MPa festgestellt .

Die Bestimmung des CR-Wertes erfolgte gemäß British Standard BS 5612 unter Verwendung eines CM-370 Od-Spektrometers (Konica- Minolta) und ergab einen Wert von 85,3.

In der folgenden Tabelle I bedeutet: hoch-Quarz-Mischkristall : Hochquarz-Mischkristallphase tief-Quarz-Mischkristall : Tiefquarz-Mischkristallphase t-ZrÜ2: tetragonales Zr0 ₂

MgAl ₂ 0 ₄ : Spinell

Tabelle I

1 2 3 4 5 6

Zusammensetzung wt.% wt.% wt.% wt% wt.% wt%

Si0 ₂ 43.4 42.7 39.2 41.1 38.5 43.2

Al ₂ 0 ₃ 30.1 29.7 33.2 34.0 36.6 30

MgO 11.9 11.7 13.1 10.7 9.6 11.9

ZnO - - - - - -

Zr0 ₂ 14.6 15.9 14.5 14.2 15.3 14.5

Li ₂ 0 - - - - - 0.4

Na ₂ 0 - - - - - -

K ₂ 0 - - - - - -

CaO - - - - - -

B ₂ 0 ₃ - - - - - -

T _a / °C 805 818 804 810 816 781

T _N / °C , t _N / min 810 , 10 820 , 10 810 , 10 820 , 10 840 , 10 780 , 10

T _c / °C , t _c / min - - - - - -

Hauptkristallphase

- - - - - - RT-XRD

Weitere

Kristallphasen

T _FC / °C , t _FC / min 1100 , 180 1100 , 180 1100 , 180 1100 , 180 1100 , 180 1100 , 180 tief-Quarz- tief-Quarz-

Hauptkristallphase tief-Quarz- tief-Quarz- tief-Quarz- tief-Quarz- Mischkristall, Mischkristall,

RT-XRD Mischkristall Mischkristall Mischkristall Mischkristall t-Zr0 ₂ , t-Zr0 ₂ ,

t-Zr0 ₂ ,

Weitere t-Zr0 ₂ , t-Zr0 ₂ , t-Zr0 ₂ , MgAI ₂ 0 ₄ ,

Kristallphasen MgAI ₂ 0 ₄ MgAI ₂ 0 ₄ ,

MgAI ₂ 0 ₄ MgAI ₂ 0 ₄ MgAI ₂ 0 ₄ Mullit

Indialit

CR-Wert 82.5 80.0 81.4 63.0 80.9 80.8

Vickers Härte /

10.4 - 10.4 10.3 - - GPa

Kc / MPa m ^/2 1.90 - 2.4 2.3 - - σ _Β / MPa (nach

Kristallisation 257 360 393 335 bearbeitet)

σ _Β / MPa (vor

Kristallisation 849 - 785 825 - 513 bearbeitet) 7 8 9 10 11 12

Zusammensetzung wt.% wt.% wt.% wt.% wt.% wt.%

Si0 ₂ 43.2 43.2 41.7 42.6 41.5 42.8

Al ₂ 0 ₃ 30.0 29.9 32.1 29.7 28.9 29.7

MgO 11.9 11.8 11.1 10.3 7.6 10.3

ZnO - - - 3 7.7 -

Zr0 ₂ 14.5 14.5 14.2 14.4 14.3 15.2

Li ₂ 0 - - - - - -

Na ₂ 0 0.4 - - - - -

K ₂ 0 - 0.6 - - - -

CaO - - - - - 2.0

B ₂ 0 ₃ - - 0.9 - - -

T _a / °C 800 796 791 796 781 801

T _N / °C , t _N / min 800 , 10 800 , 10 800 , 10 820 , 10 800 , 10 820 , 10

T _c / °C , t _c / min 895 , 60 950 , 60 - - - -

Hauptkristallphase hoch-Quarz- hoch-Quarz-

- - - - RT-XRD Mischkristall Mischkristall

Weitere

t-Zr02 t-Zr02 - - - - Kristallphasen

T _FC / °C , t _FC / min 1130 , 180 1100 , 60 1100 , 180 1100 , 180 1100 , 180 1100 , 180

Hauptkristallphase tief-Quarz- tief-Quarz- tief-Quarz- tief-Quarz- tief-Quarz- tief-Quarz-

RT-XRD Mischkristall Mischkristall Mischkristall Mischkristall Mischkristall Mischkristall t-Zr0 ₂ , t-Zr0 ₂ ,

t-Zr0 ₂ ,

t-Zr0 ₂ , Mg/ZnAI ₂ 0 ₄

Weitere t-Zr0 ₂ , MgAI ₂ 0 ₄ ,

Sapphirin, Mg/ZnAI ₂ 0 ₄ t-Zr0 ₂ ,

(Spinell/Gahnit- Kristallphasen MgAI ₂ 0 ₄ , (Spinell/Gahni MgAI ₂ 0 ₄

Indialit MgAI ₂ 0 ₄ Cristobalit, Mischkristall),

t-Mischkristall)

Mullit Cristobalit

CR 81.1 85.3 86.8 76.9 67.4 72.2

Vickers Härte /

GPa

Kc / MPa m ^/2 - - - - - - σ _Β / MPa (nach

Kristallisation 267 227

bearbeitet)

σ _Β / MPa (vor

Kristallisation 635 - - 772 - - bearbeitet)