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Title:
MEMORY MEDIUM COMPRISING A PIXEL-BY-PIXEL WRITTEN LITHOGRAPH
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2008/092555
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a memory medium (1) comprising an optically changeable memory layer. A lithograph (2) is inscribed into said memory layer, pixel-by-pixel, each time with a hologram, by an energy supply. The form and/or shape of the exposure pixels (3) is different and the lithograph has a security structure which can not be seen at a first viewing angle and can be seen at a second viewing angle.

Inventors:
BORGSMUELLER STEFAN (DE)
THOMANN ROBERT (DE)
Application Number:
PCT/EP2008/000221
Publication Date:
August 07, 2008
Filing Date:
January 14, 2008
Export Citation:
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Assignee:
TESA SCRIBOS GMBH (DE)
BORGSMUELLER STEFAN (DE)
THOMANN ROBERT (DE)
International Classes:
G03H1/08; G02B5/18; G03F7/20; G03H1/30
Domestic Patent References:
WO2002084404A12002-10-24
Foreign References:
US20040247874A12004-12-09
US6583933B22003-06-24
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Claims:

Patentansprüche

1. Speichermedium mit einer optisch veränderbaren Speicherschicht, wobei in die Speicherschicht ein Lithogramm (2) jedenfalls mit einem Hologramm durch einen Energieeintrag punktweise eingeschrieben ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Form und/oder Ausprägung der Belichtungspunkte (3) variiert ist und dass das Lithogramm (2) eine Sicherheitsstruktur aufweist, die unter einem ersten Betrachtungswinkel nicht erkennbar und unter einem zweiten Betrachtungswinkel erkennbar ist.

2. Speichermedium nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Lithogramm (2) mindestens zwei Bereiche (A, B) aufweist, innerhalb derer die Form und Ausprägung der Belichtungspunkte (3) jeweils im Wesentlichen konstant ist.

3. Speichermedium nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Belichtungspunkte (3) elliptisch ausgebildet sind.

4. Speichermedium nach Anspruch 2 und Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die elliptischen Belichtungspunkte (3) der beiden Bereiche (A, B) mit ihren Hauptachsen in einem Winkel, vorzugsweise von etwa 90°, zueinander angeordnet sind.

5. Speichermedium nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sicherheitsstruktur in das Hologramm integriert ist.

6. Speichermedium nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass unter dem ersten Betrachtungswinkel das Hologramm auslesbar ist.

7. Speichermedium nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Betrachtungswinkel im Wesentlichen der ersten Beugungsordnung entspricht.

8. Speichermedium nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Sicherheitsstruktur unter einem dritten Betrachtungswinkel invertiert erkennbar ist.

9. Speichermedium nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Betrachtungswinkel zwischen etwa 25° und etwa 65°, vorzugsweise zwischen etwa 30° und etwa 50° relativ zur senkrechten Betrachtung beträgt.

10. Speichermedium nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der dritte Betrachtungswinkel zwischen etwa 40° und etwa 80°, vorzugsweise zwischen etwa 45° und etwa 65° relativ zur senkrechten Betrachtung beträgt.

11. Verfahren zum Einschreiben eines Lithogramms (2) in ein Speichermedium (1), insbesondere gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, bei dem ein Schreibstrahl über das Speichermedium (1) geführt wird, bei dem punktweise Energie in das Speichermedium (1) eingebracht und so das Lithogramm (2) punktweise in das Speichermedium (1) eingeschrieben wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Form und/oder die Ausprägung der einzelnen Belichtungspunkte (3) gezielt variiert wird und dass in das Lithogramm (2) eine Sicherheitsstruktur eingebracht wird, die unter einem ersten Betrachtungswinkel nicht erkennbar und unter einem zweiten Betrachtungswinkel erkennbar ist.

12. Verfahren nach Anspruch 11 , dadurch gekennzeichnet, dass die Belichtungspunkte (3) innerhalb eines Bereichs (A, B) des Lithogramms (2) mit im Wesentlichen konstanter Form und Ausprägung eingeschrieben werden und dass mindestens zwei Bereiche (A, B) mit in Form und/oder Ausprägung veränderten Belichtungspunkten (3) in das Speichermedium (1) eingeschrieben werden.

13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass elliptische Belichtungspunkte (3) in das Speichermedium (1) eingeschrieben werden.

14. Verfahren nach Anspruch 12 und Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die elliptischen Belichtungspunkte (3) in den zwei Bereichen (A, B) beim Einschreiben mit ihren Hauptachsen in einem Winkel, vorzugsweise von etwa 90°, zueinander angeordnet werden.

15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Sicherheitsstruktur in das Hologramm integriert wird.

Description:

SPEICHERMEDIUM MIT EINEM PUNKTWEISE GESCHRIEBENEN LITHOGRAMM

Die Erfindung betrifft ein Speichermedium mit einer optisch veränderbaren Speicherschicht sowie ein Verfahren zum Einschreiben eines Lithogramms in ein Speichermedium.

Aus dem Stand der Technik sind Speichermedien bekannt, die eine optisch veränderbare Speicherschicht aufweisen, in die also durch änderung einer optischen Eigenschaft der Speicherschicht Information eingeschrieben werden kann. Dabei kann beispielsweise eine änderung der Reflektivität, der Transmission, der Absorption, des Streuverhaltens, eine änderung der Phase des reflektierten Lichtes oder eine Kombination dieser Effekte ausgenutzt werden. Das Einschreiben der Information in die Speicherschicht erfolgt üblicherweise mittels eines Schreibstrahls, wodurch es möglich ist, Information individuell in das Speichermedium einzuschreiben. Als Information können beispielsweise Daten, Logos, Produktkennzeichnungen, (computergenerierte) Hologramme, Mikrobilder, Mikroschriften aber auch Lithogramme in die Speicherschicht eingeschrieben werden. Als Lithogramm wird eine optische Struktur bezeichnet, die jedenfalls ein Hologramm, insbesondere ein computergeneriertes Hologramm, aufweist, bevorzugt aber weitere (Sicherheits-)Merkmale wie Logos, Seriennummern, Farbeffekte beispielsweise in Form von Mikrobildern oder Mikroschrift enthält.

Computergenerierte Hologramme bestehen aus einer oder mehreren Schichten von Punktematrizen beziehungsweise Punkteverteilungen, die bei einer Beleuchtung mit einem vorzugsweise kohärenten Lichtstrahl zu einer Rekonstruktion der in dem Hologramm einkodierten Information führen. Anstelle des Einbringens einer Punkteverteilung kann dies auch als linienartige Struktur erfolgen, bei der die übergänge der einzelnen Punkt ineinander fließend sind. Mit dem menschlichen Auge erscheint die Struktur daher linienartig. Im Folgenden wird unter dem Begriff der Punktverteilung auch eine derartige Linienstruktur verstanden. Die Punkteverteilung kann dabei beispielsweise

als Amplitudenhologramm, Phasenhologramm oder als Kinoform-, Fresnel- oder Fourier- Hologramm berechnet sein. Zur Herstellung von computergenerierten Hologrammen werden diese zuerst berechnet und anschließend mit einer geeigneten Schreibvorrichtung durch punktweises Einbringen von Energie in ein Speichermedium eingeschrieben. Die Auflösung der dabei entstehenden Punktematrix kann im Bereich bis unterhalb von 1 μm liegen. Somit können auf engem Raum Hologramme mit einer hohen Auflösung geschrieben werden, deren Information erst durch Beleuchten mit einem Lichtstrahl und Rekonstruieren des Beugungsbildes ausgelesen werden kann. Die Größe der Hologramme kann dabei zwischen weniger als 1 mm 2 und mehreren cm 2 betragen.

Ein großer Vorteil der computergenerierten Hologramme liegt darin, dass jedes Hologramm ohne großen Aufwand individuell berechnet werden kann. Somit können in Serie Hologramme erzeugt werden, die beispielsweise fortlaufende Nummern oder Produktionsparameter beinhalten. Derartige Hologramme können daher insbesondere als Sicherheitsmerkmale oder in der Logistik zur Produktverfolgung auf Verpackungen, Kreditkarten, Eintrittskarten oder ähnlichem eingesetzt werden. Mit einer geeigneten Auslesevorrichtung können die Sicherheitsmerkmale des Hologramms ausgelesen und die Authentizität und Individualität des Sicherheitsmerkmals kann in einfacher Weise überprüft werden.

Aus dem Stand der Technik sind des weiteren eine Mehrzahl von Schreibvorrichtungen zum Schreiben von computergenerierten Hologrammen bekannt, die in die Speicherschicht eines Speichermediums die optischen Strukturen der Hologramme einschreiben (WO 02/079881 , WO 03/012549). Derartige Schreibvorrichtungen werden auch als Laserlithographen oder als lithographische Systeme bezeichnet.

Ebenso sind eine Mehrzahl von Lesevorrichtungen bekannt, die geeignet sind, durch Beleuchten der Hologrammfläche mittels eines Lichtstrahls und einer geeigneten Optik die Rekonstruktion sichtbar oder mittels Aufnahmemitteln elektronisch darstellbar und auswertbar zu machen (DE 101 37 832, WO 2005/111913).

Bei Speichermedien besteht häufig Unsicherheit darüber, ob die auf dem Speichermedium gespeicherte Information der Originalinformation entspricht und/oder ob es sich bei dem Speichermedium um ein originales Speichermedium handelt. Weder eine

Manipulation der Information noch eine Kopie des Speichermediums kann ohne weiteres erkannt werden.

Es ist daher bekannt als Sicherheitsmerkmale Strukturen zu verwenden, die sichtbares Licht beugen, wie z.B. Hologramme. Die Fälschung derartiger Sicherheitsmerkmale erfordert einen erheblichen technischen Aufwand, da die Strukturgrößen im Bereich der optischen Wellenlänge liegen. Derartige Strukturen sind meist als reflektierende Strukturen realisiert. Sie können aber auch als transmittiv beobachtbare/auslesbare Strukturen realisiert sein.

Zur Erhöhung der Sicherheit von Kreditkarten werden diese mit Hologrammen versehen, die einen Kippeffekt aufweisen, d.h. unter unterschiedlichen Betrachtungswinkeln einen Farbeffekt hervorrufen. Diese Hologramme werden in das Speichermedium eingeprest, eine individuelle Gestaltung ist dabei nicht vorgesehen.

Der vorliegenden Erfindung liegt das Problem zugrunde, ein Speichermedium mit einem individuell gestaltbaren Lithogramm anzugeben, das einen erhöhten Manipulationsschutz gewährleistet. Ferner soll ein Verfahren angegeben werden, um ein derartiges Lithogramm in ein Speichermedium einzubringen.

Die Erfindung löst das zuvor erläuterte Problem bei einem Speichermedium mit den Merkmalen des Oberbegriffs von Anspruch 1 durch die Merkmale des kennzeichnenden Teils von Anspruch 1. Eine nebengeordnete Lösung stellt ein Verfahren gemäß Anspruch 11 bereit. Bevorzugte Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind Gegenstand der jeweiligen Unteransprüche.

Die Lösung des Problems wird nach der Erfindung dadurch erreicht, dass die Form, beispielsweise die äußere Gestalt, und/oder die Ausprägung, beispielsweise die Intensität, der Belichtungspunkte des Lithogramms gezielt variiert ist. Durch eine solche gezielte Variation wird eine Sicherheitsstruktur in das Lithogramm zusätzlich zu dem bereits vorhandenen Hologramm eingebracht. Diese Sicherheitsstruktur ist unter einem ersten Betrachtungswinkel, unter dem üblicherweise gespeicherte Information ausgelesen wird, nicht erkennbar, wohl aber unter einem zweiten Betrachtungswinkel. Erkennbar wird die Sicherheitsstruktur beispielsweise durch eine (bereichsweise) Farbänderung bis hin zu keiner sichtbaren Intensität in einem Bereich oder eine

Invertierung des Erscheinungsbildes. In dem Winkelbereich zwischen erstem und zweitem Betrachtungswinkel wird die Sicherheitsstruktur mit zunehmendem Winkel immer deutlicher erkennbar.

Für die erfindungsgemäße Sicherheitsstruktur wird der physikalische Effekt der Beugung an den Belichtungspunkten des Lithogramms genutzt. Aufgrund der überlagerung der an verschiedenen Belichtungspunkten gebeugten Wellen ist für die zu beobachtende Intensität nur die Einhüllende dieser Wellen maßgeblich. Deren Intensität verändert sich mit zunehmendem Winkel von der nullten Beugungsordnung und nimmt ausgehend von der nullten Beugungsordnung zunächst ab. Dieser Effekt wird als Randwertabfall bezeichnet. Die Ausprägung des Randwertabfalls ist von der Form und Ausprägung der Belichtungspunkte abhängig. Dabei gilt, dass je kleiner die Punktgröße ist, desto „geringer" ist der Randwertabfall; der Nulldurchgang des Verlaufs der Einhüllenden verschiebt sich also zu größeren Winkeln. Der Erfindung liegt daher die Idee zugrunde durch eine gezielte Steuerung der Form und/oder Ausprägung der Belichtungspunkte einen variierenden Randwertabfall zu generieren und dadurch eine zusätzliche Sicherheitsstruktur in das Lithogramm einzubringen, die nur unter bestimmten Betrachtungswinkeln erkennbar ist. Die Variation der Punktausprägung ist beispielsweise durch die Beleuchtungsintensität des einzelnen Belichtungspunktes beim Schreibvorgang steuerbar.

Durch die vorliegende Erfindung wird eine Möglichkeit bereitgestellt, bei individuellen Lithogrammen eine änderung des Erscheinungsbildes bei verändertem Betrachtungswinkel hervorzurufen. Die änderung des Erscheinungsbildes kann beispielsweise darin liegen, dass einzelne Bereiche des Lithogramms bei geändertem Betrachtungswinkel farblich verändert oder gar nicht mehr erkennbar sind. In letzterem Fall ist also die Intensität der Einhüllenden des reflektierten oder transmittierten Lichtes bei dem jeweiligen Betrachtungswinkel im Idealfall Null. Durch die änderung des Erscheinungsbildes kann in dem Lithogramm insgesamt eine zusätzliche Struktur, beispielsweise in Form eines Logos oder einer Buchstaben-/Zahlenkombination oder dergleichen, sichtbar werden.

Das Einbringen einer derartigen Sicherheitsstruktur war bei individuell mittels eines

Schreibstrahls eingeschriebenen Lithogrammen bisher nicht möglich, da eine solche zusätzliche Sicherheitsstruktur einen sehr genau kontrollierten Belichtungsprozess

erfordert. Die Kontrolle des Belichtungsprozesses mit der notwendigen Genauigkeit ist mit einem Laserlithographen gemäß der DE 10 2006 015 609 realisierbar, deren Offenbarungsgehalt hier vollumfänglich eingeschlossen wird. Die hohen Anforderungen an die Kontrolle des Belichtungsprozesses dienen einer erhöhten Sicherheit des Speichermediums, da dieses nicht beliebig kopierbar ist. Die Kontrolle des Belichtungsprozesses erfordert Genauigkeiten im Sub-μm-Bereich.

In bevorzugter Ausgestaltung weist das Lithogramm mindestens zwei Bereiche auf, innerhalb derer die Form und Ausprägung der Belichtungspunkte jeweils im Wesentlichen konstant ist. Die Form und Ausprägung der Belichtungspunkte eines der beiden Bereiche unterscheidet sich jedoch von der Form und Ausprägung der Belichtungspunkte des anderen Bereiches. Für die beiden Bereiche wird dabei ein unterschiedlicher Randwertabfall erzielt, so dass die Einhüllende eines der beiden Bereiche mit zunehmendem Betrachtungswinkel zunächst schneller abfällt als die Einhüllende des anderen Bereichs. In bevorzugter Ausgestaltung erreicht die Einhüllende eines Bereichs bei einem durch die Belichtungspunkte definierten Betrachtungswinkel bereits eine Nullstelle, d. h. dieser Bereich ist nicht mehr erkennbar oder erscheint dunkler, während die Einhüllende des anderen Bereichs bei demselben Betrachtungswinkel noch keine Nullstelle erreicht hat, d.h. der Bereich auch weiterhin erkennbar ist bzw. heller erscheint. Mit weiter zunehmendem Betrachtungswinkel invertiert sich dieser Effekt. Je nach Betrachtungswinkel ist somit nur einer der beiden Bereiche zu erkennen, da die Intensität der beugenden Struktur in dem anderen Bereich eine Nullstelle aufweist. Bei einem Winkel nahe der nullten Beugungsordnung hingegen sind beide Bereiche mit im Wesentlichen der gleichen Intensität sichtbar, die Sicherheitsstruktur ist für den Betrachter unter diesem Winkel folglich nicht zu sehen.

In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung sind die Belichtungspunkte in dem Lithogramm jeweils elliptisch ausgebildet. Die elliptische Ausgestaltung ermöglicht insbesondere ein neutrales Intensitätsbild in Transmission, da die belichtete Fläche trotz unterschiedlichen Randwertabfalls für derartige Belichtungspunkte identisch sein kann. Die Sicherheitsstruktur ist dann in Transmission, also bei nicht beugender Betrachtung, nicht erkennbar. Durch die elliptische Ausgestaltung wird zudem der Effekt erzielt, dass durch eine Drehung des Lithogramms in der Ebene der Verlauf des Randwertabfalls verändert wird. Bei einer Drehung um etwa 90° invertiert sich das zu beobachtende Bild infolge dessen.

Vorzugsweise sind die Belichtungspunkte in zwei Bereichen des Lithogramms elliptisch ausgebildet und innerhalb der jeweiligen Bereiche im Wesentlichen konstant. Die

Hauptachsen der elliptischen Belichtungspunkte der beiden Bereiche weisen dabei einen Winkel, vorzugsweise von etwa 90°, zueinander auf. Dies hat zur Folge, das, wie bereits zuvor erläutert, die Sicherheitsstruktur bei nicht beugender Betrachtung nicht erkennbar ist, durch eine entsprechende Anordnung der beiden Bereiche jedoch praktisch jedes beliebige Muster als Sicherheitsstruktur erzielt werden kann. Zudem ist die Erzeugung reproduzierbarer elliptischer Belichtungspunkte mit dem Laserlithographen gemäß der DE 10 2006 015 609 besonders gut realisierbar.

Weiter vorteilhaft ist es, wenn die Sicherheitsstruktur in das Hologramm integriert ist. Das Hologramm vereint dann mehrere Sicherheitsmerkmale, wodurch eine Nachahmung und Fälschung weiter erschwert wird. In bevorzugter Ausgestaltung ist dabei unter dem ersten Betrachtungswinkel das Hologramm mit einer entsprechenden Lesevorrichtung auslesbar. Unter dem zweiten Betrachtungswinkel ist die zusätzliche Sicherheitsstruktur insbesondere auch ohne eine solche Lesevorrichtung erkennbar.

Weiter bevorzugt ist es, dass der erste Betrachtungswinkel im Wesentlichen senkrechter Betrachtung, also etwa 0° bezogen auf die Senkrechte zur Speicherebene, entspricht. Die Betrachtung des Hologramms erfolgt also in Transmission oder Reflektion.

Ferner kann vorgesehen sein, dass die Sicherheitsstruktur nicht nur unter dem zweiten Betrachtungswinkel erkennbar ist, sondern auch unter einem dritten Betrachtungswinkel. Unter diesem Betrachtungswinkel ist die Sicherheitsstruktur gegenüber der Betrachtung unter dem zweiten Betrachtungswinkel invertiert.

In weiter bevorzugter Ausgestaltung ist unter dem zweiten Betrachtungswinkel einer der beiden Bereiche unsichtbar, d.h. es wird keine Intensität reflektiert beziehungsweise transmittiert, und unter einem dritten Betrachtungswinkel ist der zweite Bereich unsichtbar oder erscheint dunkler, der erste Bereich jedoch wieder sichtbar bzw. erscheint heller. Bei der Ausgestaltung der Sicherheitsstruktur als Hologramm ist also unter einem ersten Betrachtungswinkel das Hologramm auslesbar, unter einem zweiten Betrachtungswinkel ein Bereich sichtbar, der andere hingegen nicht, und unter einem dritten Betrachtungswinkel der zweite Bereich sichtbar, der erste hingegen nicht.

Als erster Betrachtungswinkel eignet sich insbesondere der Winkel, der der ersten Beugungsordnung entspricht. Die Betrachtung kann beispielsweise aber auch bei senkrechtem Lichteinfall als senkrechte Betrachtung oder bei schrägem Lichteinfall unter dem jeweiligen Reflexionswinkel erfolgen. Der zweite Betrachtungswinkel liegt in bevorzugter Ausgestaltung im Bereich von etwa 25° bis etwa 65°, vorzugsweise zwischen etwa 30° und etwa 50°. Sofern nur der zweite Betrachtungswinkel vorgesehen ist, um die Sicherheitsstruktur zu erkennen/auszulesen wird der zweite Betrachtungswinkel vorzugsweise etwas größer, d.h. zwischen etwa 40° und etwa 65 c gewählt. Sofern ein zweiter und ein dritter Betrachtungswinkel vorgesehen sind, wird der zweite Betrachtungswinkel bevorzugt etwas kleiner gewählt, d.h. zwischen etwa 25° und etwa 40°. Der dritte Betrachtungswinkel liegt dann vorzugsweise im Bereich von etwa 40° bis etwa 80°, weiter vorzugsweise zwischen etwa 40° und etwa 65°.

Eine nebengeordnete Lösung stellt ein Verfahren zum Einschreiben eines Lithogramms in ein Speichermedium gemäß Anspruch 11 dar. Bei diesem Verfahren ist wesentlich, dass das Lithogramm punktweise, worunter hier ebenfalls auch ein linienartiges Einschreiben verstanden wird, in das Speichermedium eingeschrieben wird, beispielsweise mittels eines Laserlithographen gemäß der DE 10 2006 015 609. Die Einbringung der Belichtungspunkte erfolgt reproduzierbar, d.h. mehrere Belichtungspunkte können mit im Wesentlichen gleicher Form und Ausprägung in das Speichermedium eingeschrieben werden. Bei den erfindungsgemäßen Verfahren werden die Belichtungspunkte hinsichtlich ihrer Form und/oder Ausprägung gezielt variiert. Die Variation der Belichtungspunkte erfolgt dabei so, dass die Anordnung dieser Belichtungspunkte eine Sicherheitsstruktur darstellt, die unter einem ersten Betrachtungswinkel nicht erkennbar ist, wohl aber unter einem zweiten Betrachtungswinkel. Durch diese zusätzliche Sicherheitsstruktur in dem Lithogramm wird die Fälschung eines solchen Lithogramms erschwert. Das Lithogramm selbst ist jedoch nach wie vor individuell gestaltbar, insbesondere kann auch die zusätzliche Sicherheitsstruktur auf den Inhalt des Hologramms abgestimmt sowie individuell gestaltet sein.

In bevorzugter Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens werden die

Belichtungspunkte bereichsweise mit im Wesentlichen konstanter Form und Ausprägung eingeschrieben. Zudem werden im Wesentlichen konstante Belichtungspunkte in

mindestens zwei verschiedene Bereiche eingeschrieben, wobei sich die Belichtungspunkte der unterschiedlichen Bereiche in Form und/oder Ausprägung unterscheiden. Dadurch ist es möglich, die Sicherheitsstruktur derart in das Speichermedium einzubringen, dass diese bei nicht beugender Betrachtung nicht erkennbar ist, sich bei Betrachtung unter dem zweiten Betrachtungswinkel jedoch ein verborgenes Muster in dem Lithogramm aufzweigt.

Ferner ist es bevorzugt, dass elliptische Belichtungspunkte in das Speichermedium eingeschrieben werden. Das Einschreiben elliptischer Belichtungspunkte ist verfahrenstechnisch eine relativ einfache Variante, die Form und/oder Ausprägung der einzelnen Belichtungspunkte gezielt zu variieren.

In weiter bevorzugter Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens werden die elliptischen Belichtungspunkte in den zwei Bereichen beim Einschreiben mit ihren Hauptachsen in einem Winkel, vorzugsweise von etwa 90°, zueinander angeordnet. Dadurch werden die Vorteile der elliptischen Belichtungspunkte und der zwei Bereiche, wie bereits zuvor beschrieben wurde, zusammen erzielt.

Verfahrenstechnisch ist es weiter bevorzugt, dass die Sicherheitsstruktur in das Hologramm integriert wird. Dadurch kann der Schreibvorgang verkürzt werden, da beim Einschreiben des Lithogramms mit einem Laserlithographen dieser nur über die Hologrammfläche gerastert werden muss. Zugleich erhöht die Kombination aus Hologramm und zusätzlicher Sicherheitsstruktur aber auch die Komplexität des Lithogramms, wodurch eine Nachahmung erschwert wird.

Weitere Einzelheiten, Merkmale und Ziele der Erfindung werden nachfolgend anhand einer Zeichnung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels näher erläutert. In der Zeichnung zeigt

Fig. 1 eine schematische Darstellung eines erfindungsgemäßen Speichermediums mit einzelnen Belichtungspunkten des Lithogramms,

Fig. 2 das Lithogramm aus Fig. 1 bei unterschiedlichen Betrachtungswinkeln mit zugehörigem Intensitätsdiagramm der Einhüllenden in Abhängigkeit von dem Betrachtungswinkel.

Fig. 1 zeigt ein Speichermedium (1) mit einer optisch veränderbaren Speicherschicht. In die Speicherschicht ist ein Lithogramm (2) eingebracht, hier nämlich mit einem Laserlithographen gemäß der DE 10 2006 015 609 punktweise eingeschrieben. Einzelne Belichtungspunkte (3) sind in Fig. 1 schematisch gezeigt. Bei dem Lithogramm (2) handelt es sich um ein Hologramm, wobei zusätzlich noch weitere Sicherheitsmerkmale wie Logos, Seriennummern, Farbeffekte und dergleichen vorgesehen sein können. Das Lithogramm (2) weist zudem eine Sicherheitsstruktur auf, die unter einem ersten Betrachtungswinkel nicht erkennbar ist, sondern erst bei Betrachtung unter einem zweiten Betrachtungswinkel erkennbar wird. Bei der Sicherheitsstruktur handelt es sich insofern um einen Kippeffekt, der eine änderung des Erscheinungsbildes bei verändertem Betrachtungswinkel bewirkt. Diese Sicherheitsstruktur kann aufgrund des punktweisen Einbringens des Lithogramms (2) in die Speicherschicht individuell ausgestaltet sein.

Aus Fig. 1 , 2 sind zwei unterschiedliche Bereiche A, B in dem Lithogramm ersichtlich. Beide Bereiche A, B weisen Belichtungspunkte (3) auf, die innerhalb des jeweiligen Bereichs im Wesentlichen die gleiche Form und Ausprägung aufweisen, im gezeigten Ausführungsbeispiel nämlich eine elliptische Form. Ferner ist zu sehen, dass die elliptischen Belichtungspunkte (3) des jeweiligen Bereichs A, B mit ihren Hauptachsen zu den Hauptachsen der Belichtungspunkte (3) des jeweils anderen Bereichs B, A einen Winkel von etwa 90° einnehmen. Dies hat zur Folge, dass die Sicherheitsstruktur bei einer nicht beugenden Betrachtung des Lithogramms (2), beispielsweise in Transmission, nicht erkennbar ist (Fig. 2a), da die belichtete Fläche der Belichtungspunkte (3) der beiden Bereiche A, B identisch ist.

Aufgrund der unterschiedlichen Ausgestaltung der Belichtungspunkte der beiden Bereiche A, B weist die jeweils Einhüllende bei beugender Betrachtung eine unterschiedliche Winkelabhängigkeit auf, wie in Fig. 2 dargestellt ist. Die Einhüllende des Bereichs A weist eine Winkelabhängigkeit gemäß Kurve 1 , die Einhüllende des Bereichs B eine Winkelabhängigkeit gemäß Kurve 2 in Fig. 2 auf. Aus dem jeweiligen Kurvenverlauf wird deutlich, dass zunächst ein Betrachtungsbereich existiert, in dem beide Kurven 1 , 2 im Wesentlichen die gleiche Intensität aufweisen, d.h. die beiden Bereich A, B gleichzeitig sichtbar sind (Fig. 2a). In der hier gezeigten und insofern bevorzugten Ausgestaltung entspricht dieser erste Betrachtungswinkel, bei dem idealer

Weise dieselbe Intensität aus den beiden Bereiche A, B vorliegt, einer senkrechten Betrachtung. Die Betrachtung erfolgt also in Transmission oder Reflexion.

Mit zunehmendem Betrachtungswinkel sinkt die Intensität der Einhüllenden des Bereichs B schneller als die Intensität der Einhüllenden des Bereichs A. Bei einem zweiten Betrachtungswinkel, der hier etwa 40° beträgt, ist nur noch der Bereich A sichtbar, die Intensität der Einhüllenden des Bereichs B hingegen ist auf 0 abgesunken. Bei diesem zweiten Betrachtungswinkel ist nun die Sicherheitsstruktur des Lithogramms (2) gut erkennbar (Fig. 2b). Vergrößert sich nun der Betrachtungswinkel weiter, sinkt die Intensität der Einhüllenden des Bereichs A auf 0 ab, wohingegen sich die Intensität der Einhüllenden des Bereichs B wieder erhöht. Idealer Weise sind die Form und/oder Ausprägung der Belichtungspunkte der beiden Bereiche so aufeinander abgestimmt, dass die Intensität des Bereichs B bei dem Betrachtungswinkel ein lokales Maximum aufweist, bei dem die Intensität der Einhüllenden des Bereichs A auf 0 abgesunken ist, wie dies in Fig. 2 erkennbar ist. Bei diesem dritten Betrachtungswinkel, der hier etwa 60° entspricht, ist die Sicherheitsstruktur invertiert erkennbar (Fig. 2c).